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平面机构结构分析思考题与习题

平面机构结构分析思考题与习题
平面机构结构分析思考题与习题

平面机构结构分析思考题与习题

1、高副低代的特殊形式

试画出高副低代后的低副机构。图中N1为凸轮廓线在C点接触时的曲率中心。

平底摆动从动件凸轮机构尖端移动从动件凸轮机构

2、思考题

机构究竟是怎样组成的?按照该组成原理为什么机构的运动一定是确定的?

什么是杆组?如何确定杆组的级别?III级杆组有何特点?III级杆组能分解成两个Ⅱ级杆组吗?试举例说明。

试叙述在进行机构组成分析时拆杆组的原则和步骤。

如何确定机构的级别?当图示的机构选择不同的构件(分别为AB和DE)作原动件时,对机构的级别有何影响?

高副低代必须满足的条件是什么?

怎样保证高副低代前后机构瞬时速度和加速度不变?

为何说高副低代具有瞬时性?高副低代的目的和意义何在?

3、习题

计算下列各题中机构的自由度,并在高副低代后进行机构组成分析,拆出(画出)各杆组,确定杆组和机构的级别。

(A)(B)

4、答案

1)高副低代

平底摆动从动件凸轮机构尖端移动从动件凸轮机构

3)

(A)自由度:n=4, P L=5, P H=1,F=3n-2P L-P H=3×4-2×5-1×1=1。

高副低代拆出1个Ⅲ级组,故机构为Ⅲ级机构(B)n=3, PL=3, PH=2, F=3n-2PL-PH=3×3-2×3-1×2=1。

高副低代拆出2个Ⅱ级组,故机构为Ⅱ级机构

精细化学品结构解析习题册2015

第二章色谱选择题 1.色谱法分离混合物的可能性决定于试样混合物在固定相中()的差别。 A. 沸点差, B. 温度差, C. 吸光度, D. 分配系数。 3、选择固定液时,一般根据()原则。 A. 沸点高低, B. 熔点高低, C. 相似相溶, D. 化学稳定性。 2.一般气相色谱法适用于 ( ) (1) 任何气体的测定 (2) 任何有机和无机化合物的分离、测定 (3) 无腐蚀性气体与在气化温度下可以气化的液体的分离与测定 (4) 任何无腐蚀性气体与易挥发的液体、固体的分离与鉴定 3.在GC中, 程序升温适用于分离 ( ) (1)几何异构体 (2)沸点不同官能团相同的试样 (3)沸点相近官能团相似的试样 (4)沸点范围很宽的复杂试样 第三四章选择题 1. 催化氧化法测有机物中的碳和氢的含量时,CO2和H2O所采用的吸收剂为()A、都是碱石棉B、都是高氯酸镁 C、CO2是碱石棉,H2O是高氯酸镁 D、CO2是高氯酸镁,H2O是碱石棉 2. 采用氧瓶燃烧法测定硫的含量,有机物中的硫转化为() A、H2S B、SO2 C、SO3 D、SO2和SO3 3. 测定有机化合物中的硫,可用氧瓶法分解试样,使硫转化为硫的氧化物,并在过氧化氢溶液中转化为SO42-,然后用钍啉作指示剂,BaCl2标准溶液作滴定剂,在()介质中直接滴定。A、水溶液B、80%乙醇溶液 C、三氯甲烷溶液 D、冰乙酸溶液 4. 有机物中硫含量的测定时,常加入()做屏蔽剂,使终点颜色变化更敏锐。 A次甲基蓝B溴甲酚绿C百里酚蓝D孔雀石绿 5. 含氮有机物在催化剂作用下,用浓硫酸煮沸分解,有机物中的氮转变为氨气,

被浓硫酸吸收生成NH4HSO4的过程称为()A催化B分解C消化D吸收 6. 凯达尔定氮法的关键步骤是消化,为加速分解过程,缩短消化时间,常加入 适量的()。 A、无水碳酸钠B无水碳酸钾C、无水硫酸钾D、草酸钾 7. 克达尔法也称硫酸消化法,其分析全过程包括 A 消化、分解、吸收 B 消化、碱化蒸馏、吸收、滴定 C 溶解、中和、吸收、滴定 D 消化、酸化、吸收、滴定 8. 杜马法测定氮时,试样在装有氧化铜和还原铜的燃烧管中燃烧分解,有机含氮化合物中的氮转变为()A.氮气 B.一氧化氮 C.氧化二氮 D.氨气 9. 燃烧分解法测定C、H元素时,若样品还含有N元素,产物CO2、H2O、NO2三个吸收管的顺序为()A、CO2、H2O、NO2 B、H2O、CO2 、NO2 C、H2O、NO2 CO2 D、CO2、NO2 、H2O 10. 氧瓶燃烧法测定卤素含量时,常用()标准滴定溶液测定卤离子的含量。 A、硝酸汞 B、二苯卡巴腙 C、氢氧化钠 D、盐酸 11.一般用()裂解含氮有机物,释放氨。 A 浓硫酸B浓盐酸 C 苛性碱 D 熔融法 12. 韦氏法常用于测定油脂的碘值,韦氏液的主要成分是( )。A、氯化碘 B、碘化钾 C、氯化钾 D、碘单质 13. ()重氮化法可以测定:A、脂肪伯胺B、脂肪仲胺C、芳伯胺D、芳仲胺 14. 碘值是指A、100g样品相当于加碘的克数B、1g样品相当于加碘的克数C、100g样品相当于加碘的毫克数D、1g样品相当于加碘的毫克数15. 羟值是指A、100g样品中的羟基相当于氢氧化钾的克数B、1g 样品中的羟基相当于氢氧化钾的克数C、100g样品中的羟基相当于氢氧化钾的毫克数D、1g样品中的羟基相当于氢氧化钾的毫克数 16. 肟化法测定羰基化合物加入吡啶的目的是 A、催化剂B、调节溶液的酸度C、抑制逆反应发生D、加快反应速度 17. 高碘酸氧化法可测定()A、伯醇B、仲醇C、叔醇 D、α-多羟基醇 18. 有机物的溴值是指()。A、有机物的含溴量B、100g有机物需加成的溴的质量(g) C、100g有机物需加成的溴的物质的量D、与100g溴加成时消耗的有机物的质量(g) 19. 酯基的定量分析方法是( )。 A.皂化法 B.氧化法 C.中和法 D.沉淀法 质谱选择题

