Q3A(R2)-新原料药中的杂质(中英文)-finial解析

INTERNATIONAL CONFERENCE ON HARMONISATION OF TECHNICAL REQUIREMENTS FOR REGISTRATION OF PHARMACEUTICALS FOR HUMAN USE

ICH H ARMONISED T RIPARTITE G UIDELINE

I MPURITIES I N N EW D RUG S UBSTANCES

Q3A(R2)

Current Step 4 version

dated 25 October 2006

This Guideline has been developed by the appropriate ICH Expert Working Group and has been subject to consultation by the regulatory parties, in accordance with the ICH Process. At Step 4 of the Process the final draft is recommended for adoption to the regulatory bodies of the European Union, Japan and USA.

Q3A(R2) Document History

Current Step 4 version

I MPURITIES I N N EW D RUG S UBSTANCES

ICH Harmonised Tripartite Guideline

Having reached Step 4 of the ICH Process at the ICH Steering Committee meeting

on 7 February 2002, this guideline is recommended for

adoption to the three regulatory parties to ICH.

Attachment 2 has been revised on 25 October 2006.

TABLE OF CONTENTS

1.PREAMBLE (4)

2.CLASSIFICATION OF IMPURITIES (4)

3.RATIONALE FOR THE REPORTING AND CONTROL

OF IMPURITIES (6)

3.1Organic Impurities (6)

3.2Inorganic Impurities (7)

3.3Solvents (7)

4.ANALYTICAL PROCEDURES (8)

5.REPORTING IMPURITY CONTENT OF BATCHES (9)

6.LISTING OF IMPURITIES IN SPECIFICATIONS (11)

7.QUALIFICATION OF IMPURITIES (13)

8.GLOSSARY (15)

ATTACHMENT 1 (18)

ATTACHMENT 2 (19)

ATTACHMENT 3 (22)

I MPURITIES I N N EW D RUG S UBSTANCES

新原料药中的杂质

1. PREAMBLE 序言

This document is intended to provide guidance for registration applications on the content and qualification of impurities in new drug substances produced by chemical syntheses and not previously registered in a region or member state. It is not intended to apply to new drug substances used during the clinical research stage of development. The following types of drug substances are not covered in this guideline: biological/biotechnological, peptide, oligonucleotide, radiopharmaceutical, fermentation product and semi-synthetic products derived therefrom, herbal products, and crude products of animal or plant origin.

本文件旨在为那些尚未在任何地区或成员国注册的化学合成的新原料药在注册时，对其杂质的含量和界定的申报提供指导。本报导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药，不涵盖生物及生物技术产品、肽、寡聚核苷酸、放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动植物的粗制品。

Impurities in new drug substances are addressed from two perspectives:

新原料药中的杂质分两个方面阐述：

Chemistry Aspects include classification and identification of impurities, report generation, listing of impurities in specifications, and a brief discussion of analytical procedures; and

化学方面：包括对杂质的分类和鉴定、报告生成、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。

Safety Aspects include specific guidance for qualifying those impurities that were not present, or were present at substantially lower levels, in batches of a new drug substance used in safety and clinical studies.

安全性方面：对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。

2. CLASSIFICATION OF IMPURITIES 杂质的分类

Impurities can be classified into the following categories: 杂质可分为下列类型:

?Organic impurities (process- and drug-related) 有机杂质（与工艺和药物有关的）

?Inorganic impurities 无机杂质

?Residual solvents 残留溶剂

Organic impurities can arise during the manufacturing process and/or storage of the new drug substance. They can be identified or unidentified, volatile or non-volatile, and include:

有机杂质可能会在新原料药的生产过程和（或）储存期间有所增加。这些杂质可能是已鉴定的或者是未鉴定的、挥发性的或者非挥发性的。它包括：

?Starting materials 起始物

?By-products 副产物

?Intermediates中间体

?Degradation products降解产物

?Reagents, ligands and catalysts试剂、配位体、催化剂

Inorganic impurities can result from the manufacturing process. They are normally known and identified and include:

无机杂质可能来源于生产过程，它们一般是已知的和已鉴定的。包括：

?Reagents, ligands and catalysts 试剂、配位体、催化剂

?Heavy metals or other residual metals 重金属或其他残留金属

?Inorganic salts 无机盐

?Other materials (e.g., filter aids, charcoal) 其他物质（例如：过滤介质、活性炭等）

Solvents are inorganic or organic liquids used as vehicles for the preparation of solutions or suspensions in the synthesis of a new drug substance. Since these are generally of known toxicity, the selection of appropriate controls is easily accomplished (see ICH Guideline Q3C on Residual Solvents).

溶剂是在新原料药合成过程中用于制备溶液或混悬液的有机或无机液体，由于它们一般具有已知毒性，故容易选择控制方法（见ICH指导原则Q3C残留溶剂项下）。

Excluded from this document are: (1) extraneous contaminants that should not occur in new drug substances and are more appropriately addressed as Good Manufacturing Practice (GMP) issues, (2) polymorphic forms, and (3) enantiomeric impurities.

不包括在本文件中的杂质为：（1）外源性污染物（不应该存在于新原料药中，可以用GMP来控制）；（2）多晶型；（3）对映体杂质。

3. RATIONALE FOR THE REPORTING AND CONTROL OF IMPURITIES

杂质报告和控制的说明

3.1 Organic Impurities 有机杂质

The applicant should summarise the actual and potential impurities most likely to arise during the synthesis, purification, and storage of the new drug substance. This summary should be based on sound scientific appraisal of the chemical reactions involved in the synthesis, impurities associated with raw materials that could contribute to the impurity profile of the new drug substance, and possible degradation products. This discussion can be limited to those impurities that might reasonably be expected based on knowledge of the chemical reactions and conditions involved.

申报者应对新原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生的那些实际存在的和潜在的杂质进行综述。该描述应建立在对合成所涉及的化学反应、由原材料引入的杂质及可能的降解产物进行合理地、科学地评估的基础上。可以局限于根据化学反应以及相关条件下可能会产生的杂质进行讨论。

In addition, the applicant should summarise the laboratory studies conducted to detect impurities in the new drug substance. This summary should include test results of batches manufactured during the development process and batches from the proposed commercial process, as well as the results of stress testing (see ICH Guideline Q1A on Stability) used to identify potential impurities arising during storage. The impurity profile of the drug substance batches intended for marketing should be compared with those used in development, and any differences discussed.

此外，申报者还应对新原料药中杂质检测的实验室研究工作进行综述，其内容包括对研制期间和模拟上市的所有批次产品的试验结果、以及为鉴定在储存期间可能产生的潜在杂质而进行强力破坏试验的结果（见ICH指导原则Q1A稳定性项下）。同时应对那些模拟上市的原料批次中的杂质概况和用于研制开发过程的原料批次中的杂质概况进行比较，任何不同之处均应加以讨论。

The studies conducted to characterise the structure of actual impurities present in the new drug substance at a level greater than (>) the identification threshold given in Attachment 1 (e.g., calculated using the response factor of the drug substance) should be described. Note that any impurity at a level greater than (>) the identification threshold in any batch manufactured by the proposed commercial process should be identified. In addition, any degradation product observed in stability studies at recommended storage conditions at a level greater than (>) the identification threshold should be identified. When identification of an impurity is not feasible, a summary of the laboratory studies demonstrating the unsuccessful effort should be included in the application. Where attempts have been made to identify

impurities present at levels of not more than (≤) the identification thresholds, it is useful also to report the results of these studies.

申报资料中还应对那些在新原料药中实际存在的、含量大于（＞）附录1中鉴定阈值的杂质（例如：以原料药的响应因子计算）的结构特征进行描述。应该注意，在模拟上市生产的批次中，所有出现的大于（＞）鉴定阈值的杂质应予鉴定；也应同样鉴定在推荐的放置条件下的稳定性研究中发现大于（＞）鉴定阈值的降解产物；当某个杂质无法鉴定时，申报资料中应包括对该杂质所进行的不成功的试验研究的概述。如果已尝试过鉴定含量不大于（≤）鉴定阈值的杂质，那么把这些研究结果也报告进去是很有用的。

Identification of impurities present at an apparent level of not more than (≤) the identification threshold is generally not considered necessary. However, analytical procedures should be developed for those potential impurities that are expected to be unusually potent, producing toxic or pharmacological effects at a level not more than (≤) the identification threshold. All impurities should be qualified as described later in this guideline.

通常没有必要对含量在阈值以下（≤）的杂质进行鉴定。然而，对那些含量不大于（≤）阈值但可能产生不寻常功效或毒性药理作用的潜在杂质，仍应建立分析方法。所有杂质均应按照本指导原则后续章节中的要求来界定。

3.2 Inorganic Impurities无机杂质

Inorganic impurities are normally detected and quantified using pharmacopoeial or other appropriate procedures. Carry-over of catalysts to the new drug substance should be evaluated during development. The need for inclusion or exclusion of inorganic impurities in the new drug substance specification should be discussed. Acceptance criteria should be based on pharmacopoeial standards or known safety data.

无机杂质通常按药典或其他适当的方法来检测和定量。在新药的研制过程中应对遗留在新原料药中的催化剂进行评估。在新原料药规范中是否收载无机杂质检查项目，应进行讨论。认可标准应根据药典标准或已知的安全性数据来制定。

3.3 Solvents溶剂

The control of residues of the solvents used in the manufacturing process for the new drug substance should be discussed and presented according to the ICH Q3C Guideline for Residual Solvents.

应按ICH Q3C“残留溶剂”指导原则的要求，对新原料药生产过程中所用的溶剂的残留量的控制进行讨论和申报。

4. ANALYTICAL PROCEDURES分析方法

The registration application should include documented evidence that the analytical procedures are validated and suitable for the detection and quantification of impurities (see ICH Q2A and Q2B Guidelines for Analytical Validation). Technical factors (e.g., manufacturing capability and control methodology) can be considered as part of the justification for selection of alternative thresholds based on manufacturing experience with the proposed commercial process. The use of two decimal places for thresholds (See Attachment 1) does not necessarily reflect the precision of the analytical procedure used for routine quality control purposes. Thus, the use of lower precision techniques (e.g., thin-layer chromatography) can be acceptable where justified and appropriately validated. Differences in the analytical procedures used during development and those proposed for the commercial product should be discussed in the registration application.

