Tempress扩散炉

扩散炉维修手册(M5111-4W、UM系列高温扩散、氧化系统).

中国电子科技集团公司第四十八研究所 M5111-4W/UM系列高温扩散/氧化系统 维修手册 中国电子科技集团公司第四十八研究所 2007年6月 中国电子科技集团公司第四十八研究所 目录 1．设备型号涵义 (1) 1.1型号的组成 (1) 1.2各代号涵义 (1) 2．电气图纸的代号规定 (2) 2.1电气制图代号定义 (2) 2.2元器件编号规定······················ 2.3电气接线编号规定···················· 2.4电气转接端口定义···················· 2.5计算机转接端口定义···················3．故障判别与维修······················ 3.1温度控制系统······················· 3.1.1温控仪上显示oooo···················· 3.1.2炉子不能升温······················ 3.1.3面板上的超温指示灯亮·················· 3.1.4炉温失控························ 3.1.5面板上的短路指示灯亮·················· 3.2自动推拉舟系统······················ 3.2.1不能自动进出舟····················· 3.2.2不能自动停舟······················ 3.3气体流量控制系统····················

3.3.1气动阀不能受控打开··················· 3.3.2触摸屏上无气体流量显示················· 3.3.3气体流量总是显示最大值················· 3.3.4气体流量显示值波动大·················· 3.4 H/O合成氧化系统···················· 3.4.1火不能点燃······················· 3.4.2系统误报警······················· I （3）（3）（3）（7）（11）（11）（11）（11）（12）（12）（13）（13）（13）（14）（14）（14）（14）（15）（15）（16）（16）（16） 中国电子科技集团公司第四十八研究所 1．设备型号涵义 1.1 型号的组成 按照部颁标准，我所高温扩散/氧化系统的型号由如下代号组成： M 5 1 11 — 4 W / UM型 48所）类别代号（表面处理和薄膜淀积设备） 1.2 各代号涵义 1300℃ 3〞硅片工艺 4〞硅片工艺 6〞硅片工艺 8〞硅片工艺 1 中国电子科技集团公司第四十八研究所 2．电气图纸的代号规定 2.1电气制图代号定义 按照国家电气制图标准，我所常用电气图纸器件代号如下：代号 A

扩散炉石英管安装

扩散炉石英管安装 力诺光伏设备管理部 潘学兴

1 Add your text in here 初定位 2 Add your text in here 定位 3 Add your text in here 密封 4 Add your text in here 安装炉门

Add your text in here 初定位 1z 石英管的进入：将石英管从loading box 送入炉管内部，如图1所示： 图1 注意：石英管进入炉管时，尾 端的进气管旋转至上方，以免 在推入石英管时碰坏。然后轻 轻将石英管推入炉管内部。

1 Add your text in here 初定位 z石英管的进入：当石英管尾端超出炉管3-5cm时，停止推入。将尾端进 气管轻轻旋转至底部。如图2所示： 注意：尾端超出炉管尾端3-5cm而不是机 器外壳。 注意：将进气管轻轻旋转到下方。用力 时，旋转石英管体而不是进气管。 图2

Add your text in here 初定位 1z 石英管的初定位：将石英棉填入石英管顶端与炉管间的空隙处，使其固定。如图3所示： 图3 注意：填入石英棉时不要将 石英棉填到加热丝处，尾端 处理同前端一样也需要填入 石英棉。

Add your text in here 初定位 1z 石英管的初定位：用尺子测量石英管两侧与炉管之间的距离并填入石英棉。如图4所示： 图4 注意：当位于同一水平线上的 两侧与炉管的距离相同时既是 炉管中心位置。在此处填入少 量石英棉，若一边距离大于另 一边，可在距离小的一侧填入 石英棉将石英管”挤” 到中心位置。定位测量的点为四个：十 点钟，两点钟，四点钟，八点钟。尾端处理也是如此。

