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蓝宝石长晶技术简介

蓝宝石长晶技术简介
蓝宝石长晶技术简介

藍寶石單晶生長方法介紹

藍寶石單晶的長晶方法有很多種,其中最常用的主要有九種,介紹如下:

1凱氏長晶法(Kyropoulos method)

簡稱 KY 法,中國大陸稱之為泡生法。其原理與柴氏拉晶法(Czochralski method)類似,先將原料加熱至熔點後熔化形成熔湯,再以單晶之晶種(Seed Crystal,又稱籽晶棒)接觸到熔湯表面,在晶種與熔湯的固液界面上開始生長和晶種相同晶體結構的單晶,晶種以極緩慢的速度往上拉升,但在晶種往上拉晶一段時間以形成晶頸,待熔湯與晶種界面的凝固速率穩定後,晶種便不再拉升,也沒有作旋轉,僅以控制冷卻速率方式來使單晶從上方逐漸往下凝固,最後凝固成一整個單晶晶碇,凱氏長晶法是利用溫度控制來生長晶體,它與柴氏拉晶法最大的差異是只拉出晶頸,晶身部分是靠著溫度變化來生長,並在拉晶頸的同時,調整加熱電壓,使熔融的原料達到最合適的長晶溫度範圍,讓生長速度達到最理想化,因而長出品質最理想的藍寶石單晶。

國外許多生長藍寶石的廠商,也是採用此方法以生長藍寶石單晶,凱氏長晶法在生長過程中,除了晶頸需拉升外,其餘只需控制溫度的變化,就可使晶體成型,少了拉升及旋轉的干擾,比較好控制製程,因而可得到較佳的品質。所以生長的藍寶石單晶具有以下的優點: 1.高品質(光學等級)。2.低缺陷密度。3.大尺寸。 4.較快的生長率。5.高產能。6.較佳的成本效益。

凱氏長晶法原理示意圖

2柴氏拉晶法(Czochralski method)

簡稱 CZ 法。柴氏拉晶法之原理,先將原料加熱至熔點後熔化形成熔湯,再利用一單晶晶種接觸到熔湯表面,在晶種與熔湯的固液界面上因溫度差而形成過冷。於是熔湯開始在晶種表面凝固並生長和晶種相同晶體結構的單晶。晶種同時以極緩慢的速度往上拉升,並伴隨以一定的轉速旋轉,隨著晶種的向上拉升,熔湯逐漸凝固於晶種的液固界面上,進而形成一軸對稱的單晶晶棒。在拉升的過程中,透過控制拉升速度的快慢的調配,分別生長晶頸(Neck)、晶冠(Shoulder)、晶身(Body)以及晶尾。每個部份都有其用意,生長晶頸主要是用來消除差排。因為長晶過程複雜,差排產生量不易支配,所以大部分的晶體生長過程,都以消除差排為主要選擇。長完晶頸後,需放慢拉升速度,使晶體直徑增大到所需的尺寸,此步驟為晶冠生長。當晶體直徑增大到所需尺寸時,就以等速的速度來拉升,此部分的晶體直徑是固定的,也就是晶身部分。此部分就是要作為工業用基板材料的部份,所以生長時,需格外小心。當晶身長完時,就要使晶棒離開熔湯,此時拉升的速度會變快,使晶棒的直徑縮小,直到變成點狀時,再從熔湯中分開。此步驟為晶尾生長,其目的是要避免晶棒與熔湯快速分離時,所產生的熱應力,若在分離時產生熱應力,此熱應力將使晶棒產生差排及滑移線等缺陷。在現在的半導體產業中,CZ 法是最常見到的晶體生長法,由於能生長出較大直徑之晶體,所以大約 85%的半導體產業都使用 CZ 法來生長單晶棒。

柴氏拉晶法之原理示意圖

3熱交換器法(Heat Exchanger Method)

簡稱 HEM 法,其原理是利用熱交換器來帶走熱量,使得晶體生長區內形成一下冷上熱的縱向溫度梯度,同時再藉由控制熱交換器內氣體流量的大小以及改變加熱功率的高低來控制此溫度梯度,藉此達成坩堝內熔湯由下慢慢向上凝固成晶體之目的。

4焰熔法(Flame-Fusion Growth Method)

又稱 Verneuil method,利用氫氧氣所形成的火焰,將氧化鋁粉末加熱熔化後,吹向一支氧化鋁棒(單晶晶種)的頂端,使熔融的氧化鋁在氧化鋁棒頂端形成一單晶液滴,單晶液滴逐漸成長為一單晶頸(Neck)。藉由控制氧化鋁粉末的供給量與調整氫氧氣火焰,可使單晶頸之直徑逐漸增大,進而增長成為一長條圓柱形的單晶棒。

焰熔法(Verneuil method)之原理示意圖

5浮融區長晶法(Float Zone method)

簡稱 FZ 法,主要是將棒狀的原料在生長爐中以懸吊的方式,由上往下經過一加熱環,當棒狀原料底端進入加熱環中央時,原料底端會因為高溫而熔化成滴液熔湯,當滴液狀熔湯產生時,將晶種由下往上的方式去接觸滴液狀熔湯,晶種接觸到滴液狀熔湯後,將晶種與棒狀原料由上往下同方向移動,進入加熱環中央的原料部份將會熔化,離開加熱環就冷凝成晶體,原子和分子就趁著熔化時重新排列作堆疊動作,等棒狀原料都經過加熱環後,就可得到單晶棒。因為 FZ 法有兩個缺點,一是熔湯與晶體的接面很複雜,所以很難得到較少缺陷的晶體;二是因為它需要高純度的多晶棒當作原始材料,才能生長出高純度的單晶棒,所以國內半導體產業很少使用 FZ 法來生長晶體,但由於 FZ 法可生長出高純度單晶體,所以較適用在高功率元件,例如電晶體之高功率元件等。

浮融區長晶法(float zone method)之原理示意圖

(a)加熱、(b)原料熔化、(c)晶頸生長、(d)晶冠生長、(e)晶身生長以及(f)停止供料

6水平區熔法(Horizontal Bridgman method)

將原料放入船形坩堝之中,船形坩堝之船頭部位主要是放置晶種,接著使坩堝經過一加熱器,鄰近加熱器之部份原料最先熔化形成熔湯,形成熔湯之原料便與船頭之晶種接觸,即開始生長晶體,當坩堝完全經過加熱器後,便可得一單晶體。為了晶體品質及晶體生長結束後,方便取出晶體,坩堝應採用不沾其熔湯之材料所製,如石英、氧化鎂、氧化鋁、氧化鈹以及石墨等。加熱器可以使用電阻爐,也可使用高頻爐。用此方法生長單晶,設備簡單,又可得到純度很高和雜質分布

十分均勻的晶體。但此方法所生長之晶體與坩堝接觸,難免有坩堝成分之元素析出到晶體,且不易製得完整性高的大直徑單晶。

水平區熔法(Horizontal Bridgman method)之原理示意圖

7 坩堝下降法(Vertical Gradient Freeze method)

簡稱VGF法,此方法與水平區熔法類似,主要是以移動坩堝的方式,使熔湯內產生溫度梯度,進而開始生長晶體。坩堝下降法所使用的加熱器分為上下兩部份,爐體內上方之加熱器溫度較高,下方溫度較低,利用加熱器產生的溫差造成其溫度梯度產生,進而生長晶體。由於生長過程中,加熱器之溫度是不變的,其晶體生長時之固液界面與加熱器之距離是固定的,此時必須使坩堝下降,使熔湯經過固液界面,利用坩堝下降之方式,使其熔湯正常凝固形成單晶。