注册申请中应提供书面文件，证明分析方法是经过论证并适用于杂质的检测和定量（见ICH Q2A及Q2B分析方法论证指导原则项下），技术因素（如生产能力与质控方法）可用于说明为什么在拟上市产品中采用其他的阈值。阈值采用两位小数（见附录1）并不代表常规质量控制中分析方法的精度。因此，只需经过验证和论证，可以使用较低精度的技术（如薄层色谱法）。如果研发中所采用的分析方法和准备上市产品的分析方法不同，在申报资料中应予以讨论。

The quantitation limit for the analytical procedure should be not more than ( ) the reporting threshold.

分析方法的定量限度应不大于（≤）报告阈值。

Organic impurity leve ls can be measured by a variety of techniques, including those that compare an analytical response for an impurity to that of an appropriate reference standard or to the response of the new drug substance itself. Reference standards used in the analytical procedures for control of impurities should be evaluated and characterised according to their intended uses. The drug substance can be used as a standard to estimate the levels of impurities. In cases where the response factors of the drug substance and the relevant impurity are not close, this practice can still be appropriate, provided a correction factor is applied or the impurities are, in fact, being overestimated. Acceptance criteria and analytical procedures used to estimate identified or unidentified impurities can be based on analytical assumptions (e.g., equivalent detector response). These assumptions should be discussed in the registration application.

可用各种技术测定有机杂质的含量，这些技术包括把杂质的响应值与适当的参比标准品的响应值比较或与药物本身的响应值比较。应根据使用目的，对分析过程中用于控制杂质的参比标准品进行定性和定量。可用原料药作为标准物质来估计杂质的量，如果原料药和杂质的响应因子不接近，只要应用了校正因子或测得的杂质量高于实际的杂质量，

该方法仍是可行的。用于评估已鉴定或未鉴定杂质的认可标准和分析方法可基于分析的假设（例如：相同的检测响应等）。为此，这些假设也应在注册申请中加以讨论。

5. REPORTING IMPURITY CONTENT OF BATCHES 各批次产品杂质含量的报告

Analytical results should be provided in the application for all batches of the new drug substance used for clinical, safety, and stability testing, as well as for batches representative of the proposed commercial process. Quantitative results should be presented numerically, and not in general terms such as “complies”, “meets limit” etc. Any impurity at a level greater than (>) the reporting threshold (see Attachment 1) and total impurities observed in these batches of the new drug substance should be reported with the analytical procedures indicated. Below 1.0%, the results should be reported to two decimal places (e.g., 0.06%, 0.13%); at and above 1.0%, the results should be reported to one decimal place (e.g., 1.3%). Results should be rounded using conventional rules (see Attachment 2). A tabulation (e.g., spreadsheet) of the data is recommended. Impurities should be designated by code number or by an appropriate descriptor, e.g., retention time. If a higher reporting threshold is proposed, it should be fully justified. All impurities at a level greater than (>) the reporting threshold should be summed and reported as total impurities.

注册申请应提供用于临床、安全性研究、稳定性试验的所有新原料药批次产品的分析结果以及用于准备上市产品的分析结果。定量测定结果应数字化，不应用“符合规定”，“符合限度”等一般性术语。在新原料药的所有批次中，应报告检测到的大于（＞）报告阈值（见附录1）的任何杂质和总杂质，并附所用的分析方法。若低于 1.0%，结果应报告至小数点后两位（如0.06%，0.13%），若大于或等于1.0%，结果报告至小数点后1位（如1.3%）。结果应按传统规则修约（见附录2）。建议使用数据表格（如电子数据表），各杂质均应以编号或合适的描述表示（如保留时间）。如果采用较高的报告阈值，应进行充分论证。所有大于（＞）报告阈值的杂质应进行累加，报告为“总杂质”。

When analytical procedures change during development, reported results should be linked to the procedure used, with appropriate validation information provided. Representative chromatograms should be provided. Chromatograms of representative batches from analytical validation studies showing separation and detectability of impurities (e.g., on spiked samples), along with any other impurity tests routinely performed, can serve as the representative impurity profiles. The applicant should ensure that complete impurity profiles (e.g., chromatograms) of individual batches are available, if requested.

若在研制期间，分析方法发生了变化，报告测试结果应附上所用的分析方法。并提供相应的方法学论证资料。应提供有代表性的色谱图。方法学论证中，显示杂质分离度和检测灵敏度的、具有代表性批次（例如：加样试验）的色谱图和常规杂质检测得到的色谱

图，可以反映出有代表性的杂质概况。申报者应保证：如需要，可提供各个批次产品的完整的杂质概况（例如；色谱图）。

A tabulation should be provided that links the specific new drug substance batch to each safety study and each clinical study in which the new drug substance has been used.

另外，申报者还应提供应用在每个安全性研究和临床研究中的新原料药的每个批次一一对应的名单。

For each batch of the new drug substance, the report should include:

对每批新原料药、报告内容应包括：

?Batch identity and size 批号与批量

?Date of manufacture生产日期

?Site of manufacture 生产地点

?Manufacturing process 生产工艺

?Impurity content, individual and total单个杂质含量和总杂质含量

?Use of batches批次的用途

?Reference to analytical procedure used所采用分析方法的阐释

6. LISTING OF IMPURITIES IN SPECIFICATIONS 规范中所列的杂质检查项目

The specification for a new drug substance should include a list of impurities. Stability studies, chemical development studies, and routine batch analyses can be used to predict those impurities likely to occur in the commercial product. The selection of impurities in the new drug substance specification should be based on the impurities found in batches manufactured by the proposed commercial process. Those individual impurities with specific acceptance criteria included in the specification for the new drug substance are referred to as "specified impurities" in this guideline. Specified impurities can be identified or unidentified.

在新原料药的规范中应包括杂质检查项目。稳定性研究、化学方面的开发研究以及日常批次分析检验的结果有助于预测在市售产品中可能出现的杂质。在新原料药规范中收载的杂质应根据在拟上市生产的批次中所发现的杂质来选择。在本指导原则中。列入新原料药规范中、具有特定的认可标准的各个杂质称为特定杂质。特定杂质可以是已鉴定的，也可以是未鉴定的。

A rationale for the inclusion or exclusion of impurities in the specification should be presented. This rationale should include a discussion of the impurity profiles observed in the safety and clinical development batches, together with a consideration of the impurity profile of batches manufactured by the proposed commercial process. Specified identified impurities should be included along with specified unidentified impurities estimated to be present at a level greater than (>) the identification threshold given in Attachment 1. For impurities known to be unusually potent or to produce toxic or unexpected pharmacological effects, the quantitation/detection limit of the analytical procedures should be commensurate with the

level at which the impurities should be controlled. For unidentified impurities, the procedure used and assumptions made in establishing the level of the impurity should be clearly stated. Specified, unidentified impurities should be referred to by an appropriate qualitative analytical descriptive label (e.g., “unidentified A", “unidentified with relative retention of 0.9”). A general acceptance criterion of not more than ( ) the identification threshold (Attachment 1) for any unspecified impurity and an acceptance criterion for total impurities should be included.

应对用于安全性和临床研究中的批次中所发现杂质情况，以及对拟上市生产的原料中杂质概况综合进行考虑后，再对规范中列入或不列入哪些杂质的理由进行说明。特定的已鉴定杂质应与特定的其含量估计大于（＞）鉴定阈值（附录1）的未鉴定杂质一起考虑。对于那些具有特殊功效或产生毒性或为预料到的药理作用的杂质，其分析方法的定量限或检测限度必须与该杂质应被控制的量相当。对于未鉴定的杂质，所使用的检测方法和确定杂质量时所采用的假设应予明确说明。特定的未鉴定的杂质应采用适当的方法描述标记（例如：“未鉴定杂质A”“相对保留时间为0.9的杂质”）。对于任何一个非特定杂质应有一个不大于（≤）鉴定阈值（附录1）的认可标准，对总杂质也应建立一个认可标准。

Acceptance criteria should be set no higher than the level that can be justified by safety data, and should be consistent with the level achievable by the manufacturing process and the analytical capability. Where there is no safety concern, impurity acceptance criteria should be based on data generated on batches of the new drug substance manufactured by the proposed commercial process, allowing sufficient latitude to deal with normal manufacturing and analytical variation and the stability characteristics of the new drug substance. Although normal manufacturing variations are expected, significant variation in batch-to-batch impurity levels can indicate that the manufacturing process of the new drug substance is not adequately controlled and validated (see ICH Q6A Guideline on Specifications, Decision Tree #1, for establishing an acceptance criterion for a specified impurity in a new drug substance). The use of two decimal places for thresholds (See Attachment 1) does not necessarily indicate the precision of the acceptance criteria for specified impurities and total impurities.