材料物理专业《材料分析测试方法A》作业

材料物理专业《材料分析测试方法A 》作业 第一章 电磁辐射与材料结构 一、教材习题 1-1 计算下列电磁辐射的有关参数: (1)波数为3030cm -1的芳烃红外吸收峰的波长(μm ); (2)5m 波长射频辐射的频率(MHz ); (3)588.995nm 钠线相应的光子能量(eV )。 1-3 某原子的一个光谱项为45F J ,试用能级示意图表示其光谱支项与塞曼能级。 1-5 下列原子核中,哪些核没有自旋角动量? 12C 6、19F 9、31P 15、16O 8、1H 1、14N 7。 1-8 分别在简单立方晶胞和面心立方晶胞中标明(001)、(002)和(003)面,并据此回答: 干涉指数表示的晶面上是否一定有原子分布?为什么? 1-9 已知某点阵∣a ∣=3?,∣b ∣=2?,γ = 60?,c ∥a ×b ,试用图解法求r *110与r *210。 1-10 下列哪些晶面属于]111[晶带? )331(),011(),101(),211(),231(),132(),111(。 二、补充习题 1、试求加速电压为1、10、100kV 时,电子的波长各是多少?考虑相对论修正后又各是多 少? 第二章 电磁辐射与材料的相互作用 一、教材习题 2-2 下列各光子能量(eV )各在何种电磁波谱域内?各与何种跃迁所需能量相适应? 1.2×106~1.2×102、6.2~1.7、0.5~0.02、2×10-2~4×10-7。 2-3 下列哪种跃迁不能产生? 31S 0—31P 1、31S 0—31D 2、33P 2—33D 3、43S 1—43P 1。 2-5 分子能级跃迁有哪些类型?紫外、可见光谱与红外光谱相比,各有何特点? 2-6 以Mg K α(λ=9.89?)辐射为激发源,由谱仪(功函数4eV )测得某元素(固体样品) X 射线光电子动能为981.5eV ,求此元素的电子结合能。 2-7 用能级示意图比较X 射线光电子、特征X 射线与俄歇电子的概念。 二、补充习题 1、俄歇电子能谱图与光电子能谱图的表示方法有何不同?为什么? 2、简述X 射线与固体相互作用产生的主要信息及据此建立的主要分析方法。 第三章 粒子(束)与材料的相互作用 一、教材习题 3-1 电子与固体作用产生多种粒子信号(教材图3-3),哪些对应入射电子?哪些是由电子 激发产生的?

材料现代分析方法试题及答案1

《现代材料分析方法》期末试卷1 一、单项选择题(每题 2 分,共10 分) 1.成分和价键分析手段包括【b 】 (a)WDS、能谱仪(EDS)和XRD (b)WDS、EDS 和XPS (c)TEM、WDS 和XPS (d)XRD、FTIR 和Raman 2.分子结构分析手段包括【 a 】 (a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和WDS (c)SEM、TEM 和STEM(扫描透射电镜)(d)XRD、FTIR 和Raman 3.表面形貌分析的手段包括【 d 】 (a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)(b) SEM 和透射电镜(TEM) (c) 波谱仪(WDS)和X 射线光电子谱仪(XPS)(d) 扫描隧道显微镜(STM)和 SEM 4.透射电镜的两种主要功能:【b 】 (a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构 (c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键 5.下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括:【 c 】 (a)–C-H、–OH 和–NH2 (b) –C-H、和–NH2, (c) –C-H、和-C=C- (d) –C-H、和CO 二、判断题(正确的打√,错误的打×,每题2 分,共10 分) 1.透射电镜图像的衬度与样品成分无关。(×)2.扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。(√)3.透镜的数值孔径与折射率有关。(√)