扩散炉安全使用说明书

M5111-4W/UM系列高温扩散/氧化系统安全使用说明书 中国电子科技集团公司第四十八研究所 2007年2月

目 录 1．使用环境要求 (1) 2．工作条件要求 (1) 3．设备调试时注意事项 (1) 4．设备使用注意事项 (2) 5．运行H/O合成工艺注意事项 (4) 6．真空系统注意事项 (5) 7．化学品的安全使用 (6) 8．气体的安全使用 (7) 9． 保养与维修 (8) 10、碳化硅制品使用说明 (8) 11、石英器件使用说明 (11)

1、使用环境要求 1.1 环境温度5～40℃。 1.2 相对湿度＜75％。 1.3 海拔不超过2500m。 1.4 电网电压波动不超过额定值±10%。 1.5 环境洁净度不劣于：1000级。 1.6 有良好的抽风排毒系统，每管抽风量3000～5000L/min。 1.7 无高频及较强的磁场干扰。 2、工作条件要求 2.1 供电：3Ф＋中线+地线，50HZ； 设备功率： 序号 反应管形式 炉膛内径 单台管数 单台总功率 1 开管 Ф300mm 3管/台 105KVA 2 开管 Ф300mm4管/台 140KVA 3 闭管 Ф330mm3管/台 128KVA 4 闭管 Ф330mm4管/台 170KVA 5 闭管 Ф350mm4管/台 195KVA 2.2 供水：3／4＂管供自来水，水压0.1～0.3MPa，冷却用；去离子水，清洗及工 艺用。 2.3 供气：N2、O2 、H2、压缩空气，进气压力0.4～0.6Mpa，工艺气体纯度99.99﹪。 2.4 气源柜、废气室、净化台顶部均应接入排毒、排气管道。 2.5 设备应接入专用接地线，接地电阻≤3 Ω。 3、调试时注意事项 3.1 逐柜、逐层上电，检查各部件上电情况，注意检查机壳是否带电。 3.2控制柜及气源柜上电，检查计算机、温控仪、温度保护仪、各控制开关、指示灯、电磁阀、质量流量控制器、流量计电源等是否正常。在计算机手动操作屏上逐一试验，看对各器件的控制是否正确无误。 3.3 推舟净化柜中，逐一检查照明、排风及净化送风是否正常。配合计算机检查自动进出舟、行程限位是否正确。 3.4 检查可控硅散热风扇及水冷散热器排热风扇等工作是否正常。 3.5 检查水冷散热器接头及水压开关、恒温槽水冷管道（如装备）接头是否漏水。

扩散炉使用说明

高温扩散炉 使用说明书北京中联科利技术股份有限公司

目录 1．概述 (2) 1．1产品特点 (2) 1．2主要用途及适用范围 (2) 1．3品种、规格 (2) 1．4型号的组成及其代表意义 (2) 2．结构特征与工作原理 (3) 2．1总体结构 (3) 2．2分部件结构 (3) 2．3系统控制原理 (7) 2．4系统各主要单元功能结构及工作原理 (7) 3．主要性能指标 (10) 4．安装、调试 (11) 4．1安装条件 (11) 4．2安装程序及注意事项 (11) 4．3调试程序及注意事项 (12) 4．4 SiC桨及石英炉门的装调 (13) 4．5调试恒温区的方法及验收判据 (14) 4．6工艺试运行 (15) 5．使用、操作 (15) 5．1温控仪的使用 (15) 5．2恒温槽的操作使用 (16) 5．3计算机的操作使用 (16) 5．4操作过程中应注意事项 (16) 6．常见故障分析与排除 (17) 7．安全 (19)