建立认可标准不能高于经安全资料界定合理的水平，并且必须与生产工艺和分析能力所能达到的水平一致。如果没有安全性方面的问题，杂质认可标准应根据拟上市生产的新原料药批次测定的数据来建立，并应为常规生产和分析上的正常变异及药物的稳定性特性留有足够的余地。尽管常规生产中的变化是可以预料的，然而批与批之间杂质水平的显著变化可能预示着新原料药的生产工艺尚未得到充分的控制和论证（见ICH Q6A “规范”指南判断流程图1，建立新原料药中的特殊杂质的认可标准）。阈值的两位小数（见附录1）并不代表特定杂质和总杂质认可标准的精度。

In summary, the new drug substance specification should include, where applicable, the following list of impurities:

总之，新原料药规范中应包括以下杂质检查项：

Organic Impurities 有机杂质：

?Each specified identified impurity每种特定的已鉴定杂质

?Each specified unidentified impurity每种特定的未鉴定的杂质

?Any unspecified impurity with an acceptance criterion of not more than (≤) the identification threshold任何不大于（≤）鉴定阈值认可标准的非特定杂质。

?Total impurities杂质总量

Residual Solvents残留溶剂

Inorganic Impurities无机杂质。

7. QUALIFICATION OF IMPURITIES 杂质的界定

Qualification is the process of acquiring and evaluating data that establishes the biological safety of an individual impurity or a given impurity profile at the level(s) specified. The applicant should provide a rationale for establishing impurity acceptance criteria that includes safety considerations. The level of any impurity present in a new drug substance that has been adequately tested in safety and/or clinical studies would be considered qualified. Impurities that are also significant metabolites present in animal and/or human studies are generally considered qualified. A level of a qualified impurity higher than that present in a new drug substance can also be justified based on an analysis of the actual amount of impurity administered in previous relevant safety studies.

杂质的界定是获得和评估数值的过程，这些数值用于建立安全的阈值（水平），单个的或某些已明确的杂质含量在这个阈值水平下是可以确保生物安全性的。申报者应对所选定的杂质限度提供包括安全性研究在内的理由。对于一个通过充分的安全性研究和临床研究的新原料药，其中任何一个杂质的水平即被认为是已经通过界定了的。对于是动物和/或人体中的重要代谢物的那些杂质，也认为已通过界定。杂质的界定限量（水平）如果高于药物实际所含的杂质量，则同样可以根据对已完成的安全性研究中使用药物中的实际杂质量来判断其合理性。

If data are unavailable to qualify the proposed acceptance criterion of an impurity, studies to obtain such data can be appropriate when the usual qualification thresholds given in Attachment 1 are exceeded.

如果可获得的数据不能界定某一杂质拟定的认可标准，而且当该认可标准超过了附录1所列的界定阈值时，则必须进行进一步的研究，去获得必要的数据。

Higher or lower thresholds for qualification of impurities can be appropriate for some individual drugs based on scientific rationale and level of concern, including drug class effects and clinical experience. For example, qualification can be especially important when there is evidence that such impurities in certain drugs or therapeutic classes have previously been associated with adverse reactions in patients. In these instances, a lower qualification threshold can be appropriate. Conversely, a higher qualification threshold can be appropriate for individual drugs when the level of concern for safety is less than usual based on similar considerations (e.g., patient population, drug class effects, clinical considerations). Proposals for alternative thresholds would be considered on a case-by-case basis.

对于某些药物，可以根据科学原理并考虑药物的类别和临床经验，对其杂质界定阈值进行适当调整。例如，某些杂质在一些药物中或治疗类别中已证明与病人的不良反应有关，则该杂质的界定是非常重要的。在这种情况下，应制订更低的界定阈值。反之，如果考虑相似情况（病例数、药物类别、临床情况）后，对安全性的顾虑比通常情况小，那么这些药物的界定阈值可以高一些。对限度的改变应具体情况具体对待。

The "Decision Tree for Identification and Qualification" (Attachment 3) describes considerations for the qualification of impurities when thresholds are exceeded. In some cases, decreasing the level of impurity to not more than the threshold can be simpler than providing safety data. Alternatively, adequate data could be available in the scientific literature to qualify an impurity. If neither is the case, additional safety testing should be considered. The studies considered appropriate to qualify an impurity will depend on a number of factors, including the patient population, daily dose, and route and duration of drug administration. Such studies can be conducted on the new drug substance containing the impurities to be controlled, although studies using isolated impurities can sometimes be appropriate.

鉴定和界定判断图（附件3）描述了当杂质含量超过了界定阈值时所应考虑到的事项。在一些情况下降低杂质含量使其低于阈值要比提供安全性数据来的简单。或者可以选择文献资料提供的充分数据来界定某一杂质。如果两者均不可行，则应考虑进行附加的安全性试验。合理的界定一个杂质的研究将取决于许多因素，包括病例数，每日剂量、给药途径与疗程。这类试验虽然可用分离出来的杂质进行研究，但通常是用含有被控制的杂质的新原料药来进行研究。

Although this guideline is not intended to apply during the clinical research stage of development, in the later stages of development the thresholds in this guideline can be useful in evaluating new impurities observed in drug substance batches prepared by the proposed commercial process. Any new impurity observed in later stages of development should be identified if its level is greater than (>) the identification threshold given in Attachment 1 (see the “Decision Tree for Identification and Qualification” in Attachment 3). Similarly, the qualification of the impurity should be considered if its level is greater than (>) the qualification

threshold given in Attachment 1. Safety assessment studies to qualify an impurity should compare the new drug substance containing a representative amount of the new impurity with previously qualified material. Safety assessment studies using a sample of the isolated impurity can also be considered.

虽然本指导原则在研发的临床研究阶段并不适用，但在研究后期，本指南的阈值对于评价拟上市新原料药生产过程中的各批次中出现的新杂质是有用的。在研究后期，任何含量大于（＞）附件1中鉴定阈值（见附件3鉴定和界定流程图）的新的杂质均需鉴定。同样，如果杂质量大于（＞）附录1中的界定阈值，应考虑杂质的界定。界定某杂质的安全性评价研究应将含有一定代表量新杂质的新原料药与以前界定过的原料进行比较。也可考虑用已分离出来的杂质样本进行安全性研究。

8. GLOSSARY 术语

Chemical Development Studies: Studies conducted to scale-up, optimise, and validate the manufacturing process for a new drug substance.

化学方面的开发研究:对新原料药合成工艺进行放大、优化以及论证的研究。Enantiomeric Impurity: A compound with the same molecular formula as the drug substance that differs in the spatial arrangement of atoms within the molecule and is a non-superimposable mirror image.

对映体杂质:与药物具有相同的分子式，但其分子中原子的空间排列不同并且为非镜像叠加的化合物。

Extraneous Contaminant: An impurity arising from any source extraneous to the manufacturing process.

外源物质:来源于生产工艺以外的杂质。

Herbal Products: Medicinal products containing, exclusively, plant material and/or vegetable drug preparations as active ingredients. In some traditions, materials of inorganic or animal origin can also be present.

草药:以植物和/或植物药制品为活性组分制成的药物制剂。在一些传统药中，可能也含有无机物或动物组织。

Identified Impurity: An impurity for which a structural characterisation has been achieved.

已鉴定的杂质：已确证了其结构特征的杂质。

Identification Threshold: A limit above (>) which an impurity should be identified.

鉴定阈值：杂质应被鉴定的限度值。

Impurity: Any component of the new drug substance that is not the chemical entity defined as the new drug substance.

杂质：存在于新原料药中，但其化学结构与新原料药不一样的任何一种成分。

Impurity Profile: A description of the identified and unidentified impurities present in a new drug substance.

杂质概况：对存在于某一新原料药中的已鉴定或未鉴定杂质情况的描述。

Intermediate: A material produced during steps of the synthesis of a new drug substance that undergoes further chemical transformation before it becomes a new drug substance.

中间体：化学合成新原料药的过程中所产生的某一成分，必须进一步进行结构改变才能成为新原料药。

Ligand: An agent with a strong affinity to a metal ion.

配位体：对金属离子具有很强亲和力的试剂。

New Drug Substance: The designated therapeutic moiety that has not been previously registered in a region or member state (also referred to as a new molecular entity or new chemical entity). It can be a complex, simple ester, or salt of a previously approved drug substance.

新原料药：先前尚无在某一地区或成员国注册的具有治疗作用的活性部分（或为新分子体或新化学体）。它可以是某种已获批准的药物的一种复合物、简单的酯或盐。

Polymorphic Forms: Different crystalline forms of the same drug substance. These can include solvation or hydration products (also known as pseudo-polymorphs) and amorphous forms.

多晶型：某一药物的不同结晶形态。包括溶剂化或水合物（伪晶体及无定型）。

Potential Impurity: An impurity that theoretically can arise during manufacture or storage. It may or may not actually appear in the new drug substance.

潜在杂质：按照理论推测在生产过程中可能引入或产生的杂质。其在新原料药中可能存在，也可能是不存在的。

Qualification: The process of acquiring and evaluating data that establishes the biological safety of an individual impurity or a given impurity profile at the level(s) specified.

界定：是获得和评价一些数据的过程，这些数据用于建立安全的阈值（水平），单个的或一些已确定的杂质的含量在这个阈值下可以确保生物安全性。

Qualification Threshold: A limit above (>) which an impurity should be qualified.

界定阈值：杂质应被界定的限度值。

Reagent: A substance other than a starting material, intermediate, or solvent that is used in the manufacture of a new drug substance.

试剂：一种与起始物、中间体或溶剂不同的物质，在新原料药的生产中使用

Reporting Threshold:A limit above (>) which an impurity should be reported. Reporting threshold is the same as reporting level in Q2B.

报告阈值：杂质应报告的限度，即Q2B中的“报告水平”。

Solvent: An inorganic or an organic liquid used as a vehicle for the preparation of solutions or suspensions in the synthesis of a new drug substance.

溶剂：在新原料药合成中用于制备溶液或混悬液的无机或有机液体。

Specified Impurity: An impurity that is individually listed and limited with a specific acceptance criterion in the new drug substance specification. A specified impurity can be either identified or unidentified.

特定杂质：在新原料药规范（标准）中规定要检测并有特定的认可标准的杂质。它可以是已鉴定或未鉴定的杂质。

Starting Material: A material used in the synthesis of a new drug substance that is incorporated as an element into the structure of an intermediate and/or of the new drug substance. Starting materials are normally commercially available and of defined chemical and physical properties and structure.

起始物：在新药的合成中，作为一种成分结合到中间体或新药中的物质。起始物通常市场上有供应，并具有确定的化学物理性质及结构。

Unidentified Impurity: An impurity for which a structural characterisation has not been achieved and that is defined solely by qualitative analytical properties (e.g., chromatographic retention time).

