参数(修改后)
一、计算机 20台
参考品牌：thinkcentre HP Lenovo
处理器：相当于或不低于Intel Core i5-2400 3.10GHz, 6MB Cache (4/4 Core/Threads)
主板芯片组：相当于或不低于英特尔Q65芯片组
内存类型：4GB (1x4GB DDR3-1333)，最大支持16GB，主板集成4 个 DIMM 插槽
硬盘：500GB SATA 3.0Gb/秒，自带相当于 NCQ 和 Smart IV技术，提升读盘速度，有效硬盘保护数据，减震橡胶垫圈设计，延长硬盘寿命；
显卡：集成英特尔?HD显卡，必须满足主板集成双屏显示接口, 1*DP+1*VGA接口的要求
声卡：集成声卡
网卡：集成千兆网卡
键盘：标准USB鼠标、键盘
显示器：21.5"宽屏16:9LED背光液晶显示器,VGA,DVI-D(支持HDCP)接口,含DVI线缆,250nits,1000:1,3百万:1(动态对比度),5ms,1920x1080),显示器具备屏幕密码防盗软件功能，防止非法使用；具备显示器颜色调整、颜色校正和安全/资产管理功能，通过TCO 5.0、能源之星 5.0 认证、国家一级能效认证
操作系统：正版Windows XPPro 64-bit 简体中文版，含介质
机箱类型：立式机箱，免工具开启机箱，免工具维护，前置LED侦错系统告警，1键重启功能键设计（在Windows/DOS 环境下都可以重启），机箱侧面板锁眼设计，内置音箱
外置 I/O 端口: 前端：4 个 USB 2.0 端口，麦克风、耳机接口
后端：6 个 USB 2.0，PS/2 键盘和鼠标接口，音频输入、输出端口，VGA，DisplayPort 显示端口，RJ-45 网络端口，串口（可选第二个串口），1个并口，内置2个USB
扩展插槽：1个全高度PCI，2个全高度PCI Express x 1，1个全高度PCI Express x 16
网络接口：英特尔千兆以太网连接
硬盘保修服务：三年全保三年硬盘不回收
电源要求：>=320w，可支持效率为90% PLUS的主动式电源
稳定性：平均无故障运行时间大于40万小时，提供国家级证明文件
安全性：不管在开机过程中或者关机状态下如果机箱被打开，在下次重启或者开机时，系统将会停止同时显示报警文字同时伴随了5秒钟5次的beep声
软件：Microsoft Office2003中文专业版，支持多介质备份，不仅可备份在本机硬盘隐藏分区，还可选择备份于网络，移动硬盘或刻录于CD或DVD。支持计划备份，一键恢复。轻松恢复整个系统或者单个文件/文件夹；
（1）、可按军用级标准清除硬盘数据，安心报废或移交硬盘给他人，消除后顾之忧
（2）、标配安全软件套件，实现硬盘等多种加密功能，更好的保护重要数据，加强内网使用安全（3）、标配虚拟浏览器，防护网络恶意攻击，确保门户安全，只需单击“重置”，即可清除攻击并重新设置您的个性化书签和选项。
（4）、标配相应品牌帮助软件，可以轻松维护和更新系统状态及时诊断和排除故障，自动在线升级硬件驱动
保修：3年原厂免费上门服务（含显示器、鼠标、键盘等所有部件），第二个工作日上门，原厂7*24小时免费800/400技术电话支持，签订合同提供专项授权及服务承诺函，签订合同时提供原厂服务承诺文件作为合同附件。
二、商用笔记本 22台
参考品牌：thinkcentre HP sony
处理器：Intel 酷睿i5-2450M 双核处理器带（2.5GHz 可turbo超频到3.1，1333MHz，3MB 3级高速缓存 4线程 35W）
内存规格: 1*4096M DDR3-1333, 2 个支持双通道内存的插槽
硬盘：640GB
光驱：内置托盘式DVD刻录机
显示屏：13.3英寸 LED背光，宽屏16:9
显卡：双显卡切换(独立/集成)
摄像头：集成高清HD摄像头
网卡：千兆网卡
接口：1个USB3.0, 2个USB2.0，1个HDMI，1个RJ-45/以太网端口、1个Express Card/54mm插槽、支持,蓝牙3.0+HS
无线网卡：WLAN 802.11b/g/n
读卡器：多合一读卡器
电池：6芯锂电池
笔记本包、鼠标：含厂家原装笔记本包，鼠标
材料：复合材质
重量：不重于1.75kg
操作系统：预装正版Windows 7 专业版64位
随机软件：预装正版Microsoft Office 简化版2010
售后服务：全球联保，壹年整机保修，两年主要部件保修
安全：1、Kensington主机安全锁槽建设2、指纹识别器
环保认证：EPEAT 金牌/3C/CECP /SEPA
报价人必须取得厂商针对此项目所开具的加盖原厂公章的项目授权函原件,在签订合同时提供;并且在供货时出具原厂针对此项目的售后服务承诺函的原件.
三、超薄笔记本4台
参考品牌：thinkcentre macbook sony
CPU：Intel 酷睿e i7-3427U(1.8GHz/L3 3M)/
处理器类型：第三代酷睿i7
加速技术：支持Turbo Boost睿频技术，2.8GHz
内存容量：4GBDDR3
硬盘类型：SSD固态硬盘
硬盘容量：128GB
屏幕尺寸：13.3 英寸(对角线) LED 背光光面宽显示屏，支持百万色彩
显卡芯片：Intel HD 4000
显卡性能：支持DirectX 11
图形和视频支持：双屏显示与视频镜像：同时支持初始分辨率下的内置显示屏和高达2560 x 1600 像素的外接显示屏
无线通讯：802.11a/b/g无线网卡,蓝牙4.0
USB：2个USB3.0
接口：DVI 输出
内置摄像头：100万高清摄像头
键盘和触控板：可实现精准光标控制；支持惯性滚动、开合、旋转、轻扫、三指轻扫、四指轻扫、轻点、连续轻点两次和拖动操作
音频：带有低音炮的立体声扬声器
电池：63.5 瓦时内置锂聚合物电池，不低于7 小时无线上网
环保：高度可回收的铝合金机身，符合EPA ENERGY STAR 能源之星5.2 标准
重量：不重于1.35kg
保修：全国联保，享受三包服务，1年硬件维修，签订合同提供专项授权及服务承诺函，签订合同时提供原厂服务承诺文件作为合同附件。
四、不间断电源
参考品牌:APC SANTAK Emerson
工作方式：在线式
额定容量（KV A）：6kVA/480W
输入配线：单相二线+地线
转换时间（ms）：零中断
电池类型：原厂阀控式铅酸免维护蓄电池12V36AH (16节)
标称后备时间(分)：1小时
输出电压范围（V）：220*(1+/-1％)VAC
输出电压频率范围（Hz）：与输入市电同步,并且同步范围可调〔市电模式〕50*(1+/-0.1％)Hz〔电池模式〕
波形：正弦波
输入电压范围（V）：176V AC-276V AC