4.放大倍数是判断显微镜性能的根本指标。(×)5.在样品台转动的工作模式下,X射线衍射仪探头转动的角速度是样品转动角 速度的二倍。(√) 三、简答题(每题5 分,共25 分) 1. 扫描电镜的分辨率和哪些因素有关?为什么? 和所用的信号种类和束斑尺寸有关,因为不同信号的扩展效应不同,例如二次电子产生的区域比背散射电子小。束斑尺寸越小,产生信号的区域也小,分辨率就高。 2.原子力显微镜的利用的是哪两种力,又是如何探测形貌的? 范德华力和毛细力。 以上两种力可以作用在探针上,致使悬臂偏转,当针尖在样品上方扫描时,探测器可实时地检测悬臂的状态,并将其对应的表面形貌像显示纪录下来。 3.在核磁共振谱图中出现多重峰的原因是什么? 多重峰的出现是由于分子中相邻氢核自旋互相偶合造成的。在外磁场中,氢核有两种取向,与外磁场同向的起增强外场的作用,与外磁场反向的起减弱外场的作用。根据自选偶合的组合不同,核磁共振谱图中出现多重峰的数目也有不同,满足“n+1”规律 4.什么是化学位移,在哪些分析手段中利用了化学位移? 同种原子处于不同化学环境而引起的电子结合能的变化,在谱线上造成的位移称为化学位移。在XPS、俄歇电子能谱、核磁共振等分析手段中均利用化学位移。 5。拉曼光谱的峰位是由什么因素决定的, 试述拉曼散射的过程。 拉曼光谱的峰位是由分子基态和激发态的能级差决定的。在拉曼散射中,若光子把一部分能量给样品分子,使一部分处于基态的分子跃迁到激发态,则散射光能量减少,在垂直方向测量到的散射光中,可以检测到频率为(ν0 - Δν)的谱线,称为斯托克斯线。相反,若光子从样品激发态分子中获得能量,样品分子从激发态回到基态,则在大于入射光频率处可测得频率为(ν0 + Δν)的散射光线,称为反斯托克斯线 四、问答题(10 分) 说明阿贝成像原理及其在透射电镜中的具体应用方式。 答:阿贝成像原理(5 分):平行入射波受到有周期性特征物体的散射作用在物镜的后焦面上形成衍射谱,各级衍射波通过干涉重新在像平面上形成反映物的特征的像。在透射电镜中的具体应用方式(5 分)。利用阿贝成像原理,样品对电子束起散射作用,在物镜的后焦面上可以获得晶体的衍射谱,在物镜的像面上形成反映样品特征的形貌像。当中间镜的物面取在物镜后焦面时, 则将衍射谱放大,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样;当中间镜物面取在物镜的像面上时,则将图像进一步放大,这就是电子显微镜中的成像操作。 五、计算题(10 分) 用Cu KαX 射线(λ=0.15405nm)的作为入射光时,某种氧化铝的样品的XRD 图谱如下,谱线上标注的是2θ的角度值,根据谱图和PDF 卡片判断该氧化铝的类型,并写出XRD 物相分析的一般步骤。 答:确定氧化铝的类型(5 分) 根据布拉格方程2dsinθ=nλ,d=λ/(2sinθ) 对三强峰进行计算:0.2090nm,0.1604nm,0.2588nm,与卡片10-0173 α-Al2O3 符合,进一步比对其他衍射峰的结果可以确定是α-Al2O3。 XRD 物相分析的一般步骤。(5 分) 测定衍射线的峰位及相对强度I/I1: 再根据2dsinθ=nλ求出对应的面间距 d 值。 (1) 以试样衍射谱中三强线面间距d 值为依据查Hanawalt 索引。

山东大学材料分析考试题-revised

1.简述扫描电镜、透射电镜、电子探针、X射线衍射仪的用途。 扫描电镜:利用电子束样品表面扫描激发出来代表样品表面特征的信号成像,主要用来观察样品表面形貌,也可以成成分像。 透射电镜:衍射花样像(单晶,多晶结构分析);薄膜衍射成像(位错,晶粒等);复型薄膜成像(表面形貌) 电子探针:主要进行微区成分分析。可分析样品中所含元素种类及含量。可进行点分析,线分析,面分析等定性分析,也可进行定量分析。 X射线衍射仪:主要用于相结构分析。利用X射线衍射原理分析测定物质的晶体结构,织构及应力,精确的进行物相分析,定性分析,定量分析。 2.已知简单立方晶体晶格常数为 2 A0,在空间点阵和倒易空间中分别画出 (010),(101),(211)的晶面和相应的倒易点,并计算面间距和倒易矢量的长度。 3.画出晶体薄膜衍射成像的明场像、暗场像光路图,简述其成像原理;晶界、刃形位错、螺形位错、孪晶、层错、第二相粒子成像时各有何特征。 明场像:物镜光阑让透射束通过,挡住衍射束,I A ~I ,I B ~I -I hkl ~0,产生衬度 差异,A亮,B暗。 暗场像:物镜光阑让衍射束通过,挡住透射束,则I A ~I ,I B ~ I hkl ,A暗,B 亮。

晶界:产生等厚相间条纹。 刃型位错:呈线状。位错线像总出现在实际位置的一侧或另一侧。 螺型位错:锯齿状双线,也是反映畸变区。 孪晶:不等长度,不等宽度,明暗相间的条纹。 层错:等长度明暗相间的条纹,条纹是平行间距的。 第二相粒子:花瓣状,中间是无衬度的线状亮区。 4. 画出用爱瓦尔德球,解释为何入射电子束严格平行于晶体的[uvw]时,底片上 也有衍射斑点出现。 爱瓦尔德球用途:找到倒易点与衍射斑点的关系 原因:(1)薄晶体衍射,倒易点扩展为倒易杆,增加与爱瓦尔德球相交几率 *重合,(2)因θ<1°时,可近似将0*附近对应球面可近似看作平面,与(uvw) 增加与爱瓦尔德球相交几率 (3)加速电压不稳定,入不唯一,造成爱瓦尔德球有一定厚度,操作时不可能完全重合,也增加了相交几率 5. 简述电子探针波谱仪与能谱仪的异同点。(P233) 相同点:高速电子束轰击样品表面,利用电子束与样品相互作用激发出的特征x 射线,测量其λ和Ι,利用莫塞莱定律确定微区的定性、定量的化学成分。 不同点:WDS分析元素范围广、分辨率高、适于精确的定量分析,对样品表面要求高、分析速度慢,易引起样品和镜筒的污染。 EDS在分析元素范围、分辨率方面略逊,分析速度快、对样品表面要求不高、可用较小的束流和细微电子束,适于与SEM配合使用。 波谱仪的晶体分光特点,对波长为λ的X射线不仅可以在探测到n=1的一级X射线,同时可在其它θ角处探测到n为不同值的高级衍射线。 波谱定性分析不如能谱定性分析那么简单、直观,就要求对波谱进行更合乎逻辑的分析,以免造成错误。 (下面的表可以不写)

材料分析思考题(答案)