未鉴定杂质：未获得结构特征，仅通过定性手段（例如：色谱保留时间）来定义的杂质。

Unspecified impurity: An impurity that is limited by a general acceptance criterion, but not individually listed with its own specific acceptance criterion, in the new drug substance specification.

非特定杂质：在新原料药规范（标准）中，其限度在总认可标准中控制而不单独控制的

杂质。

1 The amount of drug substance administered per day

每日使用的原料药的量。

2 Higher reporting thresholds should be scientifically justified

能否制定较高的报告阈值，应经过科学验证。

3 Lower thresholds can be appropriate if the impurity is unusually toxic 如果杂质具有特殊毒性，可以采用较低的阈值

ATTACHMENT 2 Illustration of Reporting Impurity Results for Identification and Qualification in an Application

附件2 申请文件中杂质鉴定或界定结果报告实例

The attachment is only illustrative and is not intended to serve as template how results on impurities should be presented in an application file. Normally raw data are not presented.

本附件只是作为说明，并不作为杂质检测结果在申请文件中呈报的模板。原始数据通常不呈报。

Example 1: 0.5 g Maximum Daily Dose

Reporting threshold = 0.05%

Identification threshold = 0.10%

Qualification threshold = 0.15%

例1：0.5g 最大日剂量

报告阈值＝0.05%

鉴定阈值＝0.10%

界定阈值＝0.15%

Example 2: 0.8 g Maximum Daily Dose

Reporting threshold = 0.05% I dentification threshold = 0.10%

Qualification threshold = 1.0 mg TDI

例2： 0.8g 最大日剂量

报告阈值＝0.05%

鉴定阈值＝0.10%

界定阈值＝1.0mg每天总摄入量

1) After identification, if the response factor is determined to differ significantly from the original assumptions, it may be appropriate to re-measure the actual amount of the impurity present and re-evaluate against the qualification threshold (see Attachment 1).

鉴定后，如果确定的响应因子和原始假设明显不同，应检测所存在的杂质的实际量，并重新评价界定阈值（附件1）。

2) To verify if a threshold is exceeded, a reported result has to be evaluated against the thresholds as follows: when the threshold is described in %, the reported result rounded to the same decimal place as the threshold should be compared directly to the threshold. When the threshold is described in TDI, the reported result should be converted to TDI, rounded to the same decimal place as the threshold and compared to the threshold. For example the amount of impurity at 0.12% level corresponds to a TDI of 0.96 mg (absolute amount) which is then rounded up to 1.0 mg; so the qualification threshold expressed in TDI (1.0 mg) is not exceeded. 要验证是否超出阈值，报告的结果应针对阈值进行如下评估：当阈值用百分数表示时，报告结果应修约到与阈值的小数点位数相同后直接与该阈值比较。当阈值用每天总摄入量（TDI）表述时，报告结果应当转换为每天总摄入量（TDI），并修约至与阈值小数点位数相同，并与该阈值比较。例如，杂质量0.12%对应的每天总摄入量（TDI）为0.96 mg

电阻阻值一览表

电阻阻值一览表 阻值1 阻值2 阻值3 阻值4 阻值5 阻值6 阻值7 阻值8 阻值9 0.1欧 1.0欧 10欧 100欧 1.0K 10K 100K 1.0M 10M 0.11欧 1.1欧 11欧 110欧 1.1K 11K 110K 1.1M 11M 0.12欧 1.2欧 12欧 120欧 1.2K 12K 120K 1.2M 12M 0.13欧 1.3欧 13欧 130欧 1.3K 13K 130K 1.3M 13M 0.15欧 1.5欧 15欧 150欧 1.5K 15K 150K 1.5M 15M 0.16欧 1.6欧 16欧 160欧 1.6K 16K 160K 1.6M 16M 0.18欧 1.8欧 18欧 180欧 1.8K 18K 180K 1.8M 18M 0.20欧 2.0欧 20欧 200欧 2.0K 20K 200K 2.0M 20M 0.22欧 2.2欧 22欧 220欧 2.2K 22K 220K 2.2M 22M 0.24欧 2.4欧 24欧 240欧 2.4K 24K 240K 2.4M 0.27欧 2.7欧 27欧 270欧 2.7K 27K 270K 2.7M 0.30欧 3.0欧 30欧 300欧 3.0K 30K 300K 3.0M 0.33欧 3.3欧 33欧 330欧 3.3K 33K 330K 3.3M 0.36欧 3.6欧 36欧 360欧 3.6K 36K 360K 3.6M 0.39欧 3.9欧 39欧 390欧 3.9K 39K 390K 3.9M 0.43欧 4.3欧 43欧 430欧 4.3K 43K 430K 4.3M 0.47欧 4.7欧 47欧 470欧 4.7K 47K 470K 4.7M 0.51欧 5.1欧 51欧 510欧 5.1K 51K 510K 5.1M 0.56欧 5.6欧 56欧 560欧 5.6K 56K 560K 5.6M 0.62欧 6.2欧 62欧 620欧 6.2K 62K 620K 6.2M 0.68欧 6.8欧 68欧 680欧 6.8K 68K 680K 6.8M 0.75欧 7.5欧 75欧 750欧 7.5K 75K 750K 7.5M 0.82欧 8.2欧 82欧 820欧 8.2K 82K 820K 8.2M 0.91欧 9.1欧 91欧 910欧 9.1K 91K 910K 9.1M

电阻与滑动变阻器练习答案

电阻、变阻器练习参考答案 A. R甲＞R乙I甲=I乙 B. R甲＞R乙I甲，v I乙 C ? R甲v R乙I甲=I乙 D ? R甲v R乙I甲＞I乙 电阻 1?下列措施中，不可能改变导体电阻大小的是（D ） A改变导体的长度B改变导体的材料 C改变导体的横截面积D改变导体在电路中的位置 2.将导线均匀拉长，使横截面积为原来的1/2倍，拉长后的细导线电阻与原导线电阻相比（A ） A变大B不变C变小D无法判断 3?下列事实能说明导体的电阻跟材料有关的是（C ） A长度相同、粗细不同的铜丝，电阻不同B粗细相同、长度不同的铁丝，电阻不同C长度、粗细相同的铜丝和铁丝，电阻不同D长度、粗细不同的铜丝和铁丝，电阻不同9?在探究电阻大小与哪些因素有的实验中，换用不同的导体做实验时，保持导体两端电压不变，得出的几组实验数据见表格。 （1）比较1、2两次实验结果，可以初步得出结 论：在长度、横截面积相同时， 实验 次数 导体长度横截 面积 电流I/A 1 镍铬合金线L S 0.16 材料不同电阻不同。 2 锰铜合金线L S 0.42 3 镍铬合金线L/2 S 0.32 （2 ）比较1、3、5 三次实验结 4 镍铬合金线:L 2S 0.32 5 镍铬合金线L/4 S 0.64 果，可以得出结论：在材料、横截面积相同时，长度越长电阻越大 B电阻是导体本身的属性，不论温度如何变化，它的电阻都不可能变化 C温度相同时，粗细、长度都相等的铜丝和铁丝，铁丝的电阻较大 D要改变导体的电阻，可以通过改变导体中的电流来实现8 ?甲、乙两根电阻丝材料相同，长度相同，甲比乙细，将它们串联接入电路，比较它们的电阻和通过它们的电流（A ）2.下列最适合制作滑动变阻器电阻丝的材料是（D ）A铁丝B铜丝C铝丝 4?温度一定时，关于导线的电阻，下列说法正确的是（C ） A铁导线的电阻一定比铜导线的电阻大B粗导线的电阻一定比细导线的电阻小 C将一根导线拉长，其电阻一定变大同D长度粗细都相同的两根导线，电阻一定相10 ?如图所示为探究影响导体电阻大小因素”的实验电路，A、B之间接 导体， （1）本试验通过 _电流表示数（或灯泡亮度）_ 比较导体电阻的大小； p-G> A 5?若不考虑温度对电阻的影响，下列说法正确的是（D ） A铜导线的电阻比铝导线的电阻小B短导线的电阻比长导线的电阻小 C粗导线的电阻比细导线的电阻小 6?下列有关电阻的说法中，正确的是（D A导体中的电流越大电阻越小 C导体两端的电压越大，电阻越小 7?下列有关电阻的说法正确的是（C ） D长度相同的铜导线，粗的比细的电阻小 ） B导体不接入电路中，电阻为零 D电阻是导体的属性，与电压、电流大小无关 （2）小明发现手边只有一根较长的金属丝，他可以探究导体的电阻是 否与 ____ 长度_____ 和 _横截面积_________ 有关。第9题图 变阻器练习题 1.物理实验中常用的滑动变阻器如图所示,这种变阻器是通过改变接入电 路中电阻丝的_长度 _________ 来改变电阻大小的，该滑动变阻器铭牌上标有 50 Q、1A”字样，其中50 Q表示的是___ 最大电阻值为50 Q _____ ,1A表 A当导体被均匀拉长到原来的两倍时，它的电阻减小为原来的一半示的是_允许通过的最大电流值为1A_。将这个变阻器接入电路后，如 第1题图果将滑片P向D端移动时变阻的电阻变小，贝U应将—BC（或ED）_两点接入电路中。 D镍铬合金 A x ---- ---- 好 eAXwkwv" B

原料药中的杂质

工业指南 简化新药申请: 原料药中的杂质 美国健康与人类服务部 食品药品管理局 药品评价与研究中心(CDER) 2009年6月 仿制药办公室 第1次修订

工业指南 简化新药申请: 原料药中的杂质 从以下部门可得到额外的副本： Office of Communication Division of Drug Information, WO51, Room 2201 Center for Drug Evaluation and Research Food and Drug Administration 10903 New Hampshire Ave. Silver Spring, MD 20993-0002 Phone: 301-796-3400; Fax: 301-847-8715 druginfo@https://www.wendangku.net/doc/9e4777831.html, https://www.wendangku.net/doc/9e4777831.html,/Drugs/GuidanceComplianceRegulatoryInformation/Guidances/default.htm 美国健康与人类服务部 食品药品管理局 药品评价与研究中心(CDER) 2009年6月 仿制药办公室 第1次修订