输入电压频率范围（Hz）(46~54)Hz
电流峰值比：3 : 1
转换时间：零中断
超载能力：105％～130％10min, 130%以上1min
通讯界面： RS-232 ＋Intelligent Slot
瞬时恢复时间：≤ 20ms
总谐波失真：100％的线性负载时≤ ±2％；100％的非线性负载时≤ ±5％
瞬时恢复时间：≤ 20ms
温度：0℃～40℃
湿度：20％～90％
外观尺寸：248*500*616
保修：5年设计寿命，保修三年，三年上门服务，按厂家规定保修（人为故障除外）
服务承诺：
1、中标供应商负责免费上门安装调试，要求质保期内软硬件免费上门服务，终身升级服务。
2、要求此批货物从厂家直接发送到用户单位，外包装有本单位名称，否则视作自动放弃中标资格处理。
3、供应商对项目的技术参数及相关条款作一一实质性响应，并详细列出响应的具体内容。未能实质性响应采购需求的，响应不规范，内容不完整，表述含糊不清、不确切、有歧义，按照不完全响应完全不响应处理；伪造变造证明材料，构成提供虚假材料的，移送监管部门查处。
4、为保证售后服务质量及效率，供应商必须在签订合同时，把原厂商出具的针对该项目的专项授权函提供给我单位进行查询确认，如未能提供，我单位将视作未能响应需求，不予选择。
VRay常用材质基本设置
VRay常用材质基本设置 一、塑料材质 1) 漫反射中设置塑料的颜色，或添加贴图 2）反射颜色（38、38、38） 3）光泽度0.7 4) 细分16 6).选项-勾选-背面反射 二、玻璃材质 1）漫反射颜色（0、0、0） 2）反射颜色（240、240、240） 3）勾选菲涅尔反射 4）折射颜色（240、240、250） 5）折射率1.55 6）勾选影响阴影 7）勾选影响Alpha 三、马赛克材质 1）漫反射通道添加贴图 2）反射颜色（39、39、39） 3）高光光泽度0.9 4）反射光泽度0.8 5）细分24 6）凹凸通道添加贴图，凹凸值设置30 四、金属漆材质 1）漫反射颜色（101、101、101） 2）反射颜色（110、110、110） 3）光泽度0.85 4）细分24 五、绿色漆材质 1）漫反射颜色（105、98、5） 2）反射颜色（240、240、240） 3）勾选菲涅尔反射 4）光泽度0.9 5）细分24 六、水果材质 1）漫反射颜色（水果的颜色，如252、139、18） 2）反射颜色（12、12、12） 3）勾选菲涅尔反射 4）细分6 5）在凹凸通道中添加烟雾贴图，凹凸值为5 6）烟雾-坐标选项-平铺（X:0.039、Y:0.039、Z:0.039），烟雾参数- 大小1.0 七、白金材质 1）漫反射颜色（140、130、110） 2）反射颜色（120、120、120） 3）光泽度0.9
八、不锈钢材质 1）漫反射颜色（128、128、128） 2）反射颜色（211、211、211） 3）反射光泽度0.8 九、布材质 1）漫反射通道添加衰减贴图 2）黑色通道添加布纹贴图 3）白色通道颜色（237、237、237） 4）衰减类型选择菲涅尔 5）反射颜色（10、10、10） 6）光泽度0.6 7）细分值16 十、水晶材质 1）漫反射颜色（255、255、255） 2）反射颜色（60、60、60） 3）勾选菲涅尔反射 4）折射颜色（215、215、215） 5）折射率2.0 6）勾选影响阴影选项 十一、奶油材质 1）漫反射颜色（245、245、245） 2）反射颜色（20、20、20） 3）光泽度0.8 4）细分值24 5）在反射光泽和凹凸通道中添加细胞贴图值分别为100、20 6）分别设置细胞特征中大小为200 十二、啤酒材质 1）漫反射颜色（255、185、94） 2）反射颜色（208、208、208） 3）勾选菲涅尔反射 4）折射颜色（255、158、109） 5）折射率1.39 6）勾选影响阴影 7）勾选影响Alpha 8）烟雾倍增0.1 十三、烤漆材质 1）设置漫反射的颜色（24、163、77） 2）反射（92、92、92） 3）光泽度0.85 4）细分16 十四、黑色钢琴漆材质 1）漫反射颜色（10、10、10） 2）反射颜色（192、192、192） 3）勾选菲尼尔反射
PLL设计关键基础及基本参数确定方法
PLL设计关键基础因素 锁相环的瞬态特性通常是一个非线性过程，并且不能够简单的用式子来表示。但是当环路带宽不大于参考时钟频率的1／10时，离散模型可以用连续时间模型(s域)较好地近似。 PLL在锁定状态下的包括每一个模块的传递函数的线性模型，以下理论中所有的公式都是没有分频电路（N）的基础上进行的分析。 如下图所示， 这个模型是用来证明总的相位特性的传递函数。因此，PD可以表示成一个减法器。 假设LPF的电压传递函数为。PLL的开环传递函数为： 闭环传递函数为： 假设低通滤波器为一个最简单的一阶无源滤波器，如下图所示
那么LPF的电压传递函数为为 其中，带入LPF传递函数得 这是一个二阶系统，一个极点是vco提供的，另外一个极点是由LPF提供的。 为环路增益，单位为rad／s。 为了方便分析PLL的动态特性，将PLL闭环传输函数的分母化为二阶函数形式： 其中为衰减因子，为系统的自然振荡频率。 则公式最终化为： 其中
自然频率是低通滤波器的-3dB带宽和环路增益的几何平均值，从近似的角度来看，可以认为是环路的增益带宽积。 进行波特图分析时（开环分析闭环），开环传输函数的单位增益带宽为 相位裕度为： 在一个好的二阶系统中，通常大于0．5，最好使其等于0.707，这样有一个优化的频率响应。 PLL闭环传输函数化为二阶函数形式得：如果输入偏差相位变化慢，则输出相位偏差能够跟上其变化：如果输入相位偏差变化快，输出相位偏差变化会比输入小。 定义“输入／输出相位差传递函数(phase error transfer function)”为： 则 为了更好的分析信号的传输特性，我们假设输入的信号相位有一个阶跃，则最终系统稳定下来后，输出信号的相位变化为
Vray常用材质参数