安徽工业大学材料分析测试技术复习思考题 第一章 X射线的性质 X射线产生的基本原理 1 X射线的本质:电磁波、高能粒子、物质 2 X射线谱:管电压、电流对谱的影响、短波限的意义等 连续谱短波限只与管电压有关,当固定管电压,增加管电流或改变靶时短波限λ0不变。随管电压增高,连续谱各波长的强度都相应增高,各曲线对应的最大值和短波限λ0都向短波方向移动。 3高能电子与物质相互作用可产生哪两种X射线?产生的机理? 连续X射线:当高速运动的电子(带电粒子)与原子核内电场作用而减速时会产生电磁辐射,这种辐射所产生的X射线波长是连续的,故称之为连续X射线。 特征(标识)X射线:由原子内层电子跃迁所产生的X射线叫做特征X射线。 X射线与物质的相互作用 1两类散射的性质 (1)相干散射:与原子相互作用后光子的能量(波长)不变,而只是改变了方向。这种散射称之为相干散射。 (2)非相干散射::与原子相互作用后光子的能量一部分传递给了原子,这样入射光的能量改变了,方向亦改变了,它们不会相互干涉,称之为非相干散射。 2二次特征辐射(X射线荧光)、饿歇效应产生的机理与条件 二次特征辐射(X射线荧光):由X射线所激发出的二次特征X射线叫X射线荧光。 俄歇效应:俄歇电子的产生过程是当原子内层的一个电子被电离后,处于激发态的电子 将产生跃迁,多余的能量以无辐射的形式传给另一层的电子,并将它激发出来。这种效应 称为俄歇效应。 第二章 X射线的方向 晶体几何学基础 1 晶体的定义、空间点阵的构建、七大晶系尤其是立方晶系的点阵几种类型 晶体:在自然界中,其结构有一定的规律性的物质通常称之为晶体 2 晶向指数、晶面指数(密勒指数)定义、表示方法,在空间点阵中的互对应 晶向指数(略) 晶面指数:对于同一晶体结构的结点平面簇,同一取向的平面不仅相互平行,而且,间距相等,质点分布亦相同,这样一组晶面亦可用一指数来表示,晶面指数的确定方法为: A、在一组互相平行的晶面中任选一个晶面,量出它在三个坐标轴上的截距并以点阵周期a、b、c为单位来度量; B、写出三个截距的倒数; C、将三个倒数分别乘以分母的最小公倍数,把它们化为三个简单整数h、k、l,再用圆括号括起,即为该组晶面的晶面指数,记为(hkl)。显然,h、k、l为互质整数。 3 晶带、晶带轴、晶带定律,立方晶系的晶面间距表达式 (1)晶带:在晶体结构和空间点阵中平行于某一轴向的所有晶面称为一个晶带。 (2)晶带轴:晶带中通过坐标原点的那条平行直线称为晶带轴。 (3).晶带定律:凡属于 [uvw] 晶带的晶面,它的晶面指数(HKL)必定符合条件: Hu + Kv + Lw = 0 4 厄瓦尔德作图法及其表述,它与布拉格方程的等同性证明

材料分析测试复习题及答案

材料分析测试方法复习题 第一部分 简答题: 1. X 射线产生的基本条件 答:①产生自由电子; ②使电子做定向高速运动; ③在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。 2. 连续X 射线产生实质 答:假设管电流为10mA ,则每秒到达阳极靶上的电子数可达6.25x10(16)个,如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同,并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hv (i )的光子序列,这样就形成了连续X 射线。 3. 特征X 射线产生的物理机制 答:原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K 、L 、M 、N 等 不同能级的壳层上,而且按能量最低原理从里到外逐层填充。当外来的高速度的粒子动能足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,于是在原来的位置出现空位,原子系统的能量升高,处于激发态,这时原子系统就要向低能态转化,即向低能级上的空位跃迁,在跃迁时会有一能量产生,这一能量以光子的形式辐射出来,即特征X 射线。 4. 短波限、吸收限 答:短波限:X 射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。 吸收限:把一特定壳层的电子击出所需要的入射光最长波长。 5. X 射线相干散射与非相干散射现象 答: 相干散射:当X 射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时,电子振动时向四周发射电磁波的散射过程。 非相干散射:当X 射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。 6. 光电子、荧光X 射线以及俄歇电子的含义 答:光电子:光电效应中由光子激发所产生的电子(或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子)。 荧光X 射线:由X 射线激发所产生的特征X 射线。 俄歇电子:原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位,这些能量被包括空位层在内的临近原子或较外层电子吸收,受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。 7. X 射线吸收规律、线吸收系数 答:X 射线吸收规律:强度为I 的特征X 射线在均匀物质内部通过时,强度的衰减与在物质内通过的距离x 成比例,即-dI/I=μdx 。 线吸收系数:即为上式中的μ,指在X 射线传播方向上,单位长度上的X 射线强弱衰减程度。 8. 晶面及晶面间距 答:晶面:在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面,使所有的节点均位于这组平面上,各平面的节点分布情况完全相同,这样的节点平面成为晶面。 晶面间距:两个相邻的平行晶面的垂直距离。 9. 反射级数与干涉指数 答:布拉格方程 表示面间距为d ’的(hkl )晶面上产生了n 级衍射,n 就是反射级数 λ θn Sin d ='2:

经典机构结构原理与分析

曲柄摇杆机构 曲柄AB为原动件作匀速转动,当它由AB1转到AB2位置时,转角φ1=180°+θ,摇杆由右极限位置C1D摆到左极限位置C2D摆角为ψ,当曲柄从AB2转到AB1时,转角φ2=180°-θ,摇杆由位置C2D返回C1D,其摆角仍为ψ,因为φ1>φ2 ,对应时间t1>t2,因此摇杆从C2D转到C1D较快,即具有急回特性,其中θ为摇杆处于两极限位置时曲柄两个位置之间所夹的锐角,称为极位夹角。 双摇杆机构 摇杆AB为原动件,通过连杆BC带动从动件CD也作往复摆动,虚线AB1、AB2为摇杆AB的两极限位置,也是当摇杆AB为原动件 时,机构的两死点位置。

双曲柄机构 当曲柄AB为原动件作匀速回转时,曲柄CD跟随作周期性的匀速圆周回转,当曲柄从位置AB1转过φ1角到位置AB2时,从动件CD转过180°,当曲柄从位置AB2转过φ2角到位置AB1时,从动件CD转过180°,因为φ1>φ2 ,即t1>t2,从动曲柄的角速度不是常数,而是作变角速度回转。 平行双曲柄机构 当机构处于AB1C1D和AB2C2D时,机构的传动角γ=0,即为死点位置,若在此位置由于偶然外力的影响,则可能使曲柄转向不定,出现误动作。 当原动件曲柄作匀速回转,从动曲柄也以相同角速度匀速同向回转,连杆作平移运动。