目录 I．介绍 (4) II．背景 (4) III．原料药标准中杂质名单及对其设定的可接受标准 (5) A. 原料药标准中杂质名单 (5) B. 为杂质设定可接受标准 (6) IV．杂质的确认限度 (6) A. 确认限度 (7) B. 确认程序 (7) 1. 对比分析研究 (7) 2. 科学文献和重要代谢物 (7) 3. 毒性研究 (7) 附件：原料药中杂质的鉴定限度和确认限度 (8)

原料药杂质管理规程

SMP-QC-01-022 1.目的：为了加强原料药杂质管理，确保上市药品质量。 2.适用范围：本公司生产的原料药产品。 3.责任者：QC、QC负责人、QA负责人、质量受权人。 4.内容： 4.1杂质的定义及分类 4.1.1定义：任何影响药品纯度的物质均称为杂质。。 4.1.2分类： ?按化学特性分类：有机杂质、无机杂质、有机挥发性物质。

SMP-QC-01-022 ①有关物质 -起始原料 -中间体、畐寸产物 -降解产物 -聚合物 -异构体 ②多晶型杂质 (2 )无机杂质 -无机盐 阴离子 阳离子 -重金属催化剂 -过滤介质、活性炭 (3 )有机挥发性物质 残留溶剂 ?按来源分类：有关物质(反应前体、中间体、副产物、降解产物等) 、其它杂质、外来物质。 ?按结构分类：其他甾体、其他生物碱、几何异构体、光学异构体和聚合物。 4.2杂质的检测方法 ?原子吸收分光光度法：检查金属杂质 ?毛细管电泳法：抑肽酶中检查去丙氨酸-去甘氨酸-抑肽酶和去丙氨酸-抑肽酶两

个特定杂质 SMP-QC-01-022 ?色谱法：液相色谱法，检查有机杂质的主要方法 薄层色谱法，作为液相色谱法的补充 气相色谱法：检查挥发性杂质 ?热分析法：检查不同晶型的杂质（影响生物利用度和稳定性） ?拉曼光谱法、红外光谱法、X-射线粉末衍射 ?生物检定法、酶联免疫试剂盒（抗生素残留量） 4.3杂质的控制 431残留溶剂控制 ?标准起草过程中，应针对所用到的有机溶剂进行检查； ?建议采用了顶空进样方式和程序升温梯度洗脱的方法； ?应注意供试品溶液的配制，要求供试品在溶剂中溶解； ?方法学试验应进行回收试验，确认是否有基质干扰； ?采用标准加入法，该方法可减少基质干扰，提高方法的准确度。 4.3.1.1残留溶剂检测的常见问题 ①共出峰干扰 ②热降解干扰 ③基质效应的影响 ④药品溶解性的影响 ⑤溶剂介质的影响

初二科学-定值电阻与滑动变阻器

学科教师辅导教案 学员编号：年级：初二课时数：3 学员姓名：辅导科目：物理学科教师： 授课内容定值电阻与变阻器 星级★★★ 授课日期及时段 教学内容 Ⅰ.课堂导入 请同学观察上面两幅图片，是否有似曾相识的感觉，对了，这两幅图在我们讲物质导电性时我们看到过。那么请问同学是否能回忆起这两幅图分别代表是什么？它们又有什么特点和功能呢？ 带着这样的问题，我们一起开始本节课的学习内容吧！

Ⅱ.同步讲解 一、要点提纲： 1、电阻 （1）不同的材料导电能力有强有弱，为了比较各种材料的导电能力的强弱，引入电阻。 （2）电阻是导体对电流的阻碍作用。电阻越大，导体对电流的阻碍作用越大，导电能力越弱。 所以，导体电阻比较小，导电能力强；绝缘体的电阻非常大，导电能力很弱。 （3）电阻可用字母R表示。 （4）电阻的单位：欧姆，简称欧，符号为Ω。比欧大的单位还有千欧kΩ、兆欧MΩ。 换算关系：1MΩ=103kΩ，1kΩ=103Ω。 在生产、生活和实验中，经常要用到具有一定阻值的电阻元件——电阻器，简称电阻或定值电阻。如R=10欧，R=5欧，定值电阻的符号是，定值电阻的作用是控制电路中的电流大小。 2、滑动变阻器 （1）由于实际情况的需要，常常有以下实例： ①台灯调光器调节灯泡的亮度 ②变速开关调节电扇的转速 ③音量开关调节录音机、电视机或电话机的音量。 要实现上述目的，只要改变电路中的电流大小就行。而电路中的电流大小的改变，则可以通过改变电阻的大小来实现。改变导体电阻大小的方法有改变材料、长度、粗细和温度。而最方便的是改变导体的长度。 （2）概念：靠改变接入电路中的电阻丝的有效长度来改变电阻大小的装置。 ①结构：下图为滑动变阻器实物图，结构的名称：A瓷筒，B线圈，C金属杆，D接线柱，P滑动触头（滑片）。 ②滑动变阻器的结构图和电路图。

分析化学中的标准曲线

分析化学中的标准曲线

在分析化学实验中，常用标准曲线法进行定量分析，通常情况下的标准工作曲线是一条直线。 标准曲线的横坐标(X)表示可以精确测量的变量(如标准溶液的浓度)，称为普通变量，纵坐标(Y)表示仪器的响应值(也称测量值，如吸光度、电极电位等)，称为随机变量。当X 取值为X1, X2,…… Xn 时，仪器测得的Y 值分别为Y1, Y2, …… Yn。将这些测量点Xi, Yi 描绘在坐标系中，用直尺绘出一条表示X 与Y 之间的直线线性关系，这就是常用的标准曲线法。用作绘制标准曲线的标准物质，它的含量范围应包括试祥中被测物质的含量，标准曲线不能任意延长。用作绘制标准曲线的绘图纸的横坐标和纵坐标的标度以及实验点的大小均不能太大或太小，应能近似地反映测量的精度。 由于误差不能完全避免，实验点完全落在工作曲线的的情况是极少的，尤其是在误差较大时，实验点比较分散，它们通常并不在同一条直线上，这样凭直觉很难判断怎样才能使所连接的直线对于所有实验点来说误差是最小的，目前较好的方法是对实验点(数据)进行回归分析。 研究随机现象中变量之间相关关系的数理统计方法称为回归分析，当自变量只有一个或X 与Y 在坐标图上的变化轨迹近似一直线时，称为一元线性回归。 2.6.1一元线性回归方程的求法 确定回归直线的原则是使它与所有测量数据的误差的平方和达到极小值，设回归直线方法为 (2－15) 式中a 表示截距，b 表示斜率。 假设Xi 和Yi (i=1,2,3,……,n)是变量X 和Y 的一组测量数据。对于每一个Xi 值，在直线( )上都有一个确定的 值。但 值与X 轴上Xi 处的实际测定值Yi 是不相等的， 与Yi 之差为： (2－16) 上式表示 与直线()的偏离程度，即直线的误差程度。如果全部n 个测定引起的总偏差用 表示，则偏差平方和s 为 (2－17) 在所有直线中，偏差平方和s 最小的一条直线就是回归直线，即这条直线的斜率b 和截距a 应使s 值达到最小，这种要使所有数据的偏差平方和达到最小的求回归直线法称为最小二乘法。 根据数学分析的极值原理，要使s 达到最小，对式(2－17)中的a 、b 分别求偏微分后得到

原料药质量研究的一般内容

原料药质量研究的一般内容(zhuantie ) 原料药质量研究的一般内容 原料药的质量研究应在确证化学结构或组份的基础上进行。原料药的一般研究项目包括性状、鉴别、检查和含量测定等几个方面。 1、性状 1.1 外观、色泽、臭、味、结晶性等外观、色泽、臭、味，结晶性等为药物的 一般性状，应予以考察，并应注意在贮存期内是否发生变化，如有变化，应如实描述，如遇光变色、易吸湿、风化、挥发等情况。 1.2 溶解度 通常考察药物在水及常用溶剂（与该药物溶解特性密切相关的、配制制剂、制备溶液或精制操作所需用的溶剂等）中的溶解度。 1.3 熔点或熔距 熔点或熔距是已知结构的化学原料药的重要物理常数之一，熔点或熔距数据是鉴别和检查该原料药的纯度指标之一。常温下呈固体状态的原料药应考察其熔点或受热后的熔融、分解、软化等情况。结晶性原料药一般应有明确的熔点，对熔点难以判断或熔融同时分解的品种应同时采用热分析方法进行比较研究。 1.4 旋光度或比旋度 旋光度或比旋度是反映具光学活性化合物固有特性及其纯度的指标。对这类药物，应考察其旋光性质（采用不同的溶剂），并测定旋光度或比旋度。 1.5 吸收系数 化合物对光的选择性吸收及其在最大吸收波长处的吸收系数，是该化合物的物理常数之一，也是原料药质量研究的一个重要项目。药物的吸收系数应至少用五台不同型号的仪器，按照规范的方法测定，并对结果进行统计处理。 1.6 其他 相对密度：相对密度可反映物质的纯度。纯物质的相对密度在特定条件下为不变的常数。若纯度不够，则其相对密度的测定值会随着纯度的变化而改。液体原料药应考察其相对密度。 凝点：凝点系指一种物质由液体凝结为固体时，在短时间内停留不变的最高温度。物质的纯度变更，凝点亦随之改变。液体原料药应考察其是否具有一定的凝点。． 馏程：某些液体药物具有一定的馏程，测定馏程可以区别或检查药物的纯杂程度。 折光率：对于液体药物，尤其是植物精油，利用折光率数值可以区别不同的油类或检查某些药物的纯杂程度。 黏度：黏度是指流体对流动的阻抗能力。测定液体药物或药物溶液的黏度可以区别或检查其纯度。 碘值、酸值、皂化值、羟值等：是脂肪与脂肪油类药物的重要理化性质指标，在此类药物的质量研究中应予以研究考察。 2、鉴别 原料药的鉴别试验要采用专属性强，灵敏度高、重复性好，操作简便的方法，常用的方法有化学反应法、色谱法和光谱法。 2.1 化学反应法 化学反应法的主要原理是选择功能团专属的化学反应进行鉴别。包括显色反应、