常用vray材质参数： 1、亮光木材：漫射：贴图反射：35灰高光：0.8 亚光木材：漫射：贴图反射：35灰高光：0.8 光泽（模糊）：0.85 2、镜面不锈钢：漫射：黑色反射：255灰 亚面不锈钢：漫射：黑色反射：200灰光泽（模糊）：0.8 拉丝不锈钢：漫射：黑色反射：衰减贴图（黑色部分贴图）光泽（模糊）：0.8 3、陶器：漫射：白色反射：255 菲涅耳 4、亚面石材：漫射：贴图反射：100灰高光：0.5 光泽（模糊）：0.85 凹凸贴图 5、抛光砖：漫射：平铺贴图反射：255 高光：0.8 光泽（模糊）：0.98菲涅耳普通地砖：漫射：平铺贴图缝隙0.2 反射：255 高光：0.8光泽（模糊）：0.9 菲涅耳 6、木地板：漫射：平铺贴图缝隙0.01 反射：70 光泽（模糊）：0.9 凹凸贴图 7、清玻璃：漫射：255 反射：灰色/白色折射255 折射率1.5 【“菲涅耳”全开】。（有色玻璃在“烟雾颜色”处调整颜色，并开启“影响阴影”，烟雾倍增调至0.6 ） 磨砂玻璃：漫射：灰色反射：255 高光：0.8 光泽（模糊）：0.9 折射255 光泽（模糊）：0.9 光折射率：1.5 8、普通布料：漫射：贴图凹凸贴图(根据实际情况加UVP贴图）。 绒布:：漫射：衰减贴图置换贴图(根据实际情况加UVP贴图）。 地毯：1500X2000 VR置换模式2D贴图数量50 把置换的贴图拉到材质球上，平铺4 X 4。把地毯贴图赋予地毯。 9、皮革：漫射：贴图反射：50 高光：0.6 光泽（模糊）：0.8 凹凸贴图100 (UVP 贴图）。贴图：“漫射”去掉。漫射：漫射可以更改颜色。 10、水材质:漫射：黑色反射：255 衰减贴图菲涅耳折射：255 折射率：1.33 烟雾颜色：浅青色，烟雾倍增：0.05左右凹凸：20 贴图：澡波（350） 11、纱窗：漫射：颜色/白色折射：灰白贴图折射率1 接收GI：2 12、调整贴图：输出—使用色彩贴图曲线---显示最终效果 13、使物体变亮：选取物体右击--vr属性--接受全局照明{调高一些GI：2},BRDF—沃德 —影响阴影
参数设计的深入研究
2014-2015学年第一学期 统计质量管理课程论文 题目：参数设计的深入研究 姓名： xx 学号： xxxxxxx 专业： xxx 授课教师： xxx 完成时间：
参数设计的深入研究 摘要：田口玄一的参数设计的思想和方法已经在实际中取得了巨大的成功 ,同时也引起了学术界的重视。近十年来人们对此作了大量的研究.这些研究涉及参数设计的各个方面.本文试图对参数设计深入研究。 关键词: 参数设计交互作用 一、参数设计简述: 参数设计是产品开发三个阶段中的第二个阶段,即在给定基本结构后,系统中个参数如何确定,是的产品性能指标接那个达到目标值,又使它在各种环境下波动小,稳定好。譬如在惠斯顿电桥中如何选择A,B,D,F的电阻值和电动势E,使得电阻y能准确测量出来,并且在各种使用环境下测量值的波动小,稳定性好。 二、参数设计的基本方法: 参数设计是一个多因素选优问题。由于要考虑三种干扰对产品质量特性值的波动影响，找出抗干扰性能好的设计方案，故参数设计比正交试验设计要复杂得多。田口博士采用内侧正交表和外侧正交表直积来安排试验方案，用信噪比作为产品质量特性的稳定性指标来进行统计分析。 为什么即便采用质量等级不高、波动较大的元件，通过参数设计，系统的功能仍十分稳定呢？这是因为参数设计利用了非线性效应。 通常产品质量特性值y与某些元部件参数的水平之间存在着非线性关系，假如某一 D(一般呈正产品输出特性值为y，目标值为m，选用的某元件参数为x，其波动范围为 x D，引起y的波动为Dy1，通过参数设计，将x1态分布)，若参数x取水平x1，由于波动 x ，引起y 的波动范围缩小成Dy2，由于非线性效应十分移到x2，此时同样的波动范围 x 明显，即提高了元件质量等级后，对应于x1的产品质量特性y的波动范围仍然比采用较低质量等级元件、对应于水平x2的y波动范围D y2要宽，由此可以看出参数设计的优越性。 三、参数设计的基本流程 在产品设计阶段，研究不一样的产品在使用环境下，不同设计参数是如何影响产品性能的。而参数设计作为一种“放大器”，可以利用比较少的试验费用和时间来获得决策所需的信息。田口参数设计的关键部分就是致力于减少方差，或者说减少产品质量特
通过试验确定最佳切削参数
在同样满足零件加工品质的前提下，数控机床提高加工效率关键在于如何使金属切除率达到最大。本文主要讨论了在铝合金材料的加工中，针对特定的数控机床、刀具和装夹系统如何来确定金属切除率最大的切削参数的问题。 一、引言 提高数控机床使用效率是目前大家普遍关心的问题，具有关资料介绍，国外数控机床在两班制工作下开动率达到60％～70％，国内往往只能达到20％～30％。造成数控机床10mm高速钢刀具加工铝合金，刀具允许的最高切削速度为300mm/min，机床转速为8750r/min，而相同规格的合金刀，刀具允许的最高切削速度可达600mm/min甚至更高，机床转速可以达到17510r/min，显而易见，这种机床采用高速刚刀具是不合适的。如果机床设备、加工刀具和加工对象已经明确后，研究如何正确选择切削参数对提高加工效率、降低加工成本具有实际意义。Φ使用率低的原因归纳起来就是管理和技术两方面的问题，刀具和切削参数选择是数控加工的主要技术问题之一。例如18000转的机床，用 什么是正确的切削参数，笔者认为应该是针对特定的机床、特定的刀具和刀夹、特定的加工材料在满足零件加工品质的前提下，使材料的切除率达到最大的一组切削参数。这组参数如何确定，有人提出了通过计算机优化设计选择最佳铣削参数的方法，目前也已经有文献报道可以利用现代切削过程仿真和优化技术，在少量试验的基础上借助合理的数学模型、工程分析和仿真等先进手段，快速获取理想的切削参数数据。而对我们来说，刀具的种类是有限的，几把常用的刀具基本上能完成90%的加工量，在这种情况下，通过切削试验方法来获取这些刀具的正确切削参数是比较现实的手段。 二、试验目的和方法 1.试验目的 在特定机床、刀夹、刀具和刀具长度组合条件下，选定合适的每齿切削量和轴向切深，通过采用一系列不同切削速度及径向切深，观察加工过程的情况，从声音和加工表面的质量来判断，发生加工振颤的情况，从而找出相同的零件加工品质下（平稳的切削，未发生振颤），材料的切除率达到最大的铣削参数。 2.试验条件 数控机床：MIKRON UCP710五轴加工中心，主轴最大转速18000r/min，功率15kW，最大进给速度 20m/min； 刀具：FETTE LW225硬质合金立铣刀螺旋角，刀具供应商推荐的提供的极限参数：加工低硅含量铝合金时，最大切削速度Vc800mm/min，最大进给Fz为0.115mm/齿，最大轴向切深ap15mm，相应径向切深5mm，该刀具是我们最常用的刀具之一；?10mm，长度66mm，2齿，30Φ，直径 夹具：HSK刀柄，Φ42mm； 加工材料：LF5铝合金，该材料是我们最常用的加工材料； 冷却液：Blasocut2000乳化液 3.试验方法 准备外形尺寸80mm×100mm×150mm的工件，把工件装入虎钳，长80mm边高出虎钳40mm，刀具装入HSK刀夹后，露出长度35mm，在工件上加工成高8mm宽1mm的8级台阶，见图1。
稳健参数设计的新方法