平行机构 该机构为机车驱动轮联动机构,是利用平行曲柄来消除机构死点位置的运动不确定状态的。 搅拌机 该机构是一曲柄摇杆机构的应用实例,利用连杆上E点的轨迹来进行搅拌。

夹具机构 当工件被夹紧后,BCD成一直线,机构处于死点位置,即使工件的反力很大,夹具也不会自动松脱,该例为利用死点位置的自锁特性来实现工作要求的。 K=1的曲柄摇杆机构 从动件摇杆处于两极限位置时,对应主动件曲柄位置AB1、AB2共线,即极位夹角θ=0,K=1,机构没有急回特性。

现代材料分析方法试题及答案

1. X射线衍射的几何条件是d、θ、λ必须满足什么公式?写出数学表达式,并说明d、θ、λ的意义。(5分)答:. X射线衍射的几何条件是d、θ、λ必须满足布拉格公式。(1分)其数学表达式:2dsinθ=λ(1分)其中d是晶体的晶面间距。(1分)θ是布拉格角,即入射线与晶面间的交角。(1分)λ是入射X 射线的波长。(1分) 4. 二次电子是怎样产生的?其主要特点有哪些?二次电子像主要反映试样的什么特征?用什么衬度解释?该衬度的形成主要取决于什么因素?(6分) 答:二次电子是单电子激发过程中被入射电子轰击出的试样原子核外电子。(1分) 二次电子的主要特征如下: (1)二次电子的能量小于50eV,主要反映试样表面10nm层内的状态,成像分辨率高。(1分) (2)二次电子发射系数δ与入射束的能量有关,在入射束能量大于一定值后,随着入射束能量的增加,二次电子的发射系数减小。(1分) (3)二次电子发射系数δ和试样表面倾角θ有关:δ(θ)=δ0/cosθ(1分) (4)二次电子在试样上方的角分布,在电子束垂直试样表面入射时,服从余弦定律。(1分) 二此电子像主要反映试样表面的形貌特征,用形貌衬度来解释,形貌衬度的形成主要取决于试样表面相对于入射电子束的倾角。(1分) 2. 布拉格角和衍射角: 布拉格角:入射线与晶面间的交角,(1.5 分) 衍射角:入射线与衍射线的交角。(1.5 分) 3. 静电透镜和磁透镜: 静电透镜:产生旋转对称等电位面的电极装置即为静电透镜,(1.5 分) 磁透镜:产生旋转对称磁场的线圈装置称为磁透镜。(1.5 分) 4. 原子核对电子的弹性散射和非弹性散射: 弹性散射:电子散射后只改变方向而不损失能量,(1.5 分) 非弹性散射:电子散射后既改变方向也损失能量。(1.5 分) 二、填空(每空1 分,共20 分) 1. X 射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法。 2.扫描仪的工作方式有连续扫描和步进扫描两种。 3. 在X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由粉末衍射标准联合 委员会编制,称为JCPDS 卡片,又称为PDF 卡片。 4. 电磁透镜的像差有球差、色差、轴上像散和畸变。 5.透射电子显微镜的结构分为光学成像系统、真空系统和电气系统。 1. X射线管中,焦点形状可分为点焦点和线焦点,适合于衍射仪工作的是线焦点。 2. 在X 射线物象分析中,定性分析用的卡片是由粉末衍射标准联合委员会编制,称为JCPDS 卡片,又称为PDF(或ASTM) 卡片。 3. X射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法。 4. 电磁透镜的像差有球差、色差、轴上像散和畸变。 5. 电子探针是一种显微分析和成分分析相结合的微区分析。 二、选择题(多选、每题4 分) 1. X射线是( A D ) A. 电磁波; B. 声波; C. 超声波; D. 波长为0.01~1000?。 2. 方程2dSinθ=λ叫( A D ) A. 布拉格方程; B. 劳厄方程; C. 其中θ称为衍射角; D. θ称为布拉格角。

材料分析方法考试试题大全doc剖析

材料结构分析试题1(参考答案) 一、基本概念题(共8题,每题7分) 1.X射线的本质是什么?是谁首先发现了X射线,谁揭示了X射线的本质?答:X射线的本质是一种横电磁波?伦琴首先发现了X射线,劳厄揭示了X射线的本质? 2.下列哪些晶面属于[111]晶带? (111)、(3 21)、(231)、(211)、(101)、(101)、(133),(-1-10),(1-12), (1- 32),(0 - 11),(212),为什么? 答:(- 1 - 10)(3 21)、(211)、(1 - 12)、( - 101)、(0 - 11)晶面属于[111]晶带, 因为它们符合晶带定律:hu+kv+lw=0。 3.多重性因子的物理意义是什么?某立方晶系晶体,其{100}的多重性因子是多少?如该晶体转变为四方晶系,这个晶面族的多重性因子会发生什么变化?为什么? 答:多重性因子的物理意义是等同晶面个数对衍射强度的影响因数叫作多重性因子。某立方晶系晶体,其{100}的多重性因子是6?如该晶体转变为四方晶系多重性因子是4;这个晶面族的多重性因子会随对称性不同而改变。 4.在一块冷轧钢板中可能存在哪几种内应力?它们的衍射谱有什么特点? 答:在一块冷轧钢板中可能存在三种内应力,它们是:第一类内应力是在物 体较大范围内或许多晶粒范围内存在并保持平衡的应力。称之为宏观应力。它能 使衍射线产生位移。第二类应力是在一个或少数晶粒范围内存在并保持平衡的内应力。它一般能使衍射峰宽化。第三类应力是在若干原子范围存在并保持平衡的内应力。它能使衍射线减弱。 5.透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何? 答:四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统。 其中电子光学系统是其核心。其他系统为辅助系统。 6.透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何? 答:主要有三种光阑: ①聚光镜光阑。在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。作用:限制

