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晶体三极管的结构、特性与检测

晶体三极管的结构、特性与检测
晶体三极管的结构、特性与检测

引入:

半导体三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种电流控制电流的半导体器件。其作用是把微弱信号放大成辐值较大的电信号,也用作无触点开关。本次课主要学习三极管的相关知识。

一、 晶体三极管的结构、符号和类型 1、 结构和符号

三极管的结构如图所示,在一块极薄的硅或锗基片上经过特殊的加工工艺制作出两个PN 结,对应的三个半导体区分别称为发射区、基区和基电区,从三个区引出的三个电极分别为:发射极、基极和集电极,分别用符号E 、B 、C 或e 、b 、c 表示。发射区与基区之间的PN 结称为发射结,基电区与基区之间的

PN 结称为集电结。

按照两个PN 结的组合方式不同,三极管分为NPN 型和PNP 型两大类,其结构和图形符号如图所示,文字符号用V 表示。图形符号中,箭头方向表示发射结正向偏置时发射极电流方向,箭头朝外的是NPN 型三极管,箭头朝内的是PNP 型三极管。

虽然发射区和集电区半导体类型一样,但发射区的参杂浓度比集电区高,在几何尺寸上,集电区面积比发射区大,它们并不对称,因此,发射极和集电极不能互换。 2、 类型

三极管种类很多,按不同的分类方法可分为多种。(课本12页) 二、 晶体三极管的电流放大作用 1、三极管的工作电压

三极管要实现放大作用,必须满足一定的外部条件,即发射结加正向电压,集电结加反向电压。由于NPN 型和PNP 型三极管极性不同,所以外加电压的极性也不同。

NPN 型三极管

PNP 型三极管

b 基极

e

发射极

c 集电极

集电结

发射结N

集电区

N 发射区 P 基区 c

e

b 基极

e 发射极

c 集电极

集电结

发射结

P 集电区

P

发射区 N 基区 c

e

对于NPN 型三极管,c 、b 、e 三个电极的电位必须符合:U C >U B >U E ;对于PNP 型三极管,电源的极性与NPN 型三极管相反,c 、b 、e 三个电极的电位应符合:U C <U B <U E 。 2、三极管的电流放大作用

通过调节电位器R B 的阻值,可调节基极的偏压,从而调节基极电流I B 的大小。每取一个I B 值,从毫安表可读取集电极电流I C 和发射电流I E 的相应值。 三、 晶体三极管的特性曲线

三极管各极上的电压和电流之间的关

系,可通过伏安特性曲线直观地描述。三极管的特性曲线主要有输入特性曲线和输出特性曲线两种,它可以用晶体管特性图示仪直接观察,也可以通过实验电路来测试。

1、输入特性

输入特性是指在U CE 一定的条件下,加在三极管基极与发射极之间的电

三极管电流分配实验电路

锗管的输入特性曲线

硅管的输入特性曲线

三极管的输入特性曲线

三极管特性曲线测试电路

压U BE和基极电流I B之间的关系曲线。

从输入特性曲线可以看出,三极管的输入特性曲线与二极管的正向特性曲线相似,只有当发射结的正向电压U BE大于死区电压(硅管0.5V,锗管0.2V)时,才产生基极电流I B,这时三极管处于正常放大状态,发射结两端电压为U BE(硅管0.7V,锗管0.3V)。

2、输出特性

输出特性是指在I B一定条件下,三极管集电极与发射极之间的电压U CE与集电极电流I C之间的关系曲线。

每条曲线可分为线性上升、弯曲、平坦三部分。

对应不同I B值得不同的曲线,从而形成曲线簇。各条曲线上升部分很陡,几乎重合,平坦部分则按I B值从下往上排列,I B的取值间隔均匀,相应的特性曲线在平坦部分也均匀分布,且与横轴平行。