稳健参数设计的新方法 本文案例基于高端六西格玛软件JMP 实现，其最大的特点是分析能力强，六西格玛工具完整，使用简单，便于推广，图形效果尤佳。 在企业的新产品、新流程开发，或是在六西格玛设计项目中，稳健参数 设计(Robust Parameter Design)(也称健壮设计、鲁棒设计等)是工程技术人员越来越频繁应用的一种高级试验设计方法。它通过选择可控因子的水平组合来减 少一个系统、产品或过程对噪声变化的敏感性，从而达到减少此系统性能波动 的目的。 在具体的实践方法中，田口设计(Taguchi Design)和等高线图(Contour Plot)是大多数企业现阶段运用最为普遍的两种手段，很多常规的问题都可以依 靠它们解决。但是，任何统计方法都不是完美的，以上两种方法也不例外。例如，田口设计在选择可控因子的水平时，粗调(在较大范围的量程中筛选出合适 的区域段)不错，但细调(在较小范围的量程中精确定位最佳点)不行;等高线图也 只善于确定可控因子的允许变化范围，即稳健区域，却无法在此范围中再进一 步找到最稳健的工作点。因此，在一些对产品或过程有高度稳定性要求的行业，如化工、医药和半导体等等，只掌握常规统计分析方法的研发人员在产品质量 达到一定水平后就遭遇到技术提升的瓶颈。由于产品质量长期裹足不前，企业 不得不陷入到价格战的沼泽之中。 既然存在这样的问题隐患，在统计分析的层面上有什么更好的对策可以 应对呢?从专业统计分析软件JMP 的近期研究成果和陶氏化学Dow Chemical、英特尔Intel 等世界知名企业的成功实践来看，在学术界和企业界已经逐步形成 了一系列行之有效的解决方案，让我们用一个实际案例来了解其中的一种稳健 参数设计新方法。顺带提一下，JMP 是全球最顶尖的统计学软件集团SAS 专门
史上最全的VRAY材质参数设置
史上最全的VRAY材质参数设置 大理石： 漫射中导入大理石位图，反射：80摆布；高光光泽度：0.95；光泽度：0.9；细分：12；最大深度：70； 地砖： 漫射导入地砖贴图，反射：50；光泽度：0.9； 仿古砖： 漫射导入贴图，反射中不调数据，反射后小方框中加衰减，衰减类型： FRESNEL，衰减折射率：1.5；向上回一步，到贴图中找到凹凸，选择漫射中的材质，算了凹凸中（复制），凹凸数据：60（自界说）；白色青瓷： 色彩（漫射）：242；反射： 最大255；（绝对是要构选非聂耳反射）光泽度：0.95；细分：16； Mosaic： 漫射导入贴图，反射：30；光泽度：0.7；细分：20；到贴图中找到凹凸，把漫射的材质复制给凹凸，凹凸数据： 自界说； 文化石： 漫射位图；贴图中找到凹凸，漫射材质复制，凹凸数据：150木纹： 漫射位图；反射：50；反射后小方框中找到衰减；远景色： xx；配景色： 木纹色，向上一步，光泽度：0.85；细分：16；凹凸贴图（同上）：30； 木地板：
漫射位图；反射：49；反射后小方框中找到衰减，远景色： xx；配景色： 乳白255；253，244；光泽度：0.85；细分：20；贴图凹凸数据：30 xx木： 漫射位图；反射：10；高光光泽度：0.75；光泽度：0.7；凹凸数据：30；凹凸设置材质，点击凹凸后的NONE 反射值： 越黑反射值越低，白越高光泽度1.0－－最强0.3～～弱，物体不公开度在M折射中调，折射越黑公开度越低,反之～～ 白墙： 白墙的色彩在VR中三原色的数据239，244，255（偏蓝），反射度低，反射数据：8（三原色均8）高光光泽度：0.35光泽度：0.85细分：24或16只有墙的材质不选择选项里的跟踪反射; 玻璃： 玻璃色彩： 红5，绿10，蓝5反射：175；（调完反射绝对是要打开配景查看）；玻璃绝对是要构选非聂耳反射；玻璃折射最大红：255；折射率：1.517非聂耳反射为了调乐律感， 磨砂玻璃： 不透明玻璃，色彩偏灰，眼色自定，反射： 红：65；光泽度：0.9烤漆玻璃： 色彩（色彩就是漫反射）自定，反射高于磨砂玻璃，手抚摸时的感觉平滑，反射： 红：114；细分：20；
生物接触氧化法设计参数
生物接触氧化法设计参数： 生物接触氧化法又称浸没式曝气池，它是一种兼有活性污泥法和生物膜法特点的废水处理构筑物。在曝气池中填充填料，使填料表面长满生物膜，当废水流经填料层时，废水在曝气条件下和生物膜接触，使废水中 有机物氧化分解而得到净化。 生物接触氧化池具有如下特征： 1、 目前所使用的填料多是蜂窝式或列管式填料以及软性填料，上下贯通，废水流动的水利条件好，能很好地向固着在填料上的生物膜供应营养及氧。生物膜的生物相很丰富，除细菌外，还有球衣菌类的丝状菌、多种种属的原生动物和后生动物，形成一个稳定的生态系。 2、 填料表面全为生物膜所布满，具有很高的生物量，据实验资料，每平方米填料表面上的生物膜可达125g，相当于MLSS13g/L，有利于提高净化 效率。 3、 生物接触氧化法对冲击负荷有较强的适应能力，污泥生成量少，无污泥膨胀的危害，无需污泥回流，易于维护管理。 4、 生物接触氧化法的主要缺点是填料易于堵塞，布气、布水不均匀。填料是生物膜的载体，是接触氧化池的核心部位，直接影响生物接触氧化处理的效率。对填料的要求是：有一定的生物附着力，比表面极大；空隙率高；水流阻力小；强度高；化学和生物稳定性强；不溶出有害物质，不导致产生二次污染，形状规则，尺寸均一，在填料间能形成均一 的流速；便于运输和安装。 目前在我国使用的填料有硬、软两种类型。硬填料主要制成蜂窝状，简称蜂窝填料，所用材料有聚氯乙烯塑料、聚丙烯塑料、环氧玻璃钢和环 氧纸蜂窝等。 软填料是近几年出现的新型填料，一般用尼龙、维纶、填料涤纶、晴纶等化学纤维编结成束，成绳状连接，因此又称为纤维填料。特点：质轻、高强，物理和化学性能稳定；纤维束呈立体结构，比表面积大，生物膜附着能力强，污水与生物膜接触效率高；纤维束随水漂动，不宜为 生物膜所堵塞。 纤维填料近年来已广泛用于化纤、印染、绢纺等工业废水处理中，实践
vray中英对照及各种材质参数设置
下面是我对VARY的总结，包含了中英文对照，及各类材质参数的设置，还有草图参数设置及最终效果图设置。十分齐全，对VARY初学者及不知道如何设置材质球的同志们有很大的帮助。