材料物理性能思考题

材料物理性能思考题 第一章:材料电学性能 1如何评价材料的导电能力?如何界定超导、导体、半导体和绝缘体材料? 2 经典导电理论的主要内容是什么?它如何解释欧姆定律?它有哪些局限性? 3 自由电子近似下的量子导电理论如何看待自由电子的能量和运动行为? 4 根据自由电子近似下的量子导电理论解释:准连续能级、能级的简并状态、 简并度、能态密度、k空间、等幅平面波和能级密度函数。 5 自由电子近似下的等能面为什么是球面?倒易空间的倒易节点数与不含自旋 的能态数是何关系?为什么自由电子的波矢量是一个倒易矢量? 6 自由电子在允许能级的分布遵循何种分布规律?何为费米面和费米能级?何 为有效电子?价电子与有效电子有何关系?如何根据价电子浓度确定原子的费米半径? 7 自由电子的平均能量与温度有何种关系?温度如何影响费米能级?根据自由 电子近似下的量子导电理论,试分析温度如何影响材料的导电性。 8 自由电子近似下的量子导电理论与经典导电理论在欧姆定律的微观解释方面 有何异同点?

9 何为能带理论?它与近自由电子近似和紧束缚近似下的量子导电理论有何关 系? 10 孤立原子相互靠近时,为什么会发生能级分裂和形成能带?禁带的形成规律 是什么?何为材料的能带结构? 11 在布里渊区的界面附近,费米面和能级密度函数有何变化规律?哪些条件下 会发生禁带重叠或禁带消失现象?试分析禁带的产生原因。 12 在能带理论中,自由电子的能量和运动行为与自由电子近似下有何不同? 13 自由电子的能态或能量与其运动速度和加速度有何关系?何为电子的有效质 量?其物理本质是什么? 14 试分析、阐述导体、半导体(本征、掺杂)和绝缘体的能带结构特点。 15 能带论对欧姆定律的微观解释与自由电子近似下的量子导电理论有何异同 点? 16 解释原胞、基矢、基元和布里渊区的含义

材料结构分试题4(参考答案)

材料结构分析试题4(参考答案) 一、基本概念题(共8题,每题7分) 1.实验中选择X射线管以及滤波片的原则是什么?已知一个以Fe为主要成分的样品,试选择合适的X射线管和合适的滤波片 答:实验中选择X射线管的原则是为避免或减少产生荧光辐射,应当避免使用 比样品中主元素的原子序数大2~6(尤其是2)的材料作靶材的X射线管。 选择滤波片的原则是X射线分析中,在X射线管与样品之间一个滤波片, 以滤掉K 线。滤波片的材料依靶的材料而定,一般采用比靶材的原子序数小1β 或2的材料。 以分析以铁为主的样品,应该选用Co或Fe靶的X射线管,同时选用Fe和Mn 为滤波片。 2.试述获取衍射花样的三种基本方法及其用途? 答:获取衍射花样的三种基本方法是劳埃法、旋转晶体法和粉末法。劳埃法主要用于分析晶体的对称性和进行晶体定向;旋转晶体法主要用于研究晶体结构;粉末法主要用于物相分析。 3.原子散射因数的物理意义是什么?某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系? 答:原子散射因数f 是以一个电子散射波的振幅为度量单位的一个原子散射波的振幅。也称原子散射波振幅。它表示一个原子在某一方向上散射波的振幅是一个电子在相同条件下散射波振幅的f倍。它反映了原子将X射线向某一个方向散射时的散射效率。 原子散射因数与其原子序数有何关系,Z越大,f 越大。因此,重原子对X射线散射的能力比轻原子要强。 4.用单色X射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成什么图案?为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录?

答:用单色X 射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成一组锥心角不等的圆锥组成的图案;为摄取德拜图相,应当采用带状的照相底片去记录。 5.什么是缺陷不可见判据? 如何用不可见判据来确定位错的布氏矢量? 答:缺陷不可见判据是指:0=?R g ? ?。确定位错的布氏矢量可按如下步骤:找到两个操作发射g1和g2,其成像时位错均不可见,则必有g1·b =0,g2·b =0。这就是说,b 应该在g 1和g 2所对应的晶面(h 1k 1l 1)he (h 2k 2l 2)内,即b 应该平行于这两个晶面的交线,b =g 1×g 2,再利用晶面定律可以求出b 的指数。至于b 的大小,通常可取这个方向上的最小点阵矢量。 6.二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处? 说明二次电子像衬度形成原理。 答:二次电子像: 1)凸出的尖棱,小粒子以及比较陡的斜面处SE 产额较多,在荧光屏上这部分的亮度较大。 2)平面上的SE 产额较小,亮度较低。 3)在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子,使其不易被控制到,因此相应衬度也较暗。 背散射电子像 1)用BE 进行形貌分析时,其分辨率远比SE 像低。 2)BE 能量高,以直线轨迹逸出样品表面,对于背向检测器的样品表面,因 检测器无法收集到BE 而变成一片阴影,因此,其图象衬度很强,衬度太大会失去细节的层次,不利于分析。因此,BE 形貌分析效果远不及SE ,故一般不用BE 信号。 二次电子像衬度形成原理: 成像原理为:二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感。 如图所示,随入射束与试样表面法线夹角增大,二次电子产额增大。 5.5 表面形貌衬度原理及其应用 5.5.1 二次电子成像原理SE 信号主要用于分析样品表面形貌。(5-10 nm 范围)二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感,如图所示,随入射束与试样表面法线夹角增大,二次电子产额增大。成像原理 因为电子束穿入样品激发二次电子的有效深度增加了,使表面5-10 nm 作用体积内逸出表面的二次电子数量增多。

材料分析方法部分课后习题答案(供参考)

