取样光栅镀膜减反技术研究

减反射膜原理

减反射膜原理 减反射膜又称增透膜、AR膜、AR片、减反射膜、AR滤光片，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。最简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的薄膜。如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束光的光程差恰好为π,即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。适当选择膜层折射率，这时光学表面的反射光可以完全消除。一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果,为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的重点是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用最少的层数，最简单、最稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到最理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的破坏强度，也是人们最关心的问题之一。 光具有波粒二相性，即从微观上既可以把它理解成一种波、又可以把他理解成一束高速运动的粒子(注意，这里可千万别把它理解成一种简单的波和一种简单的粒子。它们都是微观上来讲的。红光波的波长=0.750微米紫光波长=0.400微米。而一个光子的质量是 6.63E-34 千克. 如此看来他们都远远不是我们所想想的那种宏观波和粒子.) 增透膜的原理是把光当成一种波来考虑的，因为光波和机械波一样也具有干涉的性质。 在镜头前面涂上一层增透膜(一般是"氟化钙",微溶于水),如果膜的厚度等于红光(注意：这里说的是红光)在增透膜中波长的四分之一时,那么在这层膜的两侧反射回去的红光就会 发生干涉,从而相互抵消,你在镜头前将看不到一点反光,因为这束红光已经全部穿过镜头了. 为什么我从来没有看到没有反光的镜头? 原因很简单,因为可见光有“红、橙、黄、绿、蓝、靛、紫”七种颜色，而膜的厚度是唯一的，所以只能照顾到一种颜色的光让它完全进入镜头，一般情况下都是让绿光全部进入的，这种情况下，你在可见光中看到的镜头反光其颜色就是蓝紫色，因为这反射光中已经没有了绿光。膜的厚度也可以根据镜头的色彩特性来决定。 定义及其设计： 二十世纪三十年代发现的增透膜促进了薄膜光学的早期发展.对于技术光学的推动来说，在所有的光学薄膜中，增透膜也起着最重要的作用.直至今天，就其生产的总量来说，它仍然超过所有其他的薄膜因此，研究增透膜的设计和制备教术，对于生产实践有着重要的意义. 我们都知道，当光线从折射率n0的介质射入折射率为n1的另一介质时，在两介质的分界面上就会产生光的反射.如果介质没有吸收，分界面是一光学表面，光线又是垂直入射，则反射率R为透射率为 透射率为：

通信技术基础习题答案

第一章习题 1、试举出若干个模拟信号与数字信号的例子。 答：模拟信号：语音信号等 数字信号：计算机处理数据等。 2、请说明有线电视、市内电话、调频广播、移动电话、校园网等通信系统各使用哪些信道。答：有线电视：同轴电缆 市内电话：双绞线 调频广播：无线信道 移动电话：无线信道 校园网：双绞线、同轴电缆或光纤 3、试述通信系统的组成。 答：通信系统包括五个组成部分：1）信源；2）发送设备；3）接收设备；4）信宿；5）信道。 4、一个有10个终端的通信网络，如果采用网型网需要用到多少条通信链路？如果采用星型网需要有多少条通信链路？ 答：网状网：45条；星状网：10条 5、试述传码率，传信率，误码率，误信率的定义，单位。并说明二进制和多进制时码元速率和信息速率的相互关系。 答：1）传码率是指单位时间内通信系统传送的码元数目，单位为“波特”或“B”。 2）传信率也称为比特率（bit rate），是指单位时间内通信系统所传送的信息量，单位为“bit/s”或“bps”。 3）误码率就是码元在传输系统中被传错的概率，Pe=传输中的误码/所传输的总码数。 4）误信率是指发生差错的信息量在信息传输总量中所占的比例，Peb=系统传输中出错的比特数/系统传输的总比特数。 r=Rmlog2m（bit/s） 式中，r为传信率，Rm为m进制的传码率。 6、描述点对点通信的几种方式。 答：对于点对点之间的通信，按消息传送的方向与时间，通信方式可分为单工通信、半双工通信及全双工通信三种。 7、线路交换与分组交换的区别在哪里？各有哪些优点？