VR材质参数 Diffuse （漫反射）- 材质的漫反射颜色。能够在纹理贴图部分（texture maps）的漫反射贴图通道凹槽里使用一个贴图替换这个倍增器的值。 Reflect（反射）- 反射表要用于石材金属玻璃等材质，一个反射倍增器,通过颜色来控制反射,能够在纹理贴图部分（texture maps）的反射贴图通道凹槽里使用一个贴图替换这个倍增器的值)。黑色表面没有任何反射，值越大反射越强，白色表面完全反射。 Hilight glossiness-反射出的光点,也就是高光, 控制着模糊高光，只能在有灯光的情况下有效果，值越低越模糊，高光范围越大） Glossiness（光泽度、平滑度）-这个值表示材质的光泽度大小。值为意味着得到非常模糊的反射效果。值为，将关掉光泽度，VRay将产生非常明显的完全反射)。注意:打开光泽度（glossiness）将增加渲染时间。 Subdivs（细分）-控制光线的数量，作出有光泽的反射估算。当光泽度Glossiness值为时，这个细分值会失去作用，VRay不会发射光线去估算光泽度。 Fresnel reflection（菲涅尔反射）-不勾选（当这个选项给打开时，反射将具有真实世界的玻璃反射。这意味着当角度在光线和表面法线之间角度值接近0度时，反射将衰减(当光线几乎平行于表面时，反射可见性最大。当光线垂直于表面时几乎没反射发生。) Max depth（最大深度）-光线跟踪贴图的最大深度。光线跟踪更大的深度时贴图将返回黑色（左边的黑块）。 Refract（折射）-一个折射倍增器。你能够在纹理贴图部分（texture maps）的折射贴图通道凹槽里使用一个贴图替换这个倍增器的值。 Glossiness（光泽度、平滑度）- 这个值表示材质的光泽度大小。值为意味着得到非常模糊的折射效果。值为，将关掉光泽度(VRay将产生非常明显的完全折射)。
EDI技术介绍、设计参数及运行
EDI技术介绍、设计参数及运行 ?什么是EDI？ 电除盐法（Electrode ionization）又被称作填充床电渗析，简称EDI。它利用电渗析过程中的极化现象对离子交换填充床进行电化学再生，集中了电渗析和离子交换法的优点，克服了两者的弊端。 EDI技术是离子交换和电渗析技术相结合的产物，因此EDI的除盐机理具有很强的离子交换和电渗析的工作特征。 ?离子交换除盐过程： 所谓离子交换就是水中的离子和离子交换树脂上的功能基团所进行的等电荷反应。它利用阴、阳离子交换树脂上的活性基团对水中阴、阳离子的不同选择性吸附特性，在水与离子交换树脂接触的过程中，阴离子交换树脂中的氢氧根离子（OH－）同溶解在水中的阴离子（例如CI－等）交换，阳离子交换树脂中的氢离子（H＋）同溶解在水中的阳离子（例如Na＋等）交换。从而使溶解在水中的阴、阳离子被去除，达到纯化的目的。 ?电渗析脱盐过程： 电渗析技术利用多组交替排列的阴、阳离子交换膜，这种膜具有很高的离子选择透过性，阳膜排斥水中阴离子而吸附阳离子，阴膜排斥水中的阳离子，而吸附阴离子。在外直流电场的作用下，淡水室中的离子做定向迁移，阳离子穿过阳膜向负极方向运行，并被阴膜阻拦于浓水室中。阴离子穿过阴膜而向正极方向运动，并被阳膜阻拦于浓水室中。从而达到脱盐的目的。 ?EDI的脱盐过程： EDI的核心实际上就是在电渗析的淡水室填装了阴、阳离子交换树脂，见示意图。
?EDI的脱盐过程： EDI的这种结构上的变化，使淡水室的脱盐过程发生了质的变化，EDI的这种结构特点确保了它在运行过程中能同时进行着三个主要过程： 1、在直流电场作用下，水中电解质通过离子交换膜发生选择性迁移； 2、阴阳离子交换树脂对水中电解质进行着离子交换，并构成“离子通道”； 3、离子交换树脂界面水发生极化所产生的H＋和OH－对交换树脂进行着电化学再生。 EDI对离子的脱除顺序与离子交换树脂对离子的吸附顺序相同，如上图所示。同时我们可以这样认为，在EDI组件中的离子交换树脂，沿淡水流向按其工作状态可以分为三个层面，第一层为饱和树脂层，第二层为混合树脂层，第三层为保护树脂层。饱和树脂层主要起吸附和迁移大部电解质的作用，混合树脂层则承担着去除弱电解质等较难清除的离子的任务，而保护树脂层树脂则处于较高的活化状态，它起着最终纯化水的作用。 ?EDI组件的形式： 板框式（IONPURE、E-Cell） 螺旋卷式（OMEXELL ?EDI技术相对离子交换技术的优点： 无需酸碱再生，环保安全 膜堆式设计，占地面积小
TMD系统最优参数的设计方法
结构动力学小论文 班级土木卓越1201班 学号 U201210323 姓名陈祥磊 指导老师叶昆 2015.01.05
TMD 系统最优参数的设计方法 摘要： 调谐质量阻尼器TMD 由质块，弹簧与阻尼系统组成。即由将其振动频率调整至主结构频率附近，改变结构共振特性，以达到减震作用。将调谐质量阻尼器(TMD)装入结构的目的是减少在外力作用下基本结构构件的消能要求值。在该情况下，这种减小是通过将结构振动的一些能量传递给以最简单的形式固定或连接在主要结构的辅助质量—弹簧—阻尼筒系统构成的TMD 来完成的。 现在的建筑结构在地震作用下容易产生过大的反应进而发生破坏，因此TMD 等减震结构显得非常重要，要将TMD 应用于实际结构中，鉴于结构的空间都是有限的，所以TMD 不能过大，即TMD 的质量相对于结构而言应该很小。本文中选择M m TMD ?=05.0，即TMD 的质量为主体结构的5%。其次，TMD 应该能够发挥明显的减震作用，因此我们需要对TMD 的参数进行设计选择。本文对结构基底在受地震激励下的TMD 参数设计进行了研究，并且用真实的地震波通过MATLAB 编程的方法实现TMD 的作用以搜索到最优的TMD 参数。 关键词：TMD 阻尼比 频率比 参数优化 一、TMD 减震理论简介 下图所示为两自由度体系的结构图，通过这个结构来研究TMD 结构的减震机理。 列出两个质点的平衡方程如下： ()()g x m x x k x x c x 212212222m -=-+-+ ()()g x m x x k x k x x c x c x 1122111221111m -=--+--+ 写成矩阵形式即为：
VRay各种材质参数设置(全)
VR各种材质参数 折射率： 水 1.333 油漆： 1.2木材： 1.2 皮革： 1.3 陶瓷（大理石）：1.4 玻璃： 1.5 — 1.7 钻石： 2.4 不锈钢： 1.6 一、石材材质 1、镜面石材（表面较光滑，有反射，高光较小）Diffuse （漫反射）- 石材纹理贴图} Reflect （反射）- 40 Hilight glossiness-0.9 Glossiness （光泽度、平滑度）-1 Subdivs （细分）-9 2、柔面石材（表面较光滑，有模糊，高光较小） Diffuse （漫反射）- 石材纹理贴图 Reflect （反射）- 40 Hilight glossiness- 关闭 Gloss in ess （光泽度、平滑度）-0.85 Subdivs （细分）-25 MHU74 3、凹凸面石材（面表面较光滑，有凹凸，高光较小） Diffuse （漫反射）- 石材纹理贴图 Reflect （反射）- 40 Hilight glossiness- 关闭 Glossiness （光泽度、平滑度）-1 Subdivs （细分）-9 Bump （凹凸贴图）- 15%同漫反射贴图相关联 Diffuse （漫反射）- 石材纹理贴图 Reflect （反射）-衰减 Hilight glossiness-0.9 4、大理石