坩堝下降法(Vertical Gradient Freeze)之原理示意圖

(a)坩堝下降前,熔湯較多,晶體較少。(b)坩堝下降後,熔湯較少,晶體較多8定邊膜餵法(Edge-defined Film-fed Growth, EFG)

大陸稱之為導膜法,將原料置於銥坩堝中,藉由高週波感應加熱器加熱原料使之

熔化,於坩堝中間放置一銥製模具,利用毛細作用讓熔湯攤平於銥製模具的上方表面,形成一薄膜,放下晶種使之碰觸到薄膜,於是薄膜在晶種的端面上結晶成與晶種相同結構的單晶。晶種再緩慢往上拉升,逐漸生長單晶。同時由坩堝中供應熔湯補充薄膜,由於此薄膜之邊緣受到銥膜所限定,並扮演持續餵料以供晶體生長之用,所以稱為限定邊緣膜餵法,簡稱定邊膜餵法。

導膜法(EFG)之原理示意圖

9非毛細成型法(Non-capillary shaping method)

簡稱NCS 法,其長晶原理如圖14所示,此方法主要是生長光罩或特殊形狀的晶體,由於熔湯在凝固時,是沿著模型內壁成型,所以只要改變模型,就可改變晶體外型。NCS法生長出的晶體具近淨型(near-net-shape),所以在後續加工部分可省略許多步驟,因此在成本方面就降低許多。NCS 法的製程主要是將欲成型形狀之模子放入熔湯中,模子需有兩種孔洞,一是毛細孔;二是比毛細孔大的非毛細孔,當模子放進熔湯裡時,熔湯會被毛細孔吸到模子上方,此時再用一晶盤(盤狀之晶種)去做下晶種的動作,當下完晶種後,便開始拉升,由於毛細孔在模子中成環狀,所以剛拉出來的晶體是成管狀的,當開始需要生長光罩部分時,通常是用氣份控制使模子的非毛細孔內外產生壓力差,讓熔湯從模子中間的非毛細孔進入模子中,當熔湯從非毛細孔上升到與毛細孔的熔湯相遇時,就開始生長光罩部分,由於模子內部呈中空半球狀,此時只要控制壓力差,就可使熔湯沿著模子內半球狀之內壁,由上往下慢慢凝固,等晶體從半球狀的模子中拿出時,就可得到光罩。

非毛細成型法(Non-capillary shaping method)之原理示意圖

热交换法(HEM)采用氦气作冷气气体,代价昂贵,并且不能直接生长C轴方向晶体;泡生法(KY法)工艺重复性差、能耗高;电阻加热温梯法工艺重复性差、成品率低;感应加热铱坩埚提拉法投入大、成本高;传统坩埚下降法温度梯度调整范围有限,很难提供生长大尺寸蓝宝石晶体所需温度梯度,且导致晶体排杂质和气泡能力低,晶体内部缺陷较多,成品率较低。目前世界范围内泡生法应用较广,约占70%市场份额。泡生法在晶体直径、质量(缺陷、气泡、裂晶)以及衬底成本方面都相比于提拉法较好一些。在日本和加拿大有少数厂家使用提拉法长晶。导膜法(EFG)生长晶体最大优势在于生长速度快,加工成本低,原料利用率搞,对企业而言具有成本优势。但其对生长条件的控制要求严格,模具对熔体的污染,晶体缺陷较多,晶体质量有待提高。

Bridgman的晶体生长技术

Bridgman的晶体生长技术

Bridgman的晶体生长技术 1.Bridgeman法晶体生长技术简介 Bridgman法是由Bridgman于1925年提出的。传统Bridgman法晶体生长的基本原理如图.1所示。将晶体生长的原料装入合适的容器中,在具有单向温度梯度的Bridgman长晶炉内进行生长。Bridgman长晶炉通常采用管式结构,并分为3个区域,即加热区、梯度区和冷却区。加热区的温度高于晶体的熔点,冷却区低于晶体熔点,梯度区的温度逐渐由加热区温度过渡到冷却区温度,形成一维的温度梯度。首先将坩埚置于加热区进行熔化,并在一定的过热度下恒温一段时间,获得均匀的过热熔体。然后通过炉体的运动或坩埚的移动使坩埚由加热区穿过梯度区向冷却区运动。坩埚进入梯度区后熔体发生定向冷却,首先达到低于熔点温度的部分发生结晶,并随着坩埚的连续运动而冷却,结晶界面沿着与其运动相反的方向定向生长,实现晶体生长过程的连续进行。 图1Bridgman法晶体生长的基本原理 (a)基本结构;(b)温度分布。 图1.所示坩埚轴线与重力场方向平行,高温区在上方,低温区在下方,坩埚从上向下移动,实现晶体生长。该方法是最常见的Bridgman法,称为垂直Bridgman法。除此之外,另一种应用较为普遍的是的水平Bridgman法其温度梯度(坩埚轴线)方向垂直于重力场。垂直

Bridgman法利于获得圆周方向对称的温度场和对流模式,从而使所生长的晶体具有轴对称的性质;而水平Bridgman法的控制系统相对简单,并能够在结晶界面前沿获得较强的对流,进行晶体生长行为控制。同时,水平Bridgman法还有利于控制炉膛与坩埚之间的对流换热,获得更高的温度梯度。此外,也有人采用坩埚轴线与重力场成一定角度的倾斜Bridgman法进行晶体生长。而垂直Bridgman法也可采用从上向下生长的方式。 2.Bridgman法的结构组成 典型垂直Bridgman法晶体生长设备包括执行单元和控制单元。其中执行单元的结构,由炉体、机械传动系统和支撑结构3个部分构成。炉体部分采用管式炉,通过多温区的结构设计实现一维的温度分布,获得晶体生长的温度场。生长晶体的坩埚通过一个支撑杆放置在炉膛内的一维温度场中,如图1所示。机械传动部分包括电机和减速机构。减速机构将电机的转动转换为平移运动,控制坩埚与温度场的相对运动。可以采取控制炉体的上升或坩埚的下降两种方式实现晶体生长速率的控制。通常Bridgman生长设备还包括坩埚旋转机构,通过另外一个电机驱动坩埚支撑杆转动,控制坩埚在炉膛内按照设定的方式和速率转动,进行温度场和对流控制。支撑结构提供一个稳定的平台,用于固定炉体和机械传动系统,实现其相对定位。在支撑结构中设计位置调节结构和减震结构,保证晶体生长速率的稳定性。控制单元包括温度控制和机械传动控制。温度控制主要进行不同加热段加热功率的调节,形成恒定的温度场。通常通过热电偶等测温元件提供温度信息,进行实时控制。机械传动控制部分进行电机转速控制,从而实现坩埚或炉体移动速度的控制,以及坩埚的旋转。 3.坩埚的选材与结构设计 坩埚是直接与所生长的晶体及其熔体接触的,并且对晶体生长过程的传热特性具有重要的影响。因此,坩埚材料的选择是晶体生长过程能否实现以及晶体结晶质量优劣的控制因素之一。坩埚材料的选择是由所生长的晶体及其在熔融状态下的性质决定的。对于给定的晶体材料,所选坩埚材料应该满足以下物理化学性质: (1)有较高的化学稳定性,不与晶体或熔体发生化学反应。 (2)具有足够高的纯度,不会在晶体生长过程中释放出对晶体有害的杂质、污染晶体材料,或与晶体发生粘连。 (3)具有较高的熔点和高温强度,在晶体生长温度下仍保持足够高的强度,并且在高温下不会发生分解、氧化等。 (4)具有一定的导热能力,便于在加热区对熔体加热或在冷却区进行晶体的冷却。