答：线路交换：网上的交换设备根据用户的拨号建立一条确定的路径，并且在通信期间保持这条路径，从被呼用户摘机建立通话开始到一方挂机为止，这条线路一直为该用户所占用。线路交换的很大一个优点是实时性好。 分组交换：分组交换是一种存储与转发的交换方式，很适合于数据通信。它将信息分成一系列有限长的数据包，并且每个数据包都有地址，而且序号相连。这些数据包各自独立地经过可能不同的路径到达它们的目的地，然后按照序号重新排列，恢复信息。它的优点是线路利用率高。 8、已知二进制数字信号每个码元占用的时间为1ms，1、0等概率出现，求（1）码元速率，（2）每秒钟的信息量，（3）信息速率。 答：1）码元速率=1/0.001=1000（B） 2）每秒钟信息量=Rmlog2m=1000*1=1000（bit） 3）r=Rmlog2m=1000*1=1000（bit/s） 9、同上题，如果码元速率不变，改用8进制传输，且各码元等概率出现，求码元速率，信息速率。 答：1）码元速率=1/0.001=1000（B） 2）r=Rmlog2m=1000*3=3000（bit/s）

镀膜技术十个主要问题及答案

镀膜技术十个主要问题及答案 问题： 一、镀膜技术可区分为那几类? 可区分为：(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理 二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何? 真空泵浦可分： (1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦 真空泵浦抽气范围： 泵浦抽气范围 机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴 扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴 涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴 吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴 吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴 三、电浆技术在表面技术上的应用有那些? 1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。 (2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。 (3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆，经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上，由于基材受到电浆的撞击，其附着性也很强。

(4)电浆蚀刻：湿式碱性蚀刻，这是最简单而且便宜的方法，它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性，而且会产生下蚀的问题。 (5)电浆喷覆：在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆，以防止高温腐蚀的发生。 四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点? 加热方式分为：(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热 各具有的特点： (1)电阻加热：这是一种最简单的加热方法，设备便宜、操作容易是其优点。 (2)感应加热：加热效率佳，升温快速，并可加热大容量。 (3)电子束加热：这种加热方法是把数千eV之高能量电子，经磁场聚焦，直接撞击蒸发物加热，温度可以高达30000C。而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。 (4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。最早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的品质甚佳。 它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异，准分子雷射脱离的是微细的颗粒，后者则是以分子形式脱离。(5)电弧加热：阴极电弧沉积的优点为：(1)蒸镀速率快，可达每秒1.0微米 (2)基板不须加热 (3)可镀高温金属及陶瓷化合物 (4)镀膜密高且附着力佳 五、真空蒸镀可应用在那些产业? 主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀方面等，现就比较常见者分述如下：1.镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等)，镜片置于半球支顶，一次可镀上百片以上。 2.金属、合金或化合物镀膜，应用于微电子当导线、电阻、光电功能等用途。_ 3.镀铝或钽于绝缘物当电容之电极。