Gloss in ess （光泽度、平滑度）-0.95 5、瓷质材质 （表面光涌带有反射，有很亮的高光） Diffuse （漫反射）- 瓷质贴图（白瓷250） Reflect （反射）-衰减（也可直接设为133，要打开菲涅尔，也有只给40左右） Hilight glossiness-0.85 Gloss in ess（光泽度、平滑度）-0.95 （反射给40只改这里为0.85） Subdivs （细分）-15 : 最大深度-10 BRDF-WARD （如果不用衰减可以改为PONG）各向异性： 旋转值为70， 环境：OUTPUT ，输出量为 3.0 二、布料材质 材质分析：常用的分为普通布料、毯子、丝绸三种，主要是根据表面粗糙度而区分别有不同的特点。 1、普通布料 （表面有较小的粗糙，小反射，表面有丝绒感和凹凸感） Diffuse （漫反射）- FALLOFF[ 衰减]，近距衰减即黑色色块为布料贴图，近距衰减即白色色块设材质色调自定， Reflect （反射）-16 Hilight glossiness-0.3 左右 Glossiness （光泽度、平滑度）-1 Bump （凹凸贴图）-同漫反射贴图相关联，依粗糙程度而定 2、毯子 表面粗糙，小反射，表面有丝绒感和凹凸感，毯子材质做法有几种，一是和布料材质差不多，有的使用VR 毛发插件制作，为了增加毯子毛毛的质感很多采用VR 置换贴图。 A 、VR 毛发插件做法：
设计常用参数及尺寸
设计常用参数及尺寸 C M Y K 银色20 15 14 0 金色5 15 65 0 米色5 5 15 0 高亮灰5 5 3 0 浅灰25 16 16 0 中灰50 37 37 0 深紫100 68 10 25 深紫红85 95 10 0 海水色60 0 25 0 柠檬黄5 18 75 0 暗红20 100 80 5 橘红5 100 100 5 橙色5 50 100 0 深褐色45 65 100 40 粉红色5 40 5 0 平面设计常用制作尺寸 名片 横版:90*55mm 85*54mm 竖版:50*90mm 54*85mm 方版:90*90mm 90*95mm IC卡 85x54MM 三折页广告 标准尺寸: (A4)210mm x 285mm 普通宣传册 标准尺寸: (A4)210mm x 285mm 文件封套 标准尺寸:220mm x 305mm 招贴画 标准尺寸:540mm x 380mm 挂旗 标准尺寸:8开376mm x 265mm 4开540mm x 380mm 手提袋 标准尺寸:400mm x 285mm x 80mm 信纸便条 标准尺寸:185mm x 260mm 210mm x 285mm 正度纸张： 787×1092mm 开数(正度) 尺寸单位（mm） 全开781×1086
2开530×760 3开362×781 4开390×543 6开362×390 8开271×390 16开195×271 注：成品尺寸=纸张尺寸－修边尺寸大度纸张： 850＊1168mm 开数(正度) 尺寸单位（mm） 全开844×1162 2开581×844 3开387×844 4开422×581 6开387×422 8开290×422 注：成品尺寸=纸张尺寸－修边尺寸常见开本尺寸 (单位：mm) 开本尺寸：787 x 1092 对开：736 x 520 4开：520 x 368 8开：368 x 260 16开：260 x 184 32开：184 x 130 开本尺寸(大度)：850 x 1168 对开：570 x 840 4开：420 x 570 8开：285 x 420 16开：210 x 285 32开：203 x 140 正度纸张： 787×1092mm 开数(正度) 尺寸单位（mm） 全开781×1086 2开530×760 3开362×781 4开390×543 6开362×390 8开271×390 16开195×271 注：成品尺寸=纸张尺寸－修边尺寸大度纸张： 850＊1168mm 开数(正度) 尺寸单位（mm） 全开844×1162 2开581×844 3开387×844
AO法工艺设计参数
污水处理A/O工艺设计参数 1.HRT水力停留时间：硝化不小于5～6h；反硝化不大于2h，A段:O段=1:3 在 A／O工艺中，好氧池的作用是使有机物碳化和使氮硝化；缺氧池的作用是反硝化脱氮，故两池的容积大小对总氮的去除率极为重要。A／O的容积比主要与该废水的曝气分数有关。缺氧池的大小首先应满足NO3--N利用有机碳源作为电子供体，完成脱氮反应的需要，与废水的碳氮比，停留时间、回流比等因素相应存在一定的关系。借鉴于类似的废水以及正交试验，己内酷胺生产废水的A／0容积比确定在1：6左右，较为合适。 而本设计的A／ 0容积比为亚：2，缺氧池过大，导致缺氧池中的m（BOD）／m（NO3--N）比值下降，当比值低于1.0时，脱氮速率反趋变慢。另外，缺氧池过大，废水停留时间过长，污泥在缺氧池内沉积，造成反硝化严重，经常出现大块上浮死泥，影响后续好氧处理。后将A／O容积比按1：6改造，缺氧池运行平稳。 1.1、A/O除磷工艺的基本原理 A/O法除磷工艺是依靠聚磷菌的作用而实现的，这类细菌是指那些既能贮存聚磷(poly—p)又能以聚β—羟基丁酸(PHB)形式贮存碳源的细菌。在厌氧、好氧交替条件下运行时，通过PHB与poly—p的转化，使其成为系统中的优势菌，并可以过量去除系统中的磷。其中聚磷是若干个基团彼此以氧桥联结起来的五价磷化合物，亦被称为聚磷酸盐，其特点是：水解后生成溶解性正磷酸盐，可提供微生物生长繁殖所需的磷源；当积累大量聚磷酸盐的细菌处于不利环境时，聚磷酸盐可分解释放能量供细菌维持生命。聚β—羟基丁酸是由多个β—羟基丁酸聚合而成的大分子聚合物，当环境中碳源物质缺乏时，它重新被微生物分解，产生能量和机体生长所需要的物质。这一作用可分为两个过程：厌氧条件下的磷释放过程和好氧条件下的磷吸收过程。 厌氧条件下，通过产酸菌的作用，污水中有机物质转化为低分子有机物(如醋酸等)，聚磷菌则分解体内的聚磷酸盐释放出磷酸盐及能量，同时利用
倒置AAO工艺的设计特点与运行参数
倒置AAO工艺的设计特点与运行参数 现有城市污水脱氮除磷技术主要有以下三大类:A2/O工艺、氧化沟法和SBR法，其中A2/O脱氮除磷工艺是应用较为广泛的一类，近十年来出现了倒置AAO工艺[’一’〕、A + A2/O工艺、Trizon工艺等改良型AZ/O工艺。 倒置AAO工艺的设计特点与常规 A2/O工艺相比，倒置AAO工艺省去了混合液内回流，适当加大了污泥回流比，其工艺流程如图1所示。根据进水水质不同，通过缩短初沉时间或者取消初沉池(由超越管实现)来满足倒置AAO工艺的需要:初沉时间的缩短，一方面使得沉砂池出水中的微生物和部分或全部有机物直接进入生化反应系统，增加了反应池进水的有机物总量，保证了脱氮除磷新工艺对碳源的需要，提高了生化反应系统对氮、磷的去除效率;另一方面为微生物提供了良好的栖息场所，使系统的生物种类和数量都大幅度提高。 缺氧池、厌氧池配有搅拌设备，好氧池通过曝气维持供氧。三个工艺段的作用如下:缺氧段，微生物利用进水中有机物为碳源，使得回流污泥带来的硝态氮反硝化，形成Nz或N,0，逸至大气中，达到脱氮