晶体生长方法

晶体生长方法 一、提拉法 晶体提拉法的创始人是J. Czochralski,他的论文发表于1918年。提拉法是熔体生长中最常用的一种方法,许多重要的实用晶体就是用这种方法制备的。近年来,这种方法又得到了几项重大改进,如采用液封的方式(液封提拉法,LEC),能够顺利地生长某些易挥发的化合物(GaP等);采用导模的方式(导模提拉法)生长特定形状的晶体(如管状宝石和带状硅单晶等)。所谓提拉法,是指在合理的温场下,将装在籽晶杆上的籽晶下端,下到熔体的原料中,籽晶杆在旋转马达及提升机构的作用下,一边旋转一边缓慢地向上提拉,经过缩颈、扩肩、转肩、等径、收尾、拉脱等几个工艺阶段,生长出几何形状及内在质量都合格单晶的过程。这种方法的主要优点是:(a)在生长过程中,可以方便地观察晶体的生长情况;(b)晶体在熔体的自由表面处生长,而不与坩埚相接触,这样能显著减小晶体的应力并防止坩埚壁上的寄生成核;(c)可以方便地使用定向籽晶与“缩颈”工艺,得到完整的籽晶和所需取向的晶体。提拉法的最大优点在于能够以较快的速率生长较高质量的晶体。提拉法中通常采用高温难熔氧化物,如氧化锆、氧化铝等作保温材料,使炉体内呈弱氧化气氛,对坩埚有氧化作用,并容易对熔体造成污杂,在晶体中形成包裹物等缺陷;对于那些反应性较强或熔点极高的材料,难以找到合适的坩埚来盛装它们,就不得不改用其它生长方法。 二、热交换法

热交换法是由D. Viechnicki和F. Schmid于1974年发明的一种长晶方法。其原理是:定向凝固结晶法,晶体生长驱动力来自固液界面上的温度梯度。特点:(1) 热交换法晶体生长中,采用钼坩埚,石墨加热体,氩气为保护气体,熔体中的温度梯度和晶体中的温度梯度分别由发热体和热交换器(靠He作为热交换介质)来控制,因此可独立地控制固体和熔体中的温度梯度;(2) 固液界面浸没于熔体表面,整个晶体生长过程中,坩埚、晶体、热交换器都处于静止状态,处于稳定温度场中,而且熔体中的温度梯度与重力场方向相反,熔体既不产生自然对流也没有强迫对流;(3) HEM法最大优点是在晶体生长结束后,通过调节氦气流量与炉子加热功率,实现原位退火,避免了因冷却速度而产生的热应力;(4) HEM可用于生长具有特定形状要求的晶体。由于这种方法在生长晶体过程中需要不停的通以流动氦气进行热交换,所以氦气的消耗量相当大,如Φ30 mm的圆柱状坩埚就需要每分钟38升的氦气流量,而且晶体生长周期长,He气体价格昂贵,所以长晶成本很高。 三、坩埚下降法 坩埚下降法又称为布里奇曼-斯托克巴格法,是从熔体中生长晶体的一种方法。通常坩埚在结晶炉中下降,通过温度梯度较大的区域时,熔体在坩埚中,自下而上结晶为整块晶体。这个过程也可用结晶炉沿着坩埚上升方式完成。与提拉法比较该方法可采用全封闭或半封闭的坩埚,成分容易控制;由于该法生长的晶体留在坩埚中,因而适于生长大块晶体,也可以一炉同时生长几块晶体。另外由于工艺条件

七大晶系详细图解

七大晶系详细图解

一、四方晶系 。其中两个水平轴(X 四方晶系四方晶系的三条晶轴互相垂直,即α=β=γ=90° 轴、Y轴)长度一样,Z轴的长度可长可短,通俗的说:四方晶系的晶体大多是 四棱的柱状体,有的是长柱体,有的是短柱体,即其晶胞必具有四方柱的形状。 横截面为正方形,四个柱面是对称的,即相邻和相对的柱面都是一样的,但和 顶端不对称。所有主晶面交角都是90。特征对称元素为四重轴。如果Z轴发育,它就是长柱状甚至针状;如果两个横轴(X轴、Y轴)发育大于Z轴,那么晶体就会呈现四方板状,最有代表的就是磷酸二氢钠和硫酸镍β了。 常见的立方晶系的晶体模型图: 注:柱体的棱角发育成窄小晶面,此种晶体又叫“复四方”——四个主柱面,四个小柱面。 晶体实物图:

三、斜方晶系 斜方晶系的晶体中三个轴的长短完全不相等,它们的交角仍然是互为90度垂直。即X≠Y≠Z。Z轴和Y轴相互垂直90°。X轴与Y轴垂直,但是不与Z轴垂直,即α=γ=90,β>90°与正方晶系直观相比,区别就是:x轴、y轴长短不一样。如果围绕z轴旋转,四方晶系旋转九十度即可使x轴y轴重合,旋转一周使x轴y轴重合四次(使另两轴重合的次数多于两次,该轴称“高次轴”),四方晶系有一个高次轴,也叫“主轴”。斜方晶系围绕z轴旋转,需180度才可使x轴y 轴重合,旋转一周只重合两次,属低次轴。也就是说,斜方晶系的对称性比四 方晶系要低。特征对称元素是二重对称轴或对称面。其实,斜方晶系的晶体如 果围绕x轴或y轴旋转,情况与围绕z轴旋转相同。换句话说,斜方晶系没有 高次轴,或曰没有理论上的主轴。从模型上看,四方晶系的x轴和y轴所指向的晶面完全都是对称相同的,斜方晶系的x轴和y轴所指向的晶面却是各自相等的。

蓝宝石晶体生长技术回顾

蓝宝石晶体生长技术回顾 (2011-07-12 15:21:18) 转载 分类:蓝宝石晶体 标签: 蓝宝石 晶体生长 技术 历史 杂文 杂谈 引言 不少群众提出意见,博主说了这多不行的,能不能告诉广大投身蓝宝石长晶事业的什么设备行?说实话,这真的是为难我了!怎么讲?举个例子吧,Ky技术设备在Mono手里还真的是Ky,但到了你手里可能就是YY了。 可能你觉得受打击了,可是没有办法啊,事实如此啊,实话听 起来往往比较刺耳!本博主前面发表的《从缺陷的角度谈谈蓝宝石生长方向的选择》博文,迄今为止只有寥寥无几群众真正看出精髓所在..................................不服气群众可以留言谈谈自己了解了什么? 古人云“博古通今”、“温故知新”,我觉得很有道理,技术之道也是如此。如果没有对以往技术的熟练掌握、熟知精髓所在,没有

对以往技术的总结提炼,你就不可能对一个新技术真正的掌握。任何新技术新设备到你手里,充其量你只是一个熟练操作工而已。 还觉得不信的话,我就在这篇博文里用大家认为最古老的火焰法宝石生长的经验理论总结来给大家进行目前流行的衬底级蓝宝石晶体生长进行理论指导。 蓝宝石晶体生长技术简介

焰熔法(flame fusion technique)&维尔纳叶法(Verneuil technique) 1885年由弗雷米(E. Fremy)、弗尔(E. Feil)和乌泽(Wyse)一起,利用氢氧火焰熔化天然的红宝石粉末与重铬酸钾而制成了当时轰动一时的“日内瓦红宝石”。后来于1902年弗雷米的助手法国的化学家维尔纳叶(Verneuil)改进并发展这一技术使之能进行商业化生产。因此,这种方法又被称为维尔纳叶法。 弗雷米(E. Fremy)、弗尔(E. Feil)和乌泽(Wyse)这几个哥们实际上就是做假珠宝的,一群有创新精神的专业人士。 博主对两类造假者比较佩服,一类是以人造珠宝以假乱真的,一类是造假文物的。首先、他们具有很高的专业素养;其次、他们也无关民生大计;还有利于社会财富的再分配。 至于火焰法简单的描述我就不啰嗦了,我讲讲一些你所不知道的火焰法长宝石的一些前人总结;这些总结和经验对今天的任何一种新方法长蓝宝石单晶都是有借鉴意义的。 100多年来火焰法工作者在气泡、微散射,晶体应力和晶体生长方向的关系,晶体生长方向与缺陷、成品率之间的关系做了大量的数据总结,可以讲在各个宝石生长方法中研究数据是最完备的。在这篇博文里我只讲讲个人认为对其他方法有借鉴意义的一些总结。

