真空镀膜产品质量证明书

真空镀膜产品质量证明书

篇一：真空镀膜过程中常见问题分析

真空镀膜过程中常见问题分析

镀膜过程中常见问题分析

真空镀膜面漆常见问题分析

面漆常见问题分析

真空镀膜底漆常见问题分析

底漆常见问题分析

机壳底漆常见问题分析

机壳UV面漆常见问题分析

篇二：真空镀膜实验报告

近代物理实验报告

真空镀膜实验

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时间XX年4月20日

真空镀膜实验实验报告

【摘要】：

真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最

为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜，从而了解真空镀膜的原理和操作。

【关键词】：真空镀膜、蒸发镀膜法

【引言】：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。但另一方面，溅射法也具有自己的一些优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。同时，现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材，高钝气体制备技术的发展，这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。如今，由于气相中各组分能够充分的均匀混合，制备的材料组分均匀，易于掺杂，制备温度低，适合大尺寸薄膜的制备，并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点，不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中，而且为了充分利用这两种方法各自的优点，还开

发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。

【正文】

一、实验原理

真空镀膜是在真空室中进行的（一般气压低于 1.3×10-2Pa），当需要蒸发的材料（金属或电介质）加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能，于是大量分子或原子从液态或直接从固态（如SiO2、ZnS）汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时，就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。

以下仅就源加热方式、真空度对膜层质量的影响及蒸

发源位置对薄膜均匀性的影响等问题作简要说明。

（1）源加热器

(a)(b)为电阻型源加热器，它们由高熔点的金属做成线

圈状（称为丝源）或舟状（称为舟源）。加热源上可承载被

蒸发材料。由于挂在丝源上的被蒸发物质（如铝丝）可形

成向各个方面发射的蒸汽流，因此丝源可用为点源，而舟源则可近似围内发射的面源。对于不同的被蒸材料，可选取由不同材料做成，形状各异的加热器。其选取原则为：

a.加热器所用材料有良好的热稳定性，其化学性质不活泼，在达到蒸发温度时，加热器材料本身的蒸汽压要足够低。