目的;厌氧段，水中溶解氧和硝态氮结合氧均已消耗完毕处于厌氧状态，聚磷微生物利用胞内聚磷分解产生的能量吸收污水中的易降解COD，同时释放磷酸盐;好氧段前段主要降解污水中的有机质并 过量吸磷，到好氧区后段则BOD大幅度降低，BOD/TKN值较低利于硝化菌的生长，主要进行硝化反应。缺氧段、厌氧段并无严格的界限，主要取决于工艺构筑物采用的形式和前置反硝化的效果。生化反应池较高的污泥浓度不仅从固定的生化反应池容积中争取到好氧池硝化所需要的反应容积，而且活性污泥絮体内部的缺氧微环境使得硝化和反硝化过程在曝气时段内就同步进行，从而为进一步提高系统的脱氮效率创造了条件。 倒置 A AO 工艺具有以下特点[4]:①缺氧区位于工艺系统首端，优先满足反硝化碳源需求，强化了处理系统的脱氮功能;②所有的回流污泥全部经过完整的厌氧释磷与好氧吸磷过程，具有“群体效应”，同时聚磷菌经过厌氧释磷后直接进人生化效率较高的好氧环境，其在厌氧状态下形成的吸磷动力可以得到充分利用，提高了处理系统的除磷能力;③通过取消初沉池或缩短初沉池停留时间，不仅增加了系 统脱氮除磷所需的碳源，而且提高了处理系统内的污泥浓度，强化了好氧区内的同步反硝化作用，进一步缓解了处理系统内的碳源矛盾，提高了处理系统 的脱氮除磷效率;④将常规AZ/O工艺的混合液回流系统与污泥回流系统合二为一组成了唯一的污泥回流系统，工艺流程简捷，运行管理方便，占地面积减少;⑤与常规AZ/O工艺相比，倒置AAO工艺的流程
EMI滤波器的设计原理及参数计算方法
EMI滤波器的设计原理 随着电子设备、计算机与家用电器的大量涌现和广泛普及，电网噪声干扰日益严重并形成一种公害。特别是瞬态噪声干扰，其上升速度快、持续时间短、电压振幅度高(几百伏至几千伏)、随机性强，对微机和数字电路易产生严重干扰，常使人防不胜防，这已引起国内外电子界的高度重视。 电磁干扰滤波器(EMI Filter)是近年来被推广应用的一种新型组合器件。它能有效地抑制电网噪声，提高电子设备的抗干扰能力及系统的可靠性，可广泛用于电子测量仪器、计算机机房设备、开关电源、测控系统等领域。 1 电磁干扰滤波器的构造原理及应用 1.11 构造原理 电源噪声是电磁干扰的一种，其传导噪声的频谱大致为10kHz~30MHz，最高可达150MHz。根据传播方向的不同，电源噪声可分为两大类：一类是从电源进线引入的外界干扰，另一类是由电子设备产生并经电源线传导出去的噪声。这表明噪声属于双向干扰信号，电子设备既是噪声干扰的对象，又是一个噪声源。若从形成特点看，噪声干扰分串模干扰与共模干扰两种。串模干扰是两条电源线之间(简称线对线)的噪声，共模干扰则是两条电源线对大地(简称线对地)的噪声。因此，电磁干扰滤波器应符合电磁兼容性(EMC)的要求，也必须是双向射频滤波器，一方面要滤除从交流电源线上引入的外部电磁干扰，另一方面还能避免本身设备向外部发出噪声干扰，以免影响同一电磁环境下其他电子设备的正常工作。此外，电磁干扰滤波器应对串模、共模干扰都起到抑制作用。 1.2 基本电路及典型应用 电磁干扰滤波器的基本电路如图1所示。 该五端器件有两个输入端、两个输出端和一个接地端，使用时外壳应接通大地。电路中包括共模扼流圈(亦称共模电感)L、滤波电容C1~C4。Ｌ对串模干扰不起作用，但当出现共模干扰时，由于两个线圈的磁通方向相同，经过耦合后总电感量迅速增大，因此对共模信号呈现很大的感抗，使之不易通过，故称作共模扼流圈。它的两个线圈分别绕在低损耗、高导磁率的铁氧体磁环上，当有电流通过时，两个线圈上的磁场就会互相加强。L的电感量与EMI滤波器的额定电流 有关，参见表1。 需要指出，当额定电流较大时，共模扼流圈的线径也要相应增大，以便能承受较大的电流。此外，适当增加电感量，可改善低频衰减特性。C1和C2采用薄膜电容器，容量范围大致是0.01mF~0.47μF，主要用来滤除串模干扰。C3和C4跨接在输出端，并将电容器的中点接地，能有效地抑制共模干扰。C3和C4亦可并联在输入端，仍选用陶瓷电容，容量范围是2200pF~0.1μF。为减小漏电流，电容量不得超过0.1μF，并且电容器中点应与大地接通。C1~C4的耐压值均为
VRAY常用材质设置
VRAY常用材质设置 一、墙体材质： 1、乳胶漆1：diffuse漫反射250 reflect反射23 Hi light glossiness高光0.3 取消勾选options“选项”下方trace reflections跟踪反射 乳胶漆2：diffuse漫反射250 reflect反射23 re fl.glossiness反射光泽度0.6 2、墙身涂料：diffuse漫反射涂料纹理贴图reflect反射30 Hi light glossiness高光0.86 re fl.glossiness反射光泽度0.75 bump凹凸贴图10 再添加er Mel wrapper包裹材质/generate GI产生全局照明0.9 注：er Mel wrapper包裹材质是为了控制物体在场景内产生溢色的现场，即在原有材质基础上加包裹材质来减少产生全局照明的值。 3、黄色肌理漆：diffuse漫反射深黄色（170.224.254）reflect反射15 Hi light高光0.35 Sub div细分12 取消勾选options“选项”下方trace reflections跟踪反射bump凹凸贴图-60 4、墙纸：diffuse漫反射墙纸贴图（可以适当给点反射）bump凹凸贴图20 5、墙面砖：diffuse漫反射240 reflect反射20 Sub div细分15 bump凹凸贴图/赋予一张纹理贴图大小-80 取消勾选options“选项”下方trace reflections跟踪反射 6、白砖墙面：diffuse漫反射/falloff衰减贴图（1:245, 2:201，falloff type类型：Fresnel菲涅尔）Hi light高光0.35 取消勾选options“选项”下方trace reflections跟踪反射bump 凹凸贴图/赋予一张纹理贴图大小值150 添加贴图坐标Maputo 7、深色地砖及墙砖：diffuse漫反射tiles平铺设置tiles texture平铺颜色为黑色grout