蓝宝石生长方法

一、蓝宝石生长 1.1 蓝宝石生长方法 1.1.1 焰熔法Verneuil (flame fusion) 最早是1885年由弗雷米(E. Fremy)、弗尔(E. Feil) 和乌泽(Wyse)一起,利用氢氧火焰熔化天然的红宝石粉末 与重铬酸钾而制成了当时轰动一时的“ 日内瓦红宝石”。后 来于1902年弗雷米的助手法国的化学家维尔纳叶(Verneuil) 改进并发展这一技术使之能进行商业化生产。因此,这种方 法又被称为维尔纳叶法。 1)基本原理 焰熔法是从熔体中生长单晶体的方法。其原料的粉末在 通过高温的氢氧火焰后熔化,熔滴在下落过程中冷却并在种 晶上固结逐渐生长形成晶体。 2)合成装置与条件、过程 焰熔法的粗略的说是利用氢及氧气在燃烧过程中产生 高温,使一种疏松的原料粉末通过氢氧焰撒下焰融,并落在 一个冷却的结晶杆上结成单晶。下图是焰熔生长原料及设备 简图。这个方法可以简述如下。图中锤打机构的小锤7按一 定频率敲打料筒,产生振动,使料筒中疏松的粉料不断通过 筛网6,同时,由进气口送进的氧气,也帮助往下送粉料。 氢经入口流进,在喷口和氧气一起混合燃烧。粉料在经过高温火焰被熔融而落在一个温度较低的结晶杆2上结成晶体了。炉体4设有观察窗。可由望远镜8观看结晶状况。为保持晶体的结晶层在炉内先后维持同一水平,在生长较长晶体的结晶过程中,同时设置下降机构1,把结晶杆2缓缓下移。 焰熔法合成装置由供料系统、燃烧系统和生长系统组成,合成过程是在维尔纳叶炉中进行的。 A.供料系统 原料:成分因合成品的不同而变化。原料的粉末经过充分拌匀,放入料筒。如果合成红宝石,则需要Al2O 粉末和少量的 Cr2O3参杂,Cr2O3用作致色剂,添加量为 1-3%。三氧化 3 二铝可由铝铵矾加热获得。料筒:圆筒,用来装原料,底部有筛孔。料筒中部贯通有

单晶材料生长方法

单晶薄膜制备方法 薄膜材料相对于块体材料来说,可以应用较小的原料而达到相应的性能要求;而且薄膜材料还具有许多优异的性能,使薄膜材料能够满足现在大型集成电路以及各种功能器件的要求,使器件向小型化、轻便化方向发展。单晶薄膜由于膜层内部缺陷少、而且具有一定尺度的膜层具有一定的量子限域效应,电子在其内部运动时会有许多独特的状态和方式,从而产生更优的性能,具有极其重要的应用价值和应用前景。鉴于单晶薄膜的种种优势,人们对其的研究也进行了许多年,各种单晶薄膜的制备技术被相继开发出来,当前生长和制备单晶薄膜的主要方法有:分子束外延(MBE)、金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、脉冲激光沉积(PLD)、电子束沉积(EBD)和原子束沉积法(ABD)等。 一、分子束外延(MBE) 分子束外延是一种在超高真空条件下,将原料通过热蒸发等方式气化升华,并运动致衬底表面沉积形成薄膜的的方法。配合仪器自带的原位分析仪器(如RHEED等)可以精确控制膜层的成分和相结构。分子束外延存在生长膜层速度太慢的缺点,每秒钟大约生长一个原子层厚度,但可以精确控制膜层厚度。David 等【1】运用等离子体增强的分子束外延(PEMBE)方法直接在SiC衬底上制备了具有纤锌矿结构的、膜层质量较好的GaN单晶薄膜。由于GaN与SiC存在较大的晶格失配,以往的研究往往是预先在SiC表面制备AlN缓冲层,来减小晶格失配,得到单晶GaN膜层。生长过程中引入等离子体大大降低了由于晶格失配而极易出现的堆垛缺陷浓度,使得膜层质量有较大改善。Yefan Chen等【2】同样运用PEMBE在蓝宝石衬底上制备了单晶ZnO膜层,RHEED模式照片显示ZnO在蓝宝石衬底表面的外延生长是逐渐由二维生长转变为三维岛状模式生长的;且XRD分析表明ZnO沿(0001)方向择优生长;PL谱分析显示ZnO膜层内部的污染和本征缺陷浓度较低,晶体质量较好。 二、金属有机物化学气相沉积(MOCVD) 金属有机物化学气相沉积(MOCVD)主要用于Ⅱ—Ⅵ族和Ⅲ—Ⅴ族化合物半导体薄膜的制备,它是运用载气将金属有机化合物气体输运至衬底处,金属有机化合物在输运过程中发生热分解反应,在衬底表面发生反应并沉积形成薄膜的技术。该法具有沉积温度低、对衬底取向要求低、沉积过程中不存在刻蚀反应、可

单晶制备方法综述

单晶材料的制备方法综述 前言:单晶(single crystal),即结晶体内部的微粒在三维空间呈有规律地、周期性地排列,或者说晶体的整体在三维方向上由同一空间格子构成,整个晶体中质点在空间的排列为长程有序。单晶整个晶格是连续的,具有重要的工业应用。因此对于单晶材料的的制备方法的研究已成为材料研究的主要方向之一。本文主要对单晶材料制备的几种常见的方法进行介绍和总结。 单晶材料的制备也称为晶体的生长,是将物质的非晶态、多晶态或能够形成该物质的反应物通过一定的化学的手段转变为单晶的过程。单晶的制备方法通常可以分为熔体生长、溶液生长和相生长等[1]。 一、从熔体中生长单晶体 从熔体中生长晶体的方法是最早的研究方法,也是广泛应用的合成方法。从熔体中生长单晶体的最大优点是生长速率大多快于在溶液中的生长速率。二者速率的差异在10-1000倍。从熔体中生长晶体的方法主要有焰熔法、提拉法、冷坩埚法和区域熔炼法。 1、焰熔法[2] 最早是1885年由弗雷米(E. Fremy)、弗尔(E. Feil)和乌泽(Wyse)一起,利用氢氧火焰熔化天然的红宝石粉末与重铬酸钾而制成了当时轰动一时的“日内瓦红宝石”。后来于1902年弗雷米的助手法国的化学家维尔纳叶(V erneuil)改进并发展这一技术使之能进行商业化生产。因此,这种方法又被称为维尔纳也法。 1.1 基本原理 焰熔法是从熔体中生长单晶体的方法。其原料的粉末在通过高温的氢氧火焰后熔化,熔滴在下落过程中冷却并在籽晶上固结逐渐生长形成晶体。 1.2 合成装置和过程: 维尔纳叶法合成装置

