磁控溅射法沉积ITO薄膜及其透过率分析

磁控溅射法沉积ITO薄膜及其透过率分析

李庆;曹思凡

【期刊名称】《中国科技纵横》

【年(卷),期】2013(000)014

【摘要】采用磁控溅射法，在室温，溅射功率为80W的条件下，选取不同的压强，在石英玻璃和聚酯薄膜(PET)衬底上分别制成了高透过率的ITO薄膜，并进行了性能对比，并得出柔性衬底的性能最优时的压强范围。

【总页数】1页(102-102)

【关键词】ITO薄膜;磁控溅射法;PET

【作者】李庆;曹思凡

【作者单位】中国地质大学能源学院，北京100083;中国地质大学能源学院，北京 100083

【正文语种】中文

【中图分类】

【相关文献】

1.磁控溅射法沉积ITO薄膜的工艺参数研究 [J], 李庆; 孔若水

2.磁控溅射制备参数对超薄ITO薄膜透过率影响的研究 [J], 李广圣; 顾葆华; 阳志林; 何方; 赵辉

3.射频磁控溅射法制备Ti掺杂ITO薄膜的厚度对膜结构与光电性能的影响[J], 马春红; 李士娜; 马瑞新; 朱鸿民

4.直流磁控溅射法制备ITO薄膜的研究 [C],

5.磁控溅射法制备ITO薄膜的结构及光电性能 [J], 桂太龙; 汪钢; 张秀芳; 梁栋