第一章X 射线物理学基础 2、若X 射线管的额定功率为1.5KW,在管电压为35KV 时,容许的最大电流是多少? 答:1.5KW/35KV=0.043A。 4、为使Cu 靶的Kβ线透射系数是Kα线透射系数的1/6,求滤波片的厚度。 答:因X 光管是Cu 靶,故选择Ni 为滤片材料。查表得:μ m α=49.03cm2/g,μ mβ=290cm2/g,有公式,,,故:,解得:t=8.35um t 6、欲用Mo 靶X 射线管激发Cu 的荧光X 射线辐射,所需施加的最低管电压是多少?激发出的荧光辐射的波长是多少? 答:eVk=hc/λ Vk=6.626×10-34×2.998×108/(1.602×10-19×0.71×10-10)=17.46(kv) λ 0=1.24/v(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm) 其中h为普郎克常数,其值等于6.626×10-34 e为电子电荷,等于1.602×10-19c 故需加的最低管电压应≥17.46(kv),所发射的荧光辐射波长是0.071纳米。 7、名词解释:相干散射、不相干散射、荧光辐射、吸收限、俄歇效应 答:⑴当χ射线通过物质时,物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动,受迫振动产生交变电磁场,其频率与入射线的频率相同,这种由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称为相干散射。 ⑵当χ射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射χ射线长的χ射线,且波长随散射方向不同而改变,这种散射现象称为非相干散射。 ⑶一个具有足够能量的χ射线光子从原子内部打出一个K 电子,当外层电子来填充K 空位时,将向外辐射K 系χ射线,这种由χ射线光子激发原子所发生的辐射过程,称荧光辐射。或二次荧光。 ⑷指χ射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量,如入射光子的能量必须等于或大于将K 电子从无穷远移至K 层时所作的功W,称此时的光子波长λ称为K 系的吸收限。 ⑸原子钟一个K层电子被光量子击出后,L层中一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量使L层中另一个电子获得能量越出吸收体,这样一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应。 第二章X 射线衍射方向 2、下面是某立方晶第物质的几个晶面,试将它们的面间距从大到小按次序重新排列:(123),(100),(200),(311),(121),(111),(210),(220),(130),(030),(221),(110)。 答:立方晶系中三个边长度相等设为a,则晶面间距为d=a/ 则它们的面间距从大小到按次序是:(100)、(110)、(111)、(200)、(210)、(121)、(220)、(221)、(030)、(130)、

材料研究方法思考题答案重点及真题汇编

第1章 1、材料是如何分类的?材料的结构层次有哪些? 答:材料按化学组成和结构分为:金属材料、无机非金属材料、高分子材料、复合材料; 按性能特征分为:结构材料、功能材料; 按用途分为:建筑材料、航空材料、电子材料、半导体材料、生物材料、医用材料。 材料的结构层次有:微观结构、亚微观结构、显微结构、宏观结构。 2、材料研究的主要任务和对象是什么,有哪些相应的研究方法? 答:任务:材料研究应着重于探索制备过程前后和使用过程中的物质变化规律,也就是在此基础上探明材料的组成(结构)、合成(工艺过程)、性能和效能及其之间的相互关系,或者说找出经一定工艺流程获得的材料的组成(结构)对于材料性能与用途的影响规律,以达到对材料优化设计的目的,从而将经验性工艺逐步纳入材料科学与工程的轨道. 研究对象和相应方法见书第三页表格。 3、材料研究方法是如何分类的?如何理解现代研究方法的重要性? 答:按研究仪器测试的信息形式分为图像分析法和非图像分析法;按工作原理,前者为显微术,后者为衍射法和成分谱分析。 第2章 1、简述现代材料研究的主X射线实验方法在材料研究中有那些主要应用? 答:现代材料研究的主X射线实验方法在材料研究中主要有以下几种应用: (1)X射线物相定性分析:用于确定物质中的物相组成 (2)X射线物相定量分析:用于测定某物相在物质中的含量 (3)X射线晶体结构分析:用于推断测定晶体的结构 2、试推导Bragg方程, 并对方程中的主要参数的范围确定进行讨论. 答:见书第97页。 3、X射线衍射试验主要有那些方法, 他们各有哪些应用,方法及研究对象. 答: 实验方法所用 辐射 样 品 照相法衍射仪法 粉末法劳厄法转晶法单色辐射 连续辐射 单色辐射 多晶或晶 体粉末 单晶体 单晶体 样品转动或固定 样品固定 样品转动或固定 德拜照相 机 劳厄相机 转晶-回 摆照相机 粉末衍射仪 单晶或粉末衍 射仪 单晶衍射仪 最基本的衍射实验方法有:粉末法,劳厄法和转晶法三种。由于粉末法在晶体学研究中应用最广泛,而且实验方法及样品的制备简单,所以,在科学研究和实际生产中的应用不可缺少;而劳厄法和转晶法主要应用于单晶体的研究,特别是在晶体结构的分析中必不可少,在某种场合下是无法替代的。 第3章 1、如何提高显微镜分辨本领,电子透镜的分辨本领受哪些条件的限制? 答:分辨本领:指显微镜能分辨的样品上两点间的最小距离;以物镜的分辨本领来定义显微镜的分辨本领。光学透镜:d0 =0.061λ/n·sinα= 0.061λ/N·A,式中:λ是照明束波长;α是透镜孔径半角; n是物方介 质折射率;n·sinα或N·A称为数值孔径。 在物方介质为空气的情况下,N·A值小于1。即使采用油浸透镜(n=1.5;α一般为70°~75°), N·A值也不会超过1.35。所以 d0≈1/2λ。因此,要显著地提高显微镜的分辨本领,必须使用波长比可见光短得多的 照明源。

材料结构分析试题5(参考答案)