真空镀膜技术

真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

通用技术习题及答案

2010年河北省学业水平考试通用技术+答案 【单选题-1】 “汽车内部配备的安全气囊和成人安全带对儿童可能就是安全隐患”，汽车安全专家提醒“儿童乘客使用标准安全带最好配以儿童增高坐垫，坐在副驾驶位置时必须关闭安全气囊”。这说明技术具有（B） ①专利性；②两面性；③目的性；④创新性。 A．①② B．②③ C．③④ D．①③ 【单选题-2】 具有MP4功能的手机要求能够长时间播放视频节目，这种设计要求电池的容量要大、体积要小，这促使电池生产厂家加快研发高能微型电池。这个案例说明（A） A．设计创新促进了技术的发展B．设计与技术的发展无关C．技术总是无法满足设计的要求 D．技术的发展不需要设计 【单选题-3】 人类经历了使用简单工具进行零件手工加工、使用传统车床进行零件机械加工、使用数控车床进行工程设备的机械加工等阶段。这样的发展过程属于（B） A．技术产生B．技术革新C．科学发现D．技术跳跃 【单选题-4】 近年来我国各地积极大力种植碳汇林，推广碳汇经济，森林碳汇是指森林植物吸收大气中的二氧化碳并将其固定在植被或土壤中，从而减少该气体在大气中的浓度。这（C） A．说明人们找到了一种新的经济增长模式 B．说明人们可以不要再种经济作物了 C．体现了人们依靠技术利用自然和改造自然，并与自然和谐相处的友好关系 D．说明碳汇林会给地球带来很大的污染 【单选题-5】 1769年，瓦特在大量试验的基础上研制了第一台单动式蒸汽机，引发了第一次工业革命，同时由于技术具有（A），让他成为一个富有的名人资本家 A．创新性B．目的性C．综合性D．专利性 【单选题-6】 某产品由拖把、洗涤桶，甩干装置组成（如图所示）。该拖把形态新颖，操作方便，握把舒适，但拖地效果一般。脚踩踏板经传动装置转动甩干筐可甩干拖把，但踏板与传动装置容易胶离，导致无法工作，而且损坏之后不易维修。因踏板与传动装置容易脱离，若要改进该部分结构，一般不需要考虑的因素是（D） A．湿拖把的最大质量B．脚踩力的大小C．传动装置的结构D．洗涤桶的质量大小 【单选题-7】 汽车贴防爆膜，其具有很强的吸附力，当意外发生，玻璃破裂时可以粘合散裂的玻璃片，保护驾乘人员免受玻璃碎片的割伤。这是考虑了人机关系中的（D） A．高效目标B．健康目标C．舒适目标D．安全目标 【单选题-8】 用一个等边角钢制作如图所示的直角型支撑架，右侧四种划线（细实线表示划线，按划线锯割）中，最合理的是（A）

光学镀膜技术及应用调查

光学镀膜技术及应用调查 摘要：金属光学镀膜最早用于光学元件表面制备保护膜。光学镀膜技术和应用始于19 世纪初叶。在20世纪的后50年内，光学镀膜技术得到飞速发展。目前金属贴膜玻璃是在平板玻璃表面贴上一层或多层金属氧化物，以改善玻璃的性能和强度，使其具有保温、隔热、防爆、防紫外线、美化外观、安全、节能和美化装饰等功能。而有色金属镀膜材料主要用于传统工业领域，稀有金属或其氧化物主要用于高科技领域。其中氧化钦贴膜玻璃获得了广泛应用，占据较大市场份额。本文就光学镀膜的方法、材料及其应用状况进行简要概括，同时介绍日常生活常见的隔热膜和防爆膜[1]。 关键词：光学镀膜材料防爆膜隔热膜 1 光学镀膜方法及其应用状况 1.1 脉冲激光沉积(PLD) 利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜。PLD作为一种新的先进的成膜技术。与其他工艺相比，生长参数独立可调、可精确控制化学计量比，易于实现超薄薄膜的生长和多层膜的制备，生长的薄膜结晶性能很好，膜的平整度也较高。PLD技术的成膜效率高，能够进行批量生产，这是它的很大的优势，有望在高质量ZnO薄膜的研究和生产中得到广泛的应用。但是由于等离子体管中的微粒、气态原子和分子沉积在薄膜上会降低薄膜的质量，采取相应的措施后可以获得改善，但不能完全消除。而且PLD生长在控制掺杂、生长平滑的多层膜和厚度均匀等方面都比较困难，从而比较难以进一步提高薄膜的质量。 1.2化学气相沉积(CVD) 化学气相沉积(CVD)法是一种或几种气态反应物在衬底表面发生化学反应而沉积成膜的。反应物质是由金属载体化合物蒸汽和气体载体所构成，沉积在衬底上形成金属氧化物薄膜，衬底表面上发生的这种化学反应通常包括金属源材料的热分解和原位氧化。CVD法的主要控制参数为气体流量、气体成分、沉积温度和衬底的几何形状等。按工作压强CVD可分为常压

真空蒸发镀膜原理

Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］