新原料药中的杂质研究指南

新原料药中的杂质 1. PREAMBLE 序言 本文件旨在为化学合成的新原料药（这些新原料药尚未在任何地区或成员国注册）在注册申请时，对其杂质的含量和界定的申报提供指导。本报导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药。本文件不涵盖生物／生物制品、肽、寡聚核苷酸。放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。 新原料药中的杂质分两个方面阐述： 化学方面：包括对杂质的分类和鉴定、杂质生成、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。 安全性方面：对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。 2. CLASSIFICATION OF IMPURITIES 杂质的分类 杂质可分为下列类型: ?有机杂质（与工艺和药物有关的） ?无机杂质 ?残留溶剂 有机杂质可能会在新原料药的生产过程和（或）储存期间有所增加。这些杂质可能是已确定的或者是未确定的、挥发性的或者非挥发性的。它包括： ?起始物 ?副产物 ?中间体 ?降解产物 ?试剂、配位体、催化剂 无机杂质可能来源于生产过程，它们一般是已知的和确定的。包括： ?试剂、配位体、催化剂 ?重金属或其他残留金属 ?无机盐 ?其他物质（例如：过滤介质、活性炭等）

溶剂是在新原料药合成过程中用于制备溶液或混悬液的有机或无机液体，由于它们一般具有已知毒性，故容易选择控制方法（见ICH指导原则Q3C残留溶剂项下）。 不包括在本文件中的杂质为：（1）外源性污染物（不应该存在于新原料药中，可以用GMP来控制）；（2）多晶型；（3）对映体杂质。 3. RATIONALE FOR THE REPORTING AND CONTROL OF IMPURITIES 杂质报告和控制的说明 3.1 Organic Impurities 有机杂质 申报者应对新原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生的那些实际存在的和潜在的杂质进行概述。该描述应建立在对合成所涉及的化学反应、由原材料引入的杂质及可能的降解产物进行合理地、科学地评估的基础上。可以局限于根据化学反应以及相关条件下可能会产生的杂质进行讨论。 此外，申报者还应对新原料药中杂质检测的实验室研究工作进行概述，其内容包括对研制期间和模拟上市的所有批次产品的试验结果、以及为鉴定在储存期间可能产生的潜在杂质而进行强力破坏试验的结果（见ICH指导原则Q1A稳定性项下）。同时应对那些模拟上市的原料批次中的杂质概况和用于研制开发过程的原料批次中的杂质概况进行比较，任何不同之处均应加以讨论。 申报资料中还应对那些在新原料药中实际存在的、含量大于（＞）附录1中鉴定阈值的杂质（例如：以原料药的响应因子计算）的结构特征进行描述。应该注意，在模拟上市生产的批次中，所有出现的大于（＞）鉴定阈值的杂质应予鉴定；也应同样鉴定在推荐的放置条件下的稳定性研究中发现大于（＞）鉴定阈值的降解产物；当某个杂质无法鉴定时。申报资料中应包括对该杂质所进行的不成功的试验研究的概述。如果已尝试过鉴定含量不大于（≤）鉴定阈值的杂质。那么把这些研究结果也报告进去是很有用的。 通常没有必要对含量在阈值以下（≤）的杂质进行鉴定。然而，对那些含量不大于（≤）阈值但可能产生不寻常功效或毒性药理作用的潜在杂质，则应力求鉴定他们。所有杂质均应按照本指导原则后续章节中的要求来鉴定。 3.2 Inorganic Impurities无机杂质 无机杂质通常按药典或其他适当的方法来检测和定量。在新药的研制过程中应对遗留在新原料药中的催化剂进行评估。在新原料药规范中是否收载无机杂质检查项目，应进行讨论。其认可限度应根据药典标准或已知的安全性数据来制定。

漆包线载流规格对照表

序号线号mm电流密度 （A）安全电流 （A） 备注 1 1.6 4.510.213 2 1.55 4.59.584 3 1.5 4.58.976 4 1.4 5 4.58.388 5 1.4 4.57.819 6 1.35 4.57.271 7 1.3 4.5 6.742 8 1.25 4.5 6.233 9 1.2 4.5 5.745 10 1.15 4.5 5.276 11 1.1 4.5 4.827 12 1.05 4.5 4.398 131 4.5 3.989 140.95 4.5 3.6 150.9 4.5 3.231 160.85 4.5 2.882 170.8 4.5 2.553 180.75 4.5 2.244 190.7 4.5 1.955 200.65 4.5 1.686 210.6 4.5 1.436 220.55 4.5 1.207 230.5 4.50.997 240.45 4.50.808 250.4 4.50.638 260.37 4.50.546 270.35 4.50.489 280.32 4.50.409 290.3 4.50.359 300.29 4.50.336 310.28 4.50.313 320.27 4.50.291 0.5 0.465 0.782 0.654 0.574 0.537 1.596 1.293 1.021 0.874 3.128 2.697 2.298 1.931 5.17 4.612 4.085 3.59 7.723 7.037 6.383 5.76 10.787 9.973 9.191 8.441 14.362 13.42 12.511 11.633 漆包线规格 最大安全电流容量（A） 16.34 15.335

20060418原料药质量研究中无机杂质的控制

原料药质量研究中无机杂质的控制 审评三部审评五室傅萍蒋煜 20060418 摘要：通过对药物无机杂质的引入途径、种类以及控制方法的讨论，以期申请人关注对原料药无机杂质的研究。 关键词：质量研究无机杂质 任何药物的非己成分均为该药物的杂质，按理化性质一般可将杂质分为三类：有机杂质、残留溶剂及无机杂质。目前申请人在研究过程中多将注意力集中在有机杂质和残留溶剂考察上，容易忽视对无机杂质的考察。由于无机杂质对药物的有效性、纯度、安全性等具有一定影响，应给予一定的重视。 一、引入途径和种类 无机杂质多由生产过程中引入，在贮存过程中引入的可能性相对较小，一般包括以下几种途径：1、起始原料引入，特别是复杂的原料（有机物），可从该起始原料的合成路线、中间体检测报告得出信息；2、反应过程中的副产物或未反应完全的试剂，如：钠盐、硫酸盐、氯化物、硫化物等；3、生产过程所用的金属器皿、管道以及其他不耐酸、碱的金属工具，则可能引入砷盐，以及铅、铁、铜、锌等金属杂质。 从上述过程来看，无机杂质一般是已知和确定的，包括试剂、配位体、催化剂、重金属、无机盐、其它杂质（例如：过滤介质、活性碳等）。按性质可分为信号杂质（或指示性杂质）和有害杂质。信号杂质本身一般无害，但其含量的多少可反映药物的纯度水平，如氯化物、硫酸盐；有害杂质对人体有害，可在体内蓄积，主要指砷盐、重金属等。下表是ICH和美国药典对杂质种类的划分以及进一步细分。

表一：ICH和美国药典对杂质种类的划分以及进一步细分 二、杂质检查 通常来看，如果在生产过程中可能引入无机杂质时，则应进行针对性研究，由于药物降解产生无机杂质的可能性相对较小，在稳定性研究中一般可不做考察。 （一）无机阴离子 中国药典纳入的无机阴离子包括硫酸盐、氯化物、硫化物、氰化物、磷酸盐、含磷物质、氰酸盐、碘化物、碘酸盐、硝酸盐、氟化物、溴化物、硫代硫酸盐等。 硫酸盐、氯化物：信号杂质，多用于不能以其他更直接的方法控制确切的杂质时，考察样品纯度是否达到一定要求，不作为质量标准的普遍要求。中国药典纳入的几种药物限度分别为：丙磺舒（氯化物0.018%）、磷酸咯萘啶（氯化物0.0.3%）、富马酸亚铁（硫酸盐0.2%）。 硫化物：有毒杂质，应注意药典附录硫化物检查法中标准硫斑固定为5μg的硫(s)，供试品的量应与之匹配。中国药典纳入的几种药物限度分别为：黄凡士林（0.00017%）、对氨基水杨酸钠（0.001%）。 氰化物：有毒杂质，药典收载中纳入两种方法，可以检出达到痕量级。中国药典纳入的碘解磷定限度为0.0005%。 （二）金属离子与重金属 中国药典纳入的金属离子包括碱金属，碱土金属、铜、锌、镍、铅、铁、硒、砷盐等。对重金属的检查不同于对单一金属离子的检查，后者是具有针对性的。 硒：毒性杂质，主要来源于生产工艺，如某些甾体激素类药物，在生产中使用了二氧化硒脱氢，可能引入该杂质。中国药典纳入的醋酸曲安奈德限度为0.005%。

中考物理专题复习资料：滑动变阻器的选择(解析版)

滑动变阻器的选择 一?解答题(共5小题) 1小敏用如图甲所示的电路图，研究通过导体的电流与导体电阻的关系，电源电压恒为 6V.改变电阻R的阻值，调节滑动变阻器滑片，保持R两端的电压不变，记下相应的4次实验的电流和电阻值，描绘在乙图中. f电M Y 匕 (1)实验过程中，移动变阻器滑片时，眼睛应注视 B (选填序号)； A. 变阻器滑片 B. 电压表示数 C. 电流表示数 (2 )在丙图中，用笔线代替导线，将电压表正确连入电路； (3)实验中，他所选择的变阻器是(选填序号); A.10Q0.5A B.20 Q1A C.50 Q2A (4 )乙图中阴影部分面积表示的科学量是电压； (5)实验过程中，如果出现了电流表示数为0，电压表示数接近6V,电路发生的故障可能 是电阻R处有断路. 考探究电流与电压、电阻的关系实验. 占： 八、、?专作图题；简答题；实验探究题. 题： 分 (1)实验研究的是电流与电阻的关系，因此必须控制电阻两端的电压值一定，所以眼析：睛应注视电压表的示数，移动滑片保持电压表示数不变； (2)图中没有连入电路的是电压表，根据图象计算出电压表的示数，确定电压表选择的量程，在连 接过程中也要注意正负接线柱； (3)首先求出定值电阻两端需要控制的电压，然后根据串联电路的电压规律求得滑动变阻器两端的 电压值；然后从图乙中，取几个电流、电阻数值，分别算出对应的滑动变 阻器连入电路的电阻，这几个阻值都应该在滑动变阻器的阻值变化范围内，据此选择合适的变阻器.