材料结构分析试题5(参考答案) 一、基本概念题(共8题,每题7分) 1.若X射线管的额定功率为1.5kW,在管电压为35kV时,容许的最大电流是多少? 答:1.5kW/35kV=0.043A 2.证明(011-)、(121-)、(21 3-)、(0-11)、(1-32)晶面属于[111]晶带。答:根据晶带定律公式Hu+Kv+Lw=0计算 (011-)晶面:1×1+1×-1+0×1=1—1+0=0 (121-)晶面:1×1+1×-2+1×1=1—2+1=0 (21 3-)晶面:-3×1+2×1+1×1=(—3)+2+1=0 (0- 11)晶面:0×1+ - 1×1+1×1=0+(—1)+1=0 (1- 32)晶面:1×1+ - 3×1+1×2=1+(—3)+2=0 因此,经上五个晶面属于[111]晶带。 3.当X射线在原子例上发射时,相邻原子散射线在某个方向上的波程差若不为波长的整数倍,则此方向上必然不存在放射,为什么? 答:因为X射线在原子上发射的强度非常弱,需通过波程差为波长的整数倍而产生干涉加强后才可能有反射线存在,而干涉加强的条件之一必须存在波程差,且波程差需等于其波长的整数倍,不为波长的整数倍方向上必然不存在反射。 4.某一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来,其θ较高抑或较低?相应的d较大还是较小? 答:背射区线条与透射区线条比较θ较高,d较小。 产生衍射线必须符合布拉格方程2dsinθ=λ,对于背射区属于2θ高角度区, 根据d=λ/2sinθ,θ越大d越小。 5.已知Cu3Au为面心立方结构,可以以有序和无序两种结构存在,请画出其有序和无序结构[001]晶带的电子衍射花样,并标定出其指数。

材料现代分析方法练习题及答案(rd,ebsd,tem,sem,表面分析)

8. 什么是弱束暗场像与中心暗场像有何不同试用Ewald图解说明。 答:弱束暗场像是通过入射束倾斜,使偏离布拉格条件较远的一个衍射束通过物镜光阑,透射束和其他衍射束都被挡掉,利用透过物镜光阑的强度较弱的衍射束成像。 与中心暗场像不同的是,中心暗场像是在双光束的条件下用的成像条件成像,即除直射束外只有一个强的衍射束,而弱束暗场像是在双光阑条件下的g/3g的成像条件成像,采用很大的偏离参量s。中心暗场像的成像衍射束严格满足布拉格条件,衍射强度较强,而弱束暗场像利用偏离布拉格条件较远的衍射束成像,衍射束强度很弱。采用弱束暗场像,完整区域的衍射束强度极弱,而在缺陷附近的极小区域内发生较强的反射,形成高分辨率的缺陷图像。图:PPT透射电子显微技术1页 10. 透射电子显微成像中,层错、反相畴界、畴界、孪晶界、晶界等衍衬像有何异同用什么办法及根据什么特征才能将它们区分开来 答:由于层错区域衍射波振幅一般与无层错区域衍射波振幅不同,则层错区和与相邻区域形成了不同的衬度,相应地出现均匀的亮线和暗线,由于层错两侧的区域晶体结构和位相相同,故所有亮线和暗线的衬度分别相同。层错衍衬像表现为平行于层错面迹线的明暗相间的等间距条纹。 孪晶界和晶界两侧的晶体由于位向不同,或者还由于点阵类型不同,一边的晶体处于双光束条件时,另一边的衍射条件不可能是完全相同的,也可能是处于无强衍射的情况,就相当于出现等厚条纹,所以他们的衍衬像都是间距不等的明暗相间的条纹,不同的是孪晶界是一条直线,而晶界不是直线。 反相畴界的衍衬像是曲折的带状条纹将晶粒分隔成许多形状不规则的小区域。 层错条纹平行线直线间距相等 反相畴界非平行线非直线间距不等 孪晶界条纹平行线直线间距不等 晶界条纹平行线非直线间距不等 11.什么是透射电子显微像中的质厚衬度、衍射衬度和相位衬度。形成衍射衬度像和相位衬度像时,物镜在聚焦方面有何不同为什么

材料结构分析思考题及答案

思考题: (XRD可参考:高等结构分析,马礼敦主编,复旦大学出版社;) (BET 和XPS目前无教材,信息来自文献和一些专业书籍) 1. X 射线多晶衍射的基本原理(了解布拉格方程) 结构:X射线管、处理台、测角仪、检测器、计算机 X射线衍射仪主要由X射线发生器(X射线管)、测角仪、X射线探测器、计算机控制处理系统等组成。 工作原理:利用晶体形成的X射线衍射,对物质进行内部原子在空间分布状况的结构分析方法。将具有一定波长的X射线照射到结晶性物质上时,X射线因在结晶内遇到规则排列的原子或离子而发生散射,散射的X射线在某些方向上相位得到加强,从而显示与结晶结构相对应的特有的衍射现象。衍射X射线满足布拉格方程:2dsinθ=nλ式中:λ是X射线的波长;θ是衍射角;d是结晶面间隔;n是整数。波长λ可用已知的X射线衍射角测定,进而求得面间隔,即结晶内原子或离子的规则排列状态。将求出的衍射X射线强度和面间隔与已知的表对照,即可确定试样结晶的物质结构,此即定性分析。从衍射X射线强度的比较,可进行定量分析。 当能量很高的X 射线射到晶体各层面的原子时,原子中的电子将发生强迫振荡,从而向周围发射同频率的电磁波,即产生了电磁波的散射,而每个原子则是散射的子波波源;劳厄斑正是散射的电磁波的叠加。2d sinθ= nλ d 为晶面间距,θ 为入射X 射线与相应晶面的夹角,λ 为X 射线的波长,正整数n 为衍射级数。即:只有照射到相邻两晶面的光程差是X 射线波长的n 倍时才产生衍射。 2. X射线物相定性分析原理及步骤 X 射线物相分析是以晶体结构为基础,通过比较晶体衍射花样来进行分析的。对于晶体物质中来说,各种物质都有自己特定的结构参数(点阵类型、晶胞大小、晶胞中原子或分子的数目、位置等),结构参数不同则X 射线衍射花样也就各不相同,所以通过比较X 射线衍射花样可区分出不同的物质。目前已知的晶体物质已有成千上万种。事先在一定的规范

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