振动器使粉料以一定的速率自上而下通过氢氧焰产生的高温区,粉体熔化后落在籽晶上形成液层,籽晶向下移动而使液层结晶。此方法主要用于制备宝石等晶体。 2、提拉法[2] 提拉法又称丘克拉斯基法,是丘克拉斯基(J.Czochralski)在1917年发明的从熔体中提拉生长高质量单晶的方法。2O世纪60年代,提拉法进一步发展为一种更为先进的定型晶体生长方法——熔体导模法。它是控制晶体形状的提拉法,即直接从熔体中拉制出具有各种截面形状晶体的生长技术。它不仅免除了工业生产中对人造晶体所带来的繁重的机械加工,还有效的节约了原料,降低了生产成本。 2.1、提拉法的基本原理 提拉法是将构成晶体的原料放在坩埚中加热熔化,在熔体表面接籽晶提拉熔体,在受控条件下,使籽晶和熔体的交界面上不断进行原子或分子的重新排列,随降温逐渐凝固而生长出单晶体。 2.2、合成装置和过程 提拉法装置 首先将待生长的晶体的原料放在耐高温的坩埚中加热熔化,调整炉内温度场,使熔体上部处于过冷状态;然后在籽晶杆上安放一粒籽晶,让籽晶接触熔体表面,待籽晶表面稍熔后,提拉并转动籽晶杆,使熔体处于过冷状态而结晶于籽晶上,在不断提拉和旋转过程中,生长出圆柱状晶体。 在提拉法制备单晶时,还有几种重要的技术:(1)、晶体直径的自动控制技术:上称重和下称重;(2)、液封提拉技术,用于制备易挥发的物质;(3)、导模技术。

SiC晶体生长工艺装备

SiC晶体生长工艺装备 一、SiC晶体生长工艺装备发展现状 由于SiC具有宽带隙、高临界击穿电场、高热导率、高载流子饱和浓度、化学性能稳定、高硬度、抗磨损等特点,使得它在军用和航天领域的高温、高频、大功率光电器件方面具有优越的应用价值。具体来看,其导热性能是Si材料的3倍以上;在相同反压下,SiC材料的击穿电场强度比Si高10倍,而内阻仅是Si片的百分之一。SiC器件的工作温度可以达到600℃,而一般的Si器件最多能坚持到150℃。因为这些特性,SiC可以用来制造各种耐高温的高频大功率器件,应用于Si器件难以胜任的场合。 目前SIC半导体材料发展十分迅速,总的发展趋势是晶体大直径、大尺寸化,向高纯无缺陷发展。6H和4H单晶片实现了商品化,3英寸(直径≥76.2mm)是主流产品,4英寸也有少量供应。4H-SiC 上的微管缺陷密度显著减小,n型4H-SiC的极低微管缺陷晶片上微管密度可接近0cm-2。 SiC材料的生长需要特殊的工艺装备。目前这些工艺装备的技术主要掌握在美日欧三方手中。这些发达国家和地区已对SiC 生长设备进行了持续的研究,积累了宝贵的经验。特别是美国,技术最成熟,凭借着先进的技术,不断研制基于SiC基的新军事电子产品,目前在航空、航天、军舰、卫星、深海等方面都得到了实际的应用,得以使其继续在全球军事电子领域保持领先地位。欧盟和日本也紧随其后,投入大量的人力和财力进行追赶。

美国Cree公司是世界上能够商业化提供SiC 产品最大的公司,占全球市场90%以上,其在工艺装备方面的技术先进、成熟稳定,领先世界水平,但受政策影响,技术处于绝对保密之中。 欧洲SiC晶体生长工艺装备的设备制造商集中在德国、瑞典和英国,目前主要生产以3“直径为主的工艺装备,但为了追赶世界先进水平,已开始进行4” SiC晶圆工艺装备的研发。 无论是美国、欧洲还是日本,其晶体生长工艺装备都是军方在三代半导体方面要重点发展的方向之一,长期得到国家的支持和投入,如美国海军、陆军、空军、美国国家航空航天局(NASA )、弹道导弹防卫局和国防预研局、几乎美国国防部所有部门都将SiC技术研究列入了各自军事系统发展规划。其中SiC晶体生长工艺装备是重要的组成部分,美军正是凭借其在碳化硅装备方面的强大实力,在军事电子方面继续拉大与其他国家的距离。 国内碳化硅研究始于2000年前后,基本都是在Si晶圆研究的基础上进行一些理论性的研究,工艺装备也是在原有的Si晶圆的工艺装备基础上进行了部分改造,研究进展缓慢,装备的缺乏已成为国内SiC项目研究的瓶径。近些年有些研究机构通过各种渠道引进了部分国外发达国家的工艺装备,但价格高昂,所引进设备的技术也不属于前沿技术,并且在引进过程中,对引进单位也有条款上的种种制约,限制了SiC项目在国内的研究。尽管起步早,但目前研究水平还处于初级阶段。 总之,国内SIC项目的研究以进口晶片为主,昂贵的晶片价格,

蓝宝石晶体生长工艺研究

蓝宝石晶体生长工艺研究 【摘要】蓝宝石晶体具有硬度大、熔点高、物理化学性质稳定的特点,是优质光功能材料和氧化物衬底材料,广泛用于电子技术,军事、通信、医学等国防民用, 科学技术等领域。自19 世纪末, 法国化学家维尔纳叶采用焰熔法获得了蓝宝石晶体后,人工生长蓝宝石工艺不断发展, 除了焰熔法外还有冷坩埚法、泡生法、温度梯度法、提拉法、热交换法、水平结晶法、弧熔法、升华法、导模法、坩埚下降法等。本文主要对应用较为广泛的焰熔法、提拉法、泡生法、热交换法、导模法、下降法、等生长工艺进行论述。 【关键词】蓝宝石晶体晶体生长工艺研究蓝宝石晶体的化学成分是氧化铝(a -AI2O3 ),熔点高达2050C,沸点3500C,硬度仅次于金刚石为莫氏硬度9,是一种重要的技术晶体。蓝宝石晶体在光学性能、机械性能和物理化学性质方面表现出了优异性能,因此被各行业广泛应用,同时随着现代科学技术的发展,对蓝宝石晶体的质量要求也不断提升,这就对蓝宝石晶体生长工艺提出了新的挑战。 焰熔法。确切来讲焰熔法是由弗雷米、弗尔、乌泽在

1885 年发明的,后来法国化学家维尔纳叶改进、发 展并投入生产使用。焰熔法是以Al2O3 粉末为原 料,置于设备上部,原料在撒落过程中通过氢及氧气 在燃烧过程中产生的高温火焰,熔化,继续下落,落 在设备下方的籽晶顶端,逐渐生长成晶体。焰熔法生 产设备主要有料筒、锤打机构、筛网、混合室、氢气 管、氧气管、炉体、结晶杆、下降机构、旋转平台等 组成。锤打机构使料筒振动,与筛网合作使粉料少 量、等量或周期性的下落;氧气与粉末一同下降、氢气与氧气混合燃烧;在炉体设有观察窗口可通过望远镜查看结晶状况,下降机构控制结晶杆的移动,旋转平台为晶体生长平台,下方置以保温炉。焰熔法具有生长速度快、设备简单、产量大的优点,但是生产出的晶体缺陷较多,适用于对蓝宝石质量要求不高的晶体生产。 提拉法。提拉法能够顺利地生长某些易挥发的化合物,应用较为广泛。提拉法工艺:将原料装入坩埚中熔化为熔体,籽晶放入坩埚上方的提拉杆籽晶夹具中,降低提拉杆使籽晶插入熔体中,在合适的温度下籽晶不会熔掉也不会长大,然后转动和提升晶体,当加热功率降低时籽晶就会生长,通过对加热功率的调节和提升杠杆的转动即可使籽晶生长成所需的晶体。