1．概述 1.1产品特点 本设备加热部分选用进口炉丝以及耐高温保温材料，炉体使用寿命长，保温性能好。 送片系统采用丝杠、导轨及SiC桨悬臂式推拉舟机构，可确保进出舟运行平稳，同时能有效地防止因磨擦而产生的粉尘污染。 温控部分采用了内外联合的控温方式，炉体内置5段控温热电偶，实时实地检测和控制炉内温度，从根本上保证了恒温区的精度和稳定性，彻底改变了常规扩散炉（炉外单控模式）必须靠不断拉恒温区，校准炉外温控仪与炉内实际温度的偏差来保证恒温区的控温方式。 气路部分的关键件均采用进口件，并具有完善的安全保护措施，可靠性好。 整机由计算机控制，各部分软、硬件联锁；操作部分采用先进的触摸屏技术，工艺参数的设置及运行均可在触摸屏上直接进行；自动化程度高、操作简便、可靠性好。 1.2主要用途及适用范围 本设备主要用于6英寸、8英寸太阳能晶体硅电池片的扩散、氧化工艺；也可用于半导体器件制造中的扩散、氧化、退火及合金工艺，同时还适用于对其他材料的特殊温度处理。 1.3使用环境要求 1.3.1 环境温度5～40℃。 1.3.2 相对湿度＜75％。 1.3.3 海拔不超过2500m。 1.3.4 电网电压波动不超过额定值±10%。 1.3.5 环境洁净度不劣于：1000级。 1.3.6 有良好的抽风排毒系统，每管抽风量3000～4500L/min。 1.3.7 无高频及较强的磁场干扰。 1.4工作条件要求 1.4.1 电力规格： 扩散炉电器系统遵守下列安全规定： ●NFPA-79工业设备电器标准 ● NFPA-70国际电工标准 采用3相+中线+地线5线制供电，电网电压波动不超过额定值的±10%；380VAC

(扩散炉)结构功能原理情况说明OK

产品结构功能情况说明 扩散炉4 STACK FURN（旧），具体情况如下： 一、结构用途 扩散炉4 STACK FURN是纳米半导体元器件研制中的工艺之一，主要是由高温炉反应室、温度控制系统及进排气系统组成，其用各种于各种化学气相沉积工艺将氧化剂以扩散方式在高温炉腔内制备高度稳定性的化学性和电绝缘性的二氧化硅等材料，所以将其归在“氧化、扩散、退火及其他热处理设备(制造半导体器件或集成电路用的)”（HS编码：8486201000）。 二、功能： 扩散炉4 STACK FURN，其主要功能是将反应气体在高温炉管内和硅片表面发生化学反应，从而生成二氧化硅材料，也是用于制备各种特种纳米半导体工艺器件之一。 三、工作原理： 扩散炉4 STACK FURN，由于二氧化硅被广泛用于半导体元器件的保护层和钝化层，以及电性能的隔离、绝缘材料和电容器的介质膜等。当硅置于含洋气的环境下，氧分子将通过一层边界层达到硅的表面，并与硅原子反应生成二氧化硅，以形成的二氧化硅层阻止了氧化剂与Si表面的直接接触。与此同时氧化剂以扩散的方式通过二氧化硅层到达SiO2—Si界面与硅原子反应，生成新的SiO2层，从而使SiO2膜不断生成增厚。 四、工艺流程： 将反应气体由气相传输至硅表面生成SiO2，然后将位于SiO2表面的氧化剂穿透已经生成的SiO2膜扩散到SiO2—Si界面，最后将到达的SiO2—Si界面与硅原子反应，进而最终生成新的SiO2层。 五、品牌型号： 品牌：SVG 型号：5200 六、动力情况： 因为设备运行需要完整的水电气等动力条件，该设备已经拆机并存放在仓库中，不具备通电检查的条件，故进口后会在现场准备完整的动力条件后恢复设备的正常功能。 苏州赛森电子科技有限公司 2017年4月

扩散炉安装说明书

扩散炉 安装调试说明书 中联科利 2009年2月

目录 1．概述 (2) 2．设备的标识 (2) 3．设备的安装 (2) 3．1机械安装 (2) 3．1．1安装要求 (2) 3．1．2安装程序及注意事项 (3) 3．2电气安装 (3) 3．2．1安装要求 (3) 3．3．2安装程序及注意事项 (4) 4．关键部件的装调 (5) 4．1 SiC桨及石英炉门的装调 (5) 4．1．1装调步骤 (5) 4．1．2注意事项 (6) 4．2 恒温区的调试方法及验收判据 (6) 5．调试时的安全要求 (17)