(4)阴影部分为电流和电阻的乘积，应该为定值电阻两端的电压值； (5)电流表示数为0,说明电路中有断路，电压表示数接近6V,说明电压表和电源连

标准曲线的绘制样本

标准曲线绘制 在分析化学实验中， 常见标准曲线法进行定量分析，一般情况下的标准工 作曲线是一条直线。 标准曲线的横坐标（X）表示能够精确测量的变量（如标准溶液的浓度）,称为 普通变量，纵坐标（Y）表示仪器的响应值（也称测量值，如吸光度、电极电位 等）, 称为随机变量。当X取值为X1, X2,……Xn时，仪器测得的丫值分别为丫1, 丫2,……Yn。将这些测量点Xi, Yi描绘在坐标系中,用直尺绘出一条表示X 与丫之间的直线线性关系，这就是常见的标准曲线法。用作绘制标准曲线的标准物质，它的含量范围应包括试祥中被测物质的含量，标长准曲线不能任意延。用作绘制标准曲线的绘图纸的横坐标和纵坐标的标度以及实验点的大小均不能太 大或太小，应能近似地反映测量的精度。 由于误差不能完全避免，实验点完全落在工作曲线的的情况是极少的，特别是在误差较大时，实验点比较分散，它们一般并不在同一条直线上，这样凭直觉很难判断怎样才能使所连接的直线对于所有实验点来说误差是最小的，当前较好的方法是对实验点（数据）进行回归分析。 研究随机现象中变量之间相关关系的数理统计方法称为回归分析，当自变 量只有一个或X与丫在坐标图上的变化轨迹近似一直线时，称为一元线性回归。 甦2.6.1 —元线性回归方程的求法 确定回归直线的原则是使它与所有测量数据的误差的平方和达到极小值 设回归直线方法为 9 (2 - 15)

式中a表示截距，b表示斜率 9 (2 - 15)

假设Xi和Yi （i=1,2,3, ……,n）是变量X和Y的一组测量数据。对于每一个Xi值,在直线（卩“+^ ）上都有一个确定的旳“从X】值。但哲值与X 轴上Xi处的实际测定值Yi是不相等的, 与Yi之差为： 筈厂& +返AY’F-碍（2—佝 上式表示与直线（）的偏离程度，即直线的误差程度。如果全部n个测定引起的总偏差用￡（节厂印'表示,则偏差平方和s为 (2 - 17) 在所有直线中，偏差平方和s最小的一条直线就是回归直线，即这条直线 的斜率b和截距a应使s值达到最小，这种要使所有数据的偏差平方和达到最小 的求回归直线法称为最小二乘法。 根据数学分析的极值原理,要使s达到最小,对式（2 —17）中的a、b分别 求偏微分后得到 (2 —18) (2 —19) 是所有变量Xi和Yi的平均值。由于计算离均差较麻烦，可将式（2 — 18）变换为 n是测量的次数，也就是坐标图中实验点的数目。 (2 —20)

滑动变阻器的选择(有详细答案及解析)要点

滑动变阻器的选择 一．解答题（共5小题） 1．（2011?绍兴）小敏用如图甲所示的电路图，研究通过导体的电流与导体电阻的关系，电源电压恒为6V．改变电阻R的阻值，调节滑动变阻器滑片，保持R两端的电压不变，记下相应的4次实验的电流和电阻值，描绘在乙图中． （1）实验过程中，移动变阻器滑片时，眼睛应注视_________（选填序号）； A．变阻器滑片 B．电压表示数 C．电流表示数 （2）在丙图中，用笔线代替导线，将电压表正确连入电路； （3）实验中，他所选择的变阻器是_________（选填序号）； A．10Ω0.5A B．20Ω1A C．50Ω2A （4）乙图中阴影部分面积表示的科学量是_________； （5）实验过程中，如果出现了电流表示数为0，电压表示数接近6V，电路发生的故障可能是_________． 2．在完成“测量小灯泡功率”的实验后，小明产生疑问：实验中滑动变阻器接入电路的阻值发生变化时，它消耗的电功率如何变化呢？为此，他找来了下列器材：电流表、电压表、开关各一个，一定值电阻，三个规格分别为“5Ω，1A”、“30Ω，1A”和“35Ω，0.5A”的滑动变阻器，导线若干，电源（电压为6V）． （1）通过分析表中的数据，你认为小明选择的规格是_________的滑动变阻器． （2）根据题意，正确完成剩余部分连线，并使滑片向右移动时电流变小． （3）分析表中的数据，写出该滑动变阻器消耗的功率随它接入电路的电阻变化而变化的情况是_________．（4）以其中一组数据为例，算出定值电阻的阻值为_________Ω．（结果取整数） （5）小李正确连接电路，闭合开关后发现电流表指针不转，电压表示数接近6V，电路的故障是_________．

完整版分析化学实验试题

填空题 -1的NaHPO(pH)和NH4HPO(pH0.1 、mol?L)两种溶液的pH关系是1212442 （）。 2、强酸滴定弱碱可选用的指示剂是（）。 -1的HCl滴定NaOH?L溶液突跃范围是pH=3.3~10.7，当溶3、浓度均为1.0 mol-1时，其滴定突跃范围是pH=（0.01 mol?L ）。液改为4、欲配pH=4.50 缓冲溶液500ml，需冰HAc（pKa=4.75）（）mL，NaAc·3HO2（M=126.0）（）g。 5、EDTA与金属离子生成螯合物时，其螯合物比一般为（）。 6、EDTA与金属离子配位是，一分子的EDTA可提供的配位原子个数是 （）。 7、在非缓冲溶液中用EDTA滴定金属离子时，溶液的pH值将（）。 8、条件稳定常数的定义式是K=（）。MY′9、酸效应系数的定义式是α=（）。Y(H)3+3+浓度由FeFeC—磺基水杨酸显色体系，当、符合Lambert —Beer′Law的10变为3C时，A将（）；ε将（）。 11、光度法用溶剂做参比液时，测得某试液的透光度为10%；若参比液换为透光度为20%的标准溶液，其它条件不变，则试液的透光度则为（）。 3+2+2+3+干扰，最简便的MgFe存在时，用EDTA测定Ca，要消除的12、在Fe、方法是（）。 13、用KMnO标准溶液测定双氧水中HO的含量，指示剂为（）等。22414、酸碱指示剂的变色范围大约是（）个pH单位。 15、酸碱指示剂的变色范围与pKa的关系是（）。 16、某酸碱指示剂的pK的关系是（）。HIn17、用HCl标准溶液滴定NH·HO时，分别用甲基橙和酚酞作指示剂，耗用23HCl体积分别以V和V表示，则V和V的关系是（）。酚酚甲甲18、空白试验可以消除试剂、溶剂和器皿等引入的杂质所造成的（）。 19、对照试验是检查（）的有效方法。 20、722型分光光度计的光源是（）。 答案 1、pH ＞pH 2、甲基红 3、pH5.3~8.7 4、 1 2 5、1∶1 6、6 7、降低 8、 9、 2+- MnO、Mn—13 、10、增大；不变1150% 12、配位掩蔽法414、2 15、pH= pK±1 16、pH7.1~9.1 17、V＞V HIn酚甲18、系统误差19、系统误差20、卤钨灯 判断题 （）1、试样不均匀会引起随机误差。 （）2、样品定容是溶剂超过容量瓶的刻度线不会引起随机误差。 （）3、仪器示值不稳会引起随机误差。

漆包线检验标准

漆包线检验标准 Company number：【0089WT-8898YT-W8CCB-BUUT-202108】

漆包线检验标准 1.外观检验： 表面光滑，色泽均匀，无漆瘤和白色润滑剂，表面绝缘漆膜无脱落、氧化、划痕、损伤，无打结现象 2.尺寸检验： 漆包线直径：标准参照IEC60317对照表，检验方法：千分尺 导体直径：标准参照IEC60317对照表，检验方法：千分尺 漆包线漆膜厚度：标准参照IEC60317对照表，检验方法：千分尺 导体误差值：标准参照IEC60317对照表 3.电性能： 电阻 取要检验的漆包线1m, 将两端的漆膜刮去，测量漆包线的电阻，电阻测量值要与IEC60317的要求电阻范围内；标准温度20度，换算公式：20度的电阻/+标准温度=实际测量电阻/+测量温度。 可焊性 ①剪取需要检验的铜线材料； ②根据材料可焊性条件范围设定锡炉温度； ③使用温度测量器对锡炉温度测量确认锡炉温度在材料承认书的可焊性条件范围内； ④焊锡条件依材料承认书，铜线上锡效果：当铜线浸锡后目检表面着锡面积95%以上,不遗留残渣。 ⑤.非直焊性线径剥皮处理后依(第①-④点)作业。 针孔及漏电流测试