数种蓝宝石晶体生长方法

蓝宝石晶体的生长方法 自1885年由Fremy、Feil和Wyse利用氢氧火焰熔化天然红宝石粉末与重铬酸钾而制成了当时轰动一时的“日内瓦红宝石”,迄今人工生长蓝宝石的研究已有100多年的历史。在此期间,为了适应科学技术的发展和工业生产对于蓝宝石晶体质量、尺寸、形状的特殊要求,为了提高蓝宝石晶体的成品率、利用率以及降低成本,对蓝宝石的生长方法及其相关理论进行了大量的研究,成果显著。至今已具有较高的技术水平和较大的生产能力,为之配套服务的晶体生长设备——单晶炉也随之得到了飞速的发展。随着蓝宝石晶体应用市场的急剧膨胀,其设备和技术也在上世纪末取得了迅速的发展。晶体尺寸从2吋扩大到目前的12吋。 低成本、高质量地生长大尺寸蓝宝石单晶已成为当前面临的迫切任务。总体说来,蓝宝石晶体生长方式可划分为溶液生长、熔体生长、气相生长三种,其中熔体生长方式因具有生长速率快,纯度高和晶体完整性好等特点,而成为是制备大尺寸和特定形状晶体的最常用的晶体生长方式。目前可用来以熔体生长方式人工生长蓝宝石晶体的方法主要有焰熔法、提拉法、区熔法、导模法、坩埚移动法、热交换法、温度梯度法、泡生法等。而泡生法工艺生长的蓝宝石晶体约为目前市场份额的70%。LED蓝宝石衬底晶体技术正属于一个处于正在发展的极端,由于晶体生长技术的保密性,其多数晶体生长设备都是根据客户要求按照工艺特点定做,或者采用其他晶体生长设备改造而成。下面介绍几种国际上目前主流的蓝宝石晶体生长方法。

图9 蓝宝石晶体的生长技术发展 1 凯氏长晶法(Kyropoulos method) 简称KY法,中国大陆称之为泡生法。泡生法是Kyropoulos于1926年首先提出并用于晶体的生长,此后相当长的一段时间内,该方法都是用于大尺寸卤族晶体、氢氧化物和碳酸盐等晶体的制备与研究。上世纪六七十年代,经前苏联的Musatov改进,将此方法应用于蓝宝石单晶的制备。该方法生长的单晶,外型通常为梨形,晶体直径可以生长到比坩锅内径小10~30mm的尺寸。其原理与柴氏拉晶法(Czochralski method)类似,先将原料加热至熔点后熔化形成熔汤,再以单晶之晶种(Seed Crystal,又称籽晶棒)接触到熔汤表面,在晶种与熔汤的固液界面上开始生长和晶种相同晶体结构的单晶,晶种以极缓慢的速度往上拉升,但在晶种往上拉晶一段时间以形成晶颈,待熔汤与晶种界面的凝固速率稳定后,晶种便不再拉升,也没有作旋转,仅以控制冷却速率方式来使单晶从上方逐渐往下凝固,最后凝固成一整个单晶晶碇,图10即为泡生法(Kyropoulos method)的原理示意图。泡生法是利用温度控制来生长晶体,它与柴氏拉晶法最大的差异是只拉出晶颈,晶身部分是靠着温度变化来生长,少了拉升及旋转的干扰,比较好控制制程,并在拉晶颈的同时,调整加热器功率,使熔融的原料达到最合适的

蓝宝石晶体生长设备

大规格蓝宝石单晶体生长炉技术说明 一、项目市场背景 α-Al2O3单晶又称蓝宝石,俗称刚玉,是一种简单配位型氧化物晶体。蓝宝石晶体具有优异的光学性能、机械性能和化学稳定性,强度高、硬度大、耐冲刷,可在接近2000℃高温的恶劣条件下工作,因而被广泛的应用于红外军事装置、卫星空间技术、高强度激光的窗口材料。其独特的晶格结构、优异的力学性能、良好的热学性能使蓝宝石晶体成为实际应用的半导体GaN/Al2O3发光二极管(LED),大规模集成电路SOI和SOS及超导纳米结构薄膜等最为理想的衬底材料。低成本、高质量地生长大尺寸蓝宝石单晶已成为当前面临的迫切任务。 蓝宝石晶体生长方式可划分为溶液生长、熔体生长、气相生长三种,其中熔体生长方式因具有生长速率快,纯度高和晶体完整性好等特点,而成为是制备大尺寸和特定形状晶体的最常用的晶体生长方式。目前可用来以熔体生长方式人工生长蓝宝石晶体的方法主要有熔焰法、提拉法、区熔法、坩埚移动法、热交换法、温度梯度法和泡生法等。但是,上述方法都存在各自的缺点和局限性,较难满足未来蓝宝石晶体的大尺寸、高质量、低成本发展需求。例如,熔焰法、提拉法、区熔法等方法生长的晶体质量和尺寸都受到限制,难以满足光学器件的高性能要

求;热交换法、温度梯度法和泡生法等方法生长的蓝宝石晶体尺寸大,质量较好,但热交换法需要大量氦气作冷却剂,温度梯度法、泡生法生长的蓝宝石晶体坯料需要进行高温退火处理,坯料的后续处理工艺比较复杂、成本高。 二、微提拉旋转泡生法制备蓝宝石晶体工艺技术说明 微提拉旋转泡生法制备蓝宝石晶体方法在对泡生法和提拉法改进的基础上发展而来的用于生长大尺寸蓝宝石晶体的方法,主要在乌克兰顿涅茨公司生产的 Ikal-220型晶体生长炉的基础上改进和开发。晶体生长系统主要包括控制系统、真空系统、加热体、冷却系统和热防护系统等。微提拉旋转泡生法大尺寸蓝宝石晶体生长技术主要是通过调控系统内的热量输运来控制整个晶体的生长过程,因此加热体与热防护系统的设计,热交换器工作流体的选择、散热能力的设计,晶体生长速率、冷却速率的控制等工艺问题对能否生长出品质优良的蓝宝石晶体都至关重要。 微提拉旋转泡生法制备蓝宝石晶体,生长设备集水、电、气于一体,主要由能量供应与控制系统、传动系统、晶体生长室、真空系统、水冷系统及其它附属设备等组成。传动系统作为籽晶杆(热交换器)提拉和旋转运动的导向和传动机构,与立柱相连位于炉筒之上,其主要由籽晶杆(热交换器)的升降、旋转装置组成。提拉传动装置由籽晶杆(热交换器)的快速及慢速升降系统两部分组成。籽晶杆(热交换器)的慢速升降系统由稀土永磁直流力矩电机,通过谐波减速器与精密滚珠丝杠相连,经滚动直线导轨导向,托动滑块实现籽晶杆(热交换器)在拉晶过程中的慢速升降运动。籽晶杆(热交换器)的快速升降系统由快速伺服电机经由谐波减速器上的蜗杆、蜗杆副与谐波的联动实现。籽晶杆的旋转运动由稀土永磁式伺服电机通过楔形带传动实现。该传动系统具有定位精度高、承载能力大,速度稳定、可靠,无振动、无爬行等特点。采用精密加热,其具有操作方法简单,容易控制的特点。在热防护系统方面,该设计保温罩具有调节气氛,防辐射性能好,保温隔热层热导率小,材料热稳定性好,长期工作不掉渣,不起皮,具有对晶体生长环境污染小,便于清洁等优点。选用金属钼坩埚,并依据设计的晶体生长尺寸、质量来设计坩埚的内径、净深、壁厚等几何尺寸,每炉最大可制备D200mmX200mm,重量25Kg蓝宝石单晶体。Al2O3原料晶体生长原料采用纯度为5N的高纯氧化铝粉或熔焰法制备的蓝宝石碎晶。 从熔体中结晶合成宝石的基本过程是:粉末原料→加热→熔化→冷却→超过临界过冷度→结晶。 99.99%以上纯度氧化铝粉末加有机黏结剂,在压力机上形成坯体;先将该坯体预先烧成半熟状态的氧化铝块,置入炉内预烧,将炉抽真空排出杂质气体,先后启动机械泵、扩散泵,抽真空至10↑[-3]-10↑[-4]Pa,当炉温达1500-1800℃充入混合保护气体,继续升温至设定温度(2100-2250℃);(3)炉温达设定温度后,保温4-8小时,调节炉膛温度