1．概述 为了加强产品在安装调试过程中的质量控制、规范操作，确保设备合格率以及防止安全事故的发生，特制定高温扩散/氧化系统安装调试说明书；设备在出所前的装配调试以及调机人员在用户现场的安装调试均应严格按照此执行。 2.设备的标识 1．在设备的安装、调试及检验过程中，应在设备整体左端1.5米高处挂上设备的工作状态标识。 2．设备的铭牌统一钉在净化操作台的后盖板底部。 3．在设备中的强电裸露处和气源柜内应有相应的警示标识。 4．在设备的安装、调试及检验过程中，视用电情况应在配电箱上设置“严禁拉闸”或“严禁合闸”标识。 3.设备的安装 3.1机械安装 3.1.1安装要求 1．设备应该在相对洁净的场地安装，装配人员在进入安装现场前应先换鞋；气路安装应在洁净度更高的专用房间内进行，非装配人员不得随意进入。气路安装应严格按照《气路装配间管理规章制度》和《高温扩散/氧化系统气路装配技术规范》执行。 2．装配前要由相应设计人员对送来的机架、门板以及机加工件等仔细核对尺寸、检查外观质量，如果不符合设计要求，应拒绝签收，同时与品质部联系下一步的处理办法。设计者本人不在时，由项目组长指定人员验收。 3．设备机架就位时应摆放整齐，注意与现场其他设备的位置协调一致。 4．装配工具及标准件等要整齐放置,不得随意乱丢。工作场地要随脏随扫，在安装过程中如果局部产生粉尘、铁屑等，应及时用毛刷及吸尘器将尘埃清理干净。 5．装配过程中遇到标准件不足等情况时，应及时向项目组长反映，不得随意以其他不同规格的标准件替代。 6．装配过程中非攻丝螺钉的安装，必须加装平垫和弹簧垫片。 7．装配过程中如果发现问题,应及时通知设计人员或项目组长；如问题较复杂或涉及面较广,应上报公司设计部和管理工程部相关领导，召开联合会议讨论解决方案,

tempress扩散炉工艺操作手册

Operator Manual Expert in Furnace technology Tempress? Systems, Inc. Technical Reference manual M410_03 Sep 2008

Preface This set of manuals explains how to operate a Horizontal Diffusion/LPCVD furnace. Refer to the Touchscreen reference manual (part. Nr.) or the TSC-2 reference manual (part nr.) for a full description of all operating screens. For information about processing refer to the Process Manual (part. Nr) and for information about maintenance, refer to the maintenance manual (part nr). The Tempress Horizontal Diffusion Furnaces are fully described in the reference manuals (part. Nr’s). Tempress documentation set The complete Tempress documentation set includes: ?Safety manual ?Operator manual ?Reference manuals 1.Loadstation 2.Furnace 3.Gas cabinet 4.Main Power cabinet 5.DPC 6.DTC 7.Touchscreen 8.TSC-2 (+ SECS/GEM) ?Vendor documentation Delivery’s on request: ?Vendor documentation 1.Digital pressure switch 2.Mass Flow Controllers 3.External torch controller ?Sic and Quartz drawings ?RS422 protocol (DPC/DTC) User Definition It is strongly recommended that all users first read this manual before starting any procedure. To produce an accessible manual suiting on various responsibilities, Tempress defines the following users: Operator The operator is handling the process from loading until unloading of the wafers. Therefore the operator needs to select a recipe, put the wafers on the boat, fill in Lot ID, Start the process, monitor the progress and unload wafers. Process engineer The process engineer is a qualified chemical engineer, who is responsible for the process recipes and their results. The process engineer writes, tests and releases new process recipes. Service or Maintenance engineer The maintenance engineer is a qualified electrician or mechanic, who is responsible for a proper functioning system in accordance to its designated purpose. A Tempress qualified service engineer will perform the first installation.