texture薄浆白色gap水平垂直缝隙0.007 返回reflect反射falloff衰减贴图颜色默认类型Fresnel菲涅尔Hi light高光0.8 re fl.glossiness光泽度0.85 subdivides细分15 bump凹凸贴图tiles平铺大小值50 8、墙身马赛克：diffuse漫反射陶瓷马赛克贴图反射衰减（1黑2白：233.235.245类型菲涅尔）Hi light高光0.8 re fl.glossiness光泽度0.87 bump凹凸贴图黑白的大小150 9、天花ICI：diffuse漫反射245 reflect反射25 Hi light高光0.3 取消勾选options“选项”下方trace reflections跟踪反射 10、天花：diffuse漫反射（255.241.223）reflect反射5 Hi light高光0.9 取消勾选options “选项”下方trace reflections跟踪反射bump凹凸贴图添加noise噪波贴图size尺寸15 大小值30 二、地面材质： 1、瓷砖：diffuse漫反射245 reflect反射纯白色re fl.glossiness光泽度0.86 subdivides 细分20 开启Fresnel菲涅尔
参数设计题目
1、（可以考虑综合噪声因子）某气动换向装置的设计中，关键是要使换向末速度V 达到V 0=960mm/s 。据力学原理，换向末速度的运动方程式为 V= ?? ? ??-D C B 22E Ag 2π 其中A 为换向行程（待选参数），B 为换向活塞直径（待选参数），C 为气缸内气压（待选 参数），D 为换向阻力（不可控，但可测，大约在750N ±20N ）,E 为系统重量(可在90kg ±5kg 取值),g=9800mm/s2为重力加速度. 在这个问题中可控因素、噪声因素及其水平见下表. 因素水平表 请作参数设计，使V 尽量接近目标值V 0，而使波动小。 2、钛合金磨削工艺参数的优化设计，钛合金以其速度高、重量轻、耐用性好和具有良好抗腐蚀性等优点被人们誉为“未来的钢铁”。但是它的磨削性能差，即使采用特制的砂轮磨削钛合金，其表面粗糙度也只能达到R0.6（）,为进一步降低表面粗糙度，特选如表所示的4个水平可控因素。 选用L 9（3）作为内表，并把A,B,C,D4个因素依次放在L 9（3）的第1，2，3，4列上。由于本例的质量特性Y （表面粗糙度）不可计算，只能通过实验。为减少实验次数，外表采用综合噪声因素的2水平N 1和N 2，实验结果见下表：AB1C1D 实验结果表：
试按望小特性参数设计方法选出最佳参数设计方案。 参考摸版： 实验5 参数设计 一、实验目的 掌握参数设计的基本原理及实施步骤，能够通过信噪比等一些指标对试验结果进行分析，给出合理结论，能够利用SAS 程序得到数据所用到的指标,学会对运行结果进行分析。 二、实验内容 将质量m=0.2kg 的物体用力F(N)和仰角α抛射，假设水平到达距离y(m),可用下式给出： )2sin()(12 αm F g y = 其中g=9.8002s m 是重力加速度。现在要求对目标距离为150m,用望目 特性参数设计方法寻求稳定条件，这个问题的可控因子与噪声因子的水平见下表： 把可控因子F 和a 放在正交表)3(4 9L 的第1,2列上,把噪声因子',',,αF m 顺次放在另一张正交表)3(4 9L 的第1,2,3列上,4此内外表组成的直积表如表1所示
球磨机工作参数
第2章球磨机工作参数和效率的关系 为了全面了解球磨系统的特性，深入认识该系统，从众多错综复杂的影响因素中，找出影响球磨机内部参数的主要因素，抛弃次要因素，本章将对影响球磨机内部参数的因素进行分析，把握它们之间的相互制约关系，为过程模型的建立和球磨机内部参数的优化奠定基础。 2.1球磨机简介 通过物理方法进行的任何矿石浓缩处理均需要将矿石从脉石中分离出来，需将矿石粉碎成要求的尺寸。到目前为止，球磨机以其投资成本低、安装快速容易、使用维护费用低、磨出的物料形状好和生产能力上的优势，成为工业上应用最广泛的产品，用于将易碎、有粘性、腐蚀性较小的矿石块料磨碎成要求的尺寸，产生的细屑最少且适应处理特性在很广范围内变化的矿石。其磨矿的基本原理是当球磨机以一定的速度作旋转运动时，装入筒内的钢球在筒体衬板和钢球之间的摩擦力、钢球的重力以及由于磨机旋转而产生的离心力的作用下，将随着筒体作旋转的上升运动，被提升到一定的高度，然后当钢球的重力(实际上是重力的径向分力)大于或等于离心力时，就开始脱离筒体内壁，按照某一轨迹降落。这种周而复始的运动就产生了连续的冲击和研磨作用，从而粉碎物料，其中钢球主要的运动状态如图1所示。 （a）抛落式（b）泻落式 图1钢球的两种主要运动形态 球磨过程是复杂而又多变的生产系统，它具有下列特点：
(1 )影响因素多，是选矿工业中可变参数最多的作业之一，而且各因素之间相互影响、相互制约，检测也比较困难。这些影响参数大致可以分为三大类: （1）物料性质方面有:矿石的可磨度、给料粒度、产品细度等; （2）磨机结构方面有;磨机的结构、尺寸、衬板形状等; （3）磨机操作方面有:介质添加制度(如介质尺寸配比以及材质、介质充填率)、磨机转速、磨机给料量、磨矿浓度等。 上述因素中，第一类是磨矿过程的自变量，也是磨矿过程中干扰的主要来源。第二类被确定以后一般就不改变了(理想情况下)。第三类则是球磨机的工作条件，如果设备维修以及添加钢球的材质都是正常的，则其可改变的条件就是磨机转速、加球制度(介质配比和数量)、磨机给料量和磨矿浓度。一旦磨机加球制度、磨机给料量和磨矿浓度，则只有转速固定是可以变化的。 (2 )非线性：磨矿回路的参数因设备磨损程度不同是变化的，它们之间的关系是非线性的。如球磨机衬板的磨损，改变了其有效容积:钢球消耗量与添加量失调，改变了装球量和钢球的比例。又如，球磨机磨矿效率与其负荷之间的关系就是非线胜的，有最大值，它随工况变化而变化. (3) 时变性：磨矿过程中的许多因素如原矿性质、装球量、磨机衬板厚度等都是时变的。 (4 )滞后大。 (5 )机理复杂。 (6 )随机干扰因素多而且严重，这主要表现为： ①来自不同采区或同一采区不同采段的矿石，可磨性存在很大的差异，人工操作己经难以识别和作出相应操作以适应矿石性质的变化，导致生产率降低，消耗增大，对于贫、难、杂矿石这一问题尤为突出。 ②相关性极强的众多过程变量，如原矿性质、给矿量、磨矿浓度等;种变量的波动会引起其它变量乃至整个作业的改变。 ③非自动化操作时人为干扰因素多，主要起因于磨机操作者的素质和技术水平。由于操作不及时而引起的任何问题，都不仅直接影响该作业或回路，甚至影响整个选矿厂的经济技术指标。 球磨机合理的内部工作参数是取得最佳磨矿效果的必要条件。磨矿理论和实践表