蓝宝石介绍

蓝宝石介绍 常用晶体生长方法: Czochralski Method (柴氏拉晶法,又称为提拉法):Pull from the melt. Kyropoulos Method (凯氏长晶法,又称为泡生法): Dip and turn. 温度梯度法(TGT法) EFG Method (导模法,Edge Defined Film-fed Growth): Pull through die. 热交换法(Heat Exchange Method,HEM)

垂直水平温度梯度冷却法(Vertical Horiaontal Gradient Freezing,VHGF): 韩国Sapphire Technology Company (STC)技术。 ES2-GSA长晶法:美国Rubicon Technology Inc.技术。 由于钨钼具有耐高温、低污染等特性,被广泛用来做蓝宝石长晶炉的热场部件,包括钨坩埚/钼坩埚、发热体、钨筒、隔热屏、支撑、底座、籽晶杆、坩埚盖等。发热体 采用鸟笼结构钨发热体或者钨网发热体,有利于提供均匀稳定的温场。 化学式 Al2O3 相对分子质量 101.96 性状 白色结晶性粉末。无臭。无味。质极硬。易吸潮而不潮解。溶于浓硫酸,缓慢溶于碱液 中形成氢氧化物,几乎不溶于水及非极性有机溶剂。相对密度(d204)4.0。熔点约2000℃。 用途 1. 红宝石、蓝宝石的主成份皆为氧化铝,因为其它杂质而呈现不同的色泽。红宝石含有 氧化铬而呈红色,蓝宝石则含有氧化铁和氧化钛而呈蓝色。 2. 在铝矿的主成份铁铝氧 石中,氧化铝的含量最高。工业上,铁铝氧石经由Bayer process纯化为氧化铝,再由 Hall-Heroult process转变为铝金属。 3. 氧化铝是金属铝在空气中不易被腐蚀的原因。 纯净的金属铝极易与空气中的氧气反应,生成一层致密的氧化铝薄膜覆盖在暴露于空气中铝 表面。这层氧化铝薄膜能防止铝被继续氧化。这层氧化物薄膜的厚度和性质都能通过一种称 为阳极处理(阳极防腐)的处理过程得到加强。 4. 铝为电和热的良导体。铝的晶体形 态因为硬度高,适合用作研磨材料及切割工具。 5. 氧化铝粉末常用作色层分析的媒介 物。 6. 2004年8月,在美国3M公司任职的科学家开发出以铝及稀土元素化合成的合 金制造出称为transparent alumina的强化玻璃。资料:刚玉粉硬度大可用作磨料,抛 光粉,高温烧结的氧化铝,称人造刚玉或人造宝石,可制机械轴承或钟表中的钻石。氧化铝 也用作高温耐火材料,制耐火砖、坩埚、瓷器、人造宝石等,氧化铝也是炼铝的原料。煅烧 氢氧化铝可制得γ-Al2O3。γ-Al2O3具有强吸附力和催化活性,可做吸附剂和催化剂。刚玉 主要成分α-Al2O3。桶状或锥状的三方晶体。有玻璃光泽或金刚光泽。密度为3.9~4.1g/cm3, 硬度9,熔点2000±15℃。不溶于水,也不溶于酸和碱。耐高温。无色透明者称白玉,含微 量三价铬的显红色称红宝石;含二价铁、三价铁或四价钛的显蓝色称蓝宝石;含少量四氧化 三铁的显暗灰色、暗黑色称刚玉粉。可用做精密仪器的轴承,钟表的钻石、砂轮、抛光剂、 耐火材料和电的绝缘体。色彩艳丽的可做装饰用宝石。人造红宝石单晶可制激光器的材料。 除天然矿产外,可用氢氧焰熔化氢氧化铝制取。氧化铝化学式Al2O3,分子量101.96。 矾土的主要成分。白色粉末。具有不同晶型,常见的是α-Al2O3和γ-Al2O3。自然界中的刚 玉为α-Al2O3,六方紧密堆积晶体,α-Al2O3的熔点2015±15℃,密度3.965g/cm3,硬度

蓝宝石单晶生长技术研发

合約編號:華機95專案字011號 中華技術學院 產學合作研究計畫 結案報告 機械工程系 合作廠商:越峯電子材料股份有限公司計畫執行時程:95年3月17日至 96年8月31日 計畫金額:1,262,000元 計畫主持人﹕黃聖芳博士

藍寶石單晶生長技術研發 越峰電子材料股份有限公司 委託主導性研究計畫 結案報告 計畫主持人:黃聖芳 中華技術學院機械系 Tel:02-27867048ext.24, 0921833132 Fax:27867253 e-mail:sfhuang@https://www.wendangku.net/doc/9a18649112.html,.tw 台北市115南港區研究院路三段245號 計畫執行時程:95年3月17日至96年8月31日

目錄 1、研究背景2 2、藍寶石之特性5 3、藍寶石單晶生長方法介紹7 4、原料、設備與實驗方法17 5、晶體檢測程序27 6、計畫執行成果28 7、結論36

1、研究背景: 藍寶石(Sapphire)是一種氧化鋁(Al2O3)的單晶,又稱為剛玉(Corundum),由於具有優良的機械、光學、化學以及抗輻射性質,因此近年來受到工業界廣泛的應用。由於藍寶石的光學穿透範圍非常的寬,從波長190nm的近紫外光到波長5500nm的中紅外光,藍寶石都有很好的透光率,因此大量被使用作為特種光學元件的透鏡材料、高功率雷射的透鏡材料以及飛彈彈頭光罩的材料,如圖1所示。由於藍寶石具有非常高的硬度與耐磨耗性能,因此也常作為精密機械的軸承材料,如圖2所示。又因具有的良好之抗幅射性能,也使得藍寶石常被應用於航太機具或暴露於輻射環境中的光學元件材料,如圖3所示。此外,目前在製作藍白光LED時所使用的基板材料(Substrate),也是以藍寶石為主,圖4所示即為藍光發光二極體(LED)的結構示意圖。由於藍白光LED具有使用壽命長、消耗功率低,發光效率高等優勢,已成為未來照明燈具的主流,深具市場發展潛力,因而使得作為製作藍白光LED基材的藍寶石之市場需求量也大幅提升。 目前國內工業界對藍寶石的需求量很大,但幾乎全仰賴從美、日、俄等國進口,主要原因是國內缺乏生長藍寶石單晶的技術與人才。而美日等國有能力生產藍寶石單晶的廠商,所提出的技術移轉費用都非常的高,以致迄今尚無國內業者與美日等國的藍寶石單晶生產廠商進行合作。本校(中華技術學院)與俄羅斯的Vniisims公司進行技術合作,引進生長藍寶石單晶的長晶爐與長晶技術,並建置完成整套生長藍寶石的製程,並已多次成功生長出符合工業品質需求的藍寶石單晶。 越峰電子材料股份有限公司正在積極發展藍寶石單晶的長晶技術,並已從俄羅斯引進所需的長晶設備。本計畫即為本校與越峰公司共同簽定的主導性科專產學合作計畫,期望藉由本校已從俄羅斯技術移轉所得的藍寶石單晶長晶技術為基礎,繼續研究開發在藍寶石單晶的長晶製程中,各個參數對晶體品質的影響程度,進而發展出可生產品質更佳且更穩定的藍寶石單晶之製程技術,提供產業界量產之用。 本研究計畫預定完成之工作項目計有下列六項: 1、瞭解不同形態的氧化鋁原料在藍寶石單晶長晶時的合適的比例。 2、確認長晶程序中各個階段的調配與控制對藍寶石單晶品質的影響程度。 3、透過製程參數的控制,包括:加熱電壓、加熱時間、加熱溫度、下晶種方 式以及晶種拉升速率等。掌控製程參數對藍寶石單晶品質之影響程度。 4、獲悉藍寶石單晶所含的缺陷型態與數量。 5、完成硬度分析。