配置溶液及接线 A. 配置盐水溶液：食盐30 克，清水10 公斤，浓度为3‰； B. 配置酚酞溶液：酒精100 克，酚酞3 克； C. 配置溶液：每10 公斤盐水溶液加入20 毫升酚酞溶液； D. 按图1 检查盐浴装置正负极接线是否正确。导电体接正极直接接入盐浴池，被测定转子接负极； E. 将电源正负极正确连接后，通直流电12V1000mA，每次做盐浴前要检查溶液的导电性能，将“+”和“-”极直接浸入盐浴池中，观察电流表的读数，导通电流是否达到标准值：500mA，当电流达到500mA及以上才可测试。 漏电流及针孔数测试标准 电流法测试标准 针孔数测试标准 如针孔数量少于五个且不在同一个部位30米之内，则可以接受，其它情形均不能接受。 击穿电压 取漆包线对折一次，将对折部位剪断并刮去四根线漆皮，然后再对折两次，并将对折后的漆包线扭成麻花状态,扭绞33圈，（两端各有两个线头）分别用高压仪测试同一端的两根线头的耐高压能力。（高压标准：参照附件IEC60317 Ⅱ级标准）。

原料药中有机杂质研究与控制

原料药中有机杂质研究与控制——综述 1.1 前言 随着公众和媒体对药物安全性的日益关注，控制药物中的杂质已成为药品质量控制中的重要问题。人用药品注册技术要求国际协调会(ICH)已经制定了与杂质控制相关的切实可行的指导原则[1]，其基本理念已经逐步被国际社会接受。目前，英国药典(BP)[2]、欧洲药典(EP)[3]和美国药典(USP)[4]均在附录中设有专门的杂质检查通则；中国药典(ChP) [5]二部从ChP(2005)开始，附录中开始设有“药物杂质研究指导原则”；2005年国家食品药品监督管理局(SFDA)发布了《化学药物杂质研究的技术指导原则》[6]；之后，2007年又颁布了《药品注册管理办法》，在药品注册审评过程中，对药品中的杂质评价都予以高度重视，极促进了药品质量的提高。 1.2 原料药中杂质控制理念的变迁 原料药(化学药物)中所含有的杂质，按照《化学药物杂质研究技术指导原则》定义是指任何影响药物纯度的物质。其杂质一般分为三类：有机杂质、无机杂质和残留溶剂，是包括工艺中引入的杂质和降解产物。无机杂质是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质，包括：反应试剂、配位体、催化剂、重金属、无机盐等。残留溶剂是指在原料药及制剂生产过程中使用的有机溶剂。对于无机杂质和残留溶剂，各国药典都收载了经典、简便、有效的检测方法，故可采用药典的相关方法对其进行控制。而有机杂质因其化学结构一般与活性成分类似或具渊源关系，故又称为有关物质。由于有机杂质其产生的途径与工艺流程密切相关，且可能产生毒副作用，从而给原料药本身在药物使用的安全性和有效性方面带来诸多影响，所以各国药品监督部门在对原料药的质量标准制定上，均对有机杂质的控制予以高度重视，并随着新测试仪器的开发利用、分析技术水平的提高，不断地对有机杂质的分析与控制提出更高的要求。下文中所提“杂质控制”均指有机杂质的控制。 追溯人们对药品中杂质控制理念的变迁，可概括为三个主要阶段：主成分纯度控制阶段、非确定性杂质限度控制阶段和确定性杂质定量限度控制阶段。 早期的药物质量控制主要基于容量法、分光光度法等经典的化学分析方法，

标准曲线的绘制

标准曲线绘制 在分析化学实验中，常用标准曲线法进行定量分析，通常情况下的标准工作曲线是一条直线。 标准曲线的横坐标(X)表示可以精确测量的变量(如标准溶液的浓度)，称为普通变量，纵坐标(Y)表示仪器的响应值(也称测量值，如吸光度、电极电位等)，称为随机变量。当X取值为X1, X2,…… Xn时，仪器测得的Y值分别为Y1, Y2, …… Yn。将这些测量点Xi, Yi描绘在坐标系中，用直尺绘出一条表示X与Y 之间的直线线性关系，这就是常用的标准曲线法。用作绘制标准曲线的标准物质，它的含量范围应包括试祥中被测物质的含量，标准曲线不能任意延长。用作绘制标准曲线的绘图纸的横坐标和纵坐标的标度以及实验点的大小均不能太大或太小，应能近似地反映测量的精度。 由于误差不能完全避免，实验点完全落在工作曲线的的情况是极少的，尤其是在误差较大时，实验点比较分散，它们通常并不在同一条直线上，这样凭直觉很难判断怎样才能使所连接的直线对于所有实验点来说误差是最小的，目前较好的方法是对实验点(数据)进行回归分析。 研究随机现象中变量之间相关关系的数理统计方法称为回归分析，当自变量只有一个或X与Y在坐标图上的变化轨迹近似一直线时，称为一元线性回归。 2.6.1一元线性回归方程的求法 确定回归直线的原则是使它与所有测量数据的误差的平方和达到极小值，设回归直线方法为 (2－15) 式中a表示截距，b表示斜率。 假设Xi和Yi (i=1,2,3,……,n)是变量X和Y的一组测量数据。对于每一个Xi值，在直线()上都有一个确定的值。但值与X轴上Xi处的实际测定值Yi是不相等的，与Yi之差 为： (2－16)上式表示与直线()的偏离程度，即直线的误差程度。如果全部n个测定引起的总偏 差用表示，则偏差平方和s为 (2－17)

电动机漆包线规格表

芯标称直径(毫米) 漆包线最大外 径(毫米) 芯截面积(平 方毫米) +直流电阻 (欧/千米) 漆包线重量(公 斤/千米) 每厘米可 绕圈数 近似的英规SWG线 线 号 芯直径(毫 米) 漆包线直径 (毫米) 0.03 0.04 0.05 0.06 0.07 0.08 0.09 0.10 0.11 0.12 0.13 0.14 0.15 0.16 0.17 0.18 0.19 0.20 0.21 0.23 0.25 0.27 0.045 0.055 0.065 0.075 0.085 0.095 0.105 0.12 0.13 0.14 0.15 0.16 0.17 0.18 0.19 0.20 0.21 0.225 0.235 0.255 0.275 0.31 0.0007065 0.001257 0.001963 0.002827 0.003848 0.005027 0.006362 0.007854 0.009498 0.01131 0.01327 0.01539 0.01767 0.02011 0.02270 0.02545 0.02835 0.03142 0.03464 0.04155 0.04909 0.05726 24704 13920 8949 6198 4556 3487 2758 2237 1846 1551 1322 1139 993 872 773 689 618 558 506 422 357 306 0.012 0.015 0.019 0.027 0.036 0.047 0.059 0.073 0.088 0.104 0.122 0.141 0.162 0.184 0.208 0.233 0.259 0.287 0.316 0.378 0.446 0.522 222.2 181.8 153.8 133.3 117.6 105.3 95.2 83.3 76.9 71.4 66.7 62.5 58.8 55.6 52.6 50.0 47.6 44.4 42.6 39.2 36.4 32.3 49 48 47 46 45 44 43 42 41 40 39 38 37 36 35 34 33 32 0.030 0.041 0.051 0.061 0.071 0.081 0.091 0.102 0.112 0.122 0.132 0.152 0.173 0.193 0.213 0.234 0.254 0.273 0.0571 0.0666 0.0785 0.089 0.099 0.112 0.124 0.135 0.145 0.168 0.188 0.211 0.231 0.254 0.277 0.298 0.32

初中物理探究电流与电阻关系时,滑动变阻器规格的选择练习题

探究电流与电阻关系时，滑动变阻器规格的选择练习题 1．现有下列器材：学生电源（6V），电流表（0﹣0.6A，0﹣3A）、电压表（0﹣3V，0﹣15V）、定值电阻（5Ω、10Ω、20Ω各一个）、开关、滑动变阻器和导线若干，利用这些器材探究“电压不变时，电流与电阻的关系” （1）请根据图甲所示的电路图用笔画线代替导线将图乙所示的实物连接成完整电路．（要求连线不得交叉） （2）实验中依次接入三个定值电阻，调节滑动变阻器的滑片，保持电压表示数不变，记下电流表的示数，利用描点法得到如图丙所示的电流I随电阻R变化的图象．由图象可以得出结论：． （3）上述实验中，小强用5Ω的电阻做完实验后，保持滑动变阻器滑片的位置不变，接着把R换为10Ω的电阻接入电路，闭合开关，向（选填“A”或“B”）端移动滑片，使电压表示数为V 时，读出电流表的示数． （4）为完成整个实验，应该选取哪种规格的滑动变阻器． A.50Ω 1.0A B.30Ω 1.0A C.20Ω 1.0A． 2．小彬用如图甲所示的实验器材探究“电流与电阻的关系”，电源电压恒为3V，滑动变阻器上标有“20Ω，2A”字样，阻值分别为5Ω、10Ω、20Ω、40Ω的定值电阻各一个． （1）小哲帮小彬检查时发现连线不对，而且只要改接一根导线就可以了，请你把接错的那根导线找出来，打上“×”，再画线把它改到正确的位置上（导线不允许交叉）． （2））电路改正以后，小彬实验时发现电流表示数为0，电压表示数接近3V，经检查导线均

完好且接触良好，则电路发生的故障可能是． （3）排除故障后，如果他们先用5Ω的电阻做实验，闭合开关，调节滑动变阻器的滑片P，使电压表的示数达到某一值时，电流表的示数如图乙所示，此时电路中的电流为A．（4）如果他们用5Ω的电阻做实验时，滑动变阻器的滑片刚好在上图所示位置，接下来把5Ω换成10Ω电阻后，为保持电压表的示数不变，应将滑动变阻器的滑片P 向端移动（选填“左”或“右”）． （5）再将10Ω定值电阻换成20Ω定值电阻，重复以上步骤．实验记录的多组数据如下表所示．分析数据可得出结论：当电压一定时，通过导体中的电流与导体的电阻成比． （6）小彬同学换用40Ω的定值电阻接着进行上述实验，请判断他能否顺利完成并说明理由．．