在放大区内,有一个

特定的基极电流,就

有一个特定的集电极

电流,实现基极对集

电极电流的控制。

三极管的输出特性曲线

提示:对于NPN型三极管:工作于放大区时,U C﹥U B﹥U E;工作于截止区时,U B≤U E;工作于饱和区时,U C≤U B。PNP型三极管与之相反。

在模拟电子电路中三极管大多工作在放大状态,作为放大管使用;在数字电子电路中三极管工作在饱和或截止状态,作为开关管使用。

四、三极管的主要参数

1、电流放大系数

反映三极管的电流放大能力。

(1)共射极直流电流放大系数h FE

三极管集电极电流与与基极电流的比值,即h FE=I C/I B。反映三极管的直流电流放大能力。

(2)共射极交流电流放大系数β

三极管集电极电流的变化量与基极电流的变化量之比,即β=△I C/△I B。反映三极管的交流电流放大能力。

同一只三极管,在相同的工作条件下h FE≈β,应用中不再区分,均用β来表示。

选管时,β值应恰当,β太小,放大作用差;β太大,性能不稳定,通常选用30~100之间的管子。

2、极间反向电流

反映三极管的质量好坏。

(1)集电极-基极间的反向饱和电流I CBO

发射极开路时,C-B极间的反向饱和电流。I CBO越小,集电结的单向导电性越好。

(2)集电极-发射极间反向饱和电流I CEO

基极开路时(I B=0),C-E极间的反向电流。好象是从集电极直接穿透三极管到达发射极的电流,故又叫“穿透电流”。

I CEO=(1+β)I CBO,反映了三极管的稳定性。选管子时,I CEO越小,管子受温度影响越小,工作越稳定。

3、极限参数

表示三极管工作时,不允许超过的极限值。

(1)集电极最大允许电流I CM

集电极电流过大时,三极管的β值要降低,一般规定β值下降到正常值的2/3时的集电极电流为集电极最大允许电流。

使用时一般I C<I CM,否则管子易烧毁。选管时,I CM≥I C。

(2)集电极-发射极间的反向击穿电压U

(BR)CEO

基极开路时,加在C与E极间的最大允许电压。

使用时,一般U CE<U(BR)CEO,否则易造成管子击穿。选管时,U(BR)CEO≥U CE。(3)集电极最大允许耗散功率P CM

集电极消耗功率的最大限额。根据三极管的最高温度和散热条件来规定最大允许耗散功率P CM,要求P CM≥I C U CE。

P CM的大小与环境温度有密切关系,温度升高,P CM减小。对于大功率管,常在管子上加散热器或散热片,降低管子的环境温度,从而提高P CM。

工作时,I C U CE<P CM,否则管子会因过热而损坏。选管时,P CM≥I C U CE。

小结、作业:

本次课主要学习了三极管的结构、符号和类型以及三极管的特性曲线和主要参数,通过学习,要求学生重点理解三极管的特性曲线。

完成习题册上的练习题。

三极管输入输出特性测试(—)

电路分析实验报告 三极管输入输出特性测试(—) 一、实验摘要 通过对三极管输入回路和输出回路电压和电流的测量,得到三极管的输入特性和输出特性数据。 二、实验环境 三极管电阻电位器直流电源万用表 三、实验原理

三极管外部各极电压和电流的关系曲线,称为三极管的特性曲线,又称伏安特性曲线。它不仅能反映三极管的质量与特性,还能用来定量地估算出三极管的某些参数,是分析和设计三极管电路的重要依据。 四、实验步骤 在面包板上搭建电路 设定直流电源输入/输出电流和 5v 0.1A 0V/1V/2V 0.1A 电压 调节电位器改变分压 记录电压电流得到三极管特性曲线

五、实验数据 VCE=0V V/v 0.5 0.625 0.628 0.648 0.652 0.659 0.664 0.706 I/A 0.00337 0.04928 0.06074 0.1208 0.14025 0.17675 0.20929 0.84831 VCE=1V V/v 0.613 0.755 0.756 0.763 0.773 0.779 0.784 0.788 I/A 0.00709 0.5514 0.61795 0.6531 0.7683 0.7836 0.85145 1.14519

VCE=2V V/v 0.757 0.762 0.774 0.781 0.783 0.786 0.791 0.793 I/A 0.54868 0.58846 0.86204 0.9535 1.10292 1.55215 1.56623 2.48202 六、实验总结 在本次实验中了解到了三极管的输入特性和输出特性以及 三极管的特性曲线。但是自己数据取的不好,特性图画出来不是很好。