神坛上的美国蓝宝石晶体生长设备

神坛上的美国蓝宝石晶体生长设备 (2011-07-01 12:07:38) 转载 标签: 分类:蓝宝石晶体 arc gt hem tgt 坩锅下降法 蓝宝石晶体生长 杂谈 引言 华裔背景的美国科学家朱棣文博士因激光冷却和俘获原子的实验而分享了1997年的诺贝尔物理学奖。获奖后朱棣文博士访问中国的第一站选择了中国科学院上海光学精密机械研究所拜访王育竹院士。因为王育竹院士比获得1997年诺贝尔物理学奖的朱棣文博士早了近10年就提了关于激光冷却的实验方法和理论设想,但是实验必需器材的购置费120万元迟迟未申请到,以致拖了14年才出成果,结果当然他不可能拿诺贝尔奖。 向王育竹院士表示致敬! ………………………………………………………………… 话说世界500强联合利华新换了一批自动香皂包装机以后,经常出现香皂盒子是空的没有香皂情况,而在装配线一头用人工检查因为效率问题不太可能而且不保险,这不,一个由自动化,机械,机电一体化等专业的博士组成的Solution队伍来解决这个问题,没多久他们在装配线的头上开发了全自动的X光透射检查线,透射检查所有的装配线尽头等待装箱的香皂盒,如果由空的就用机械臂取走。 同样,中国一乡镇企业生产香皂也遇到类似问题,老板吩咐线上小工务必想出对策解决之,小工拿了一个电风扇放在产线上吹风。 一堆最先进的零部件的堆积物,未必是最合适的机器。............................................................................ 事关中国人面子的诺贝尔奖,我们纠结了很多很多年..............其实大可不必,诺贝尔奖已经带有了浓厚的政治色彩.............. 如果我们老百姓能安居乐业、如果有一个让我们的科技工作者心无旁鹫安心工作的环境、如果我们的百姓人人从心底就淡定................不要说我们从未拿过诺贝尔,即使从未有奥运奖牌又能如何? 不能为官员的面子而活,要为百姓的尊严而活! 中国从来不缺乏优秀的人才,只是缺乏合适的制度和尊重知识的土壤。在急功近利的环境中,我们缺乏的是自信和心态;喜欢神话,能为有钱人服务的神话.................尤其是外来的神话。 神坛上美国蓝宝石晶体生长设备 本博主学习和研究晶体生长技术十五年以上,也跑过不少国家和地区,对晶体生长技术和设备的发展水平自认为略知一二。十多年前开始跟踪蓝宝石晶体生长的技术和设备,应该讲前苏联地区的水平在世界上是处于领先水平的。跟踪Crystal System 也是在十年前的事了;在本人的学识范围内,晶体生长的技术和设备绝对是一个需要理论和经验相结合的一个技术活。

单晶生长原理

直拉法:直拉法即切克老斯基法(Czochralski: Cz), 直拉法是半导体单晶生长用的最多的一种晶体生长技术。 直拉法单晶硅工艺过程 -引晶:通过电阻加热,将装在石英坩埚中的多晶硅熔化,并保持略高于硅熔点的温度,将籽晶浸入熔体,然后以一定速度向上提拉籽晶并同时旋转引出晶体; -缩颈:生长一定长度的缩小的细长颈的晶体,以防止籽晶中的位错延伸到晶体中; -放肩:将晶体控制到所需直径;-等径生长:根据熔体和单晶炉情况,控制晶体等径生长到所需长度;-收尾:直径逐渐缩小,离开熔体; -降温:降底温度,取出晶体,待后续加工 直拉法-几个基本问题 最大生长速度 晶体生长最大速度与晶体中的纵向温度梯度、晶体的热导率、晶体密度等有关。提高晶体中的温度梯度,可以提高晶体生长速度;但温度梯度太大,将在晶体中产生较大的热应力,会导致位错等晶体缺陷的形成,甚至会使晶体产生裂纹。为了降低位错密度,晶体实际生长速度往往低于最大生长速度。 熔体中的对流 相互相反旋转的晶体(顺时针)和坩埚所产生的强制对流是由离心力和向心力、最终由熔体表面张力梯度所驱动的。所生长的晶体的直径越大(坩锅越大),对流就越强烈,会造成熔体中温度波动和晶体局部回熔,从而导致晶体中的杂质分布不均匀等。实际生产中,晶体的转动速度一般比坩锅快1-3倍,晶体和坩锅彼此的相互反向运动导致熔体中心区与外围区发生相对运动,有利于在固液界面下方形成一个相对稳定的区域,有利于晶体稳定生长。 生长界面形状(固液界面) 固液界面形状对单晶均匀性、完整性有重要影响,正常情况下,固液界面的宏观形状应该与热场所确定的熔体等温面相吻合。在引晶、放肩阶段,固液界面凸向熔体,单晶等径生长后,界面先变平后再凹向熔体。通过调整拉晶速度,晶体转动和坩埚转动速度就可以调整固液界面形状。 生长过程中各阶段生长条件的差异 直拉法的引晶阶段的熔体高度最高,裸露坩埚壁的高度最小,在晶体生长过程直到收尾阶段,裸露坩埚壁的高度不断增大,这样造成生长条件不断变化(熔体的对流、热传输、固液界面形状等),即整个晶锭从头到尾经历不同的热历史:头部受热时间最长,尾部最短,这样会造成晶体轴向、径向杂质分布不均匀。 直拉法-技术改进: 一,磁控直拉技术 1,在直拉法中,氧含量及其分布是非常重要而又难于控制的参数,主要是熔体中的热对流加剧了熔融硅与石英坩锅的作用,即坩锅中的O2, 、B、Al等杂质易于进入熔体和晶体。热对流还会引起熔体中的温度波动,导致晶体中形成杂质条纹和旋涡缺陷。 2,半导体熔体都是良导体,对熔体施加磁场,熔体会受到与其运动方向相反的洛伦兹力作用,可以阻碍熔体中的对流,这相当于增大了熔体中的粘滞性。在生产中通常采用水平磁场、垂直磁场等技术。 3,磁控直拉技术与直拉法相比所具有的优点在于: 减少了熔体中的温度波度。一般直拉法中固液界面附近熔体中的温度波动达10 C以上,而施加0.2 T 的磁场,其温度波动小于 1 ℃。这样可明显提高晶体中杂质分布的均匀性,晶体的径向电阻分布均匀性也可以得到提高;降低了单晶中的缺陷密度;减少了杂质的进入,提高了晶体的纯度。这是由于在磁场作用下,熔融硅与坩锅的作用减弱,使坩锅中的杂质较少进入熔体和晶体。将磁场强度与晶体转动、坩锅转动等工艺参数结合起来,可有效控制晶体中氧浓度的变化;由于磁粘滞性,使扩散层厚度增大,可提高杂

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