三极管的共射特性曲线

三极管的共射特性曲线 三极管的特性曲线是描述三极管各个电极之间电压与电流关系的曲线,它们是三极管内部载流子运动规律在管子外部的表现。三极管的特性曲线反映了管子的技术性能,是分析放大电路技术指标的重要依据。三极管特性曲线可在晶体管图示仪上直观地显示出来,也可从手册上查到某一型号三极管的典型曲线。 三极管共发射极放大电路的特性曲线有输入特性曲线和输出特性曲线,下面以NPN型三极管为例,来讨论三极管共射电路的特性曲线。 1、输入特性曲线 输入特性曲线是描述三极管在管压降UCE保持不变的前提下,基极电流iB和发射结压降uBE之间的函数关系,即 (5-3)三极管的输入特性曲线如图5-6所示。由图5-6可见NPN型三极管共射极输入持性曲线的特点是:BE虽己大于零,但i B几乎仍为零,只有当u BE的值大于开启电压后,i B的值与二极管一样随u BE的增加按指数规律增大。硅晶体管的开启电压约为0.5V,发射结导通电压V on 约为0.6~0.7V;锗晶体管的开启电压约为0.2V,发射结导通电压约为0.2~0.3V。 CE=0V,U CE=0.5V和U CE=1V的情况。当U CE=0V时,相当于集电极和发射极短路,即集电结和发射结并联,输入特性曲线和PN结的正向特性曲线相类似。当U CE=1V,集电结已处在反向偏置,管子工作在放大区,集电极收集基区扩散过来的电子,使在相同u BE值的情况下,流向基极的电流i B减小,输入特性随着U CE的增大而右移。当U CE>1V以后,输入特性几乎与U CE=1V时的特性曲线重合,这是因为Vcc>lV后,集电极已将发射区发射过来的电子几乎全部收集走,对基区电子与空穴的复合影响不大,i B的改变也不明显。CE必须大于l伏,所以,只要给出U CE=1V时的输入特性就可以了。 2、输出特性曲线 输出特性曲线是描述三极管在输入电流i B保持不变的前提下,集电极电流i C和管压降u CE之间的函数关系,即

第二章晶体三极管和场效晶体管

课题第一章晶体=极管和场效晶体管 2.1.1—2.1.3三极管的基本特性 课型 新课 投课班级17机电授课时数2课时 教学目标 1.掌握三极管的结构、分类和符号 2.理解三极管的工作电压和基本连接方式 3.理解三极管电流的分配和放大作用、掌握电流的放大作用 教学重点三极管结构、分类、电流分配和放大作用教学难点电流分配和放大作用 学情分析学生已经了解了PN结及特性学生已熟练掌握晶体二极管的基本特性 教学方法讲授法、引导法、图示法、对比法、多媒体演示法 教后记 通过对本次课的学习,学生了解了三极管的基本特性,了解三极管中的PN结与二极皆中PN结的区别,同时掌握了三极管的基本连接方式和放大倍数的讣算方法,并能进行实际应用,利用査表法说出三极管的型号

A.引入 在电子线路中,经常用的基本器件除二极管外,还有三引脚的三极管。B?新授课 2.1,1三极管的结构、分类和符号 一、晶体三极管的基本结构 1?观察外形 2.三极管的结构图 (1〉发射区掺杂浓度较大,以利于发射区向基区发肘载流子。(2)基区很薄,掺杂少,载流子易于通过。 <3)集电区比发射区体枳大且掺杂少,收集载流子。 注意:三极管并不是两个PN结的简单组合,不能用两个二极管代替。 二、图形符号 a. NPN 型 三.分类 1?内部三个区的半导体分类:NPN型、PNP型 2.工作频率分类:低频管和高频管 3.以半导体材料分:错、硅 2.1.2三极管的工作电压和基本连接方式 一、三极管的工作电压 1?三极笛工作时,发射结加正向电压?集电结加反向电压。 2?偏置电压:基极与发射极之间的电压。 二.三极管在电路中的基本连接方式 1?共发射极接法(讲解) 三极:发射极、 两结:发射结、基极、集电极 集电结 基区、集电区 (引导: 比较两种符 号,箭头说 明发射结导 通的方向) C b V e b. PNP 型 集 C电 极 集 C电 极 b V

三极管的特性曲线

三极管的特性曲线 教学目标: 掌握共射级三极管的输入、输出特性曲线 掌握三极管输出特性曲线的分区及各区的特点 会判断三极管的工作状态 教学重点: 三极管输出特性曲线的分区及各区的特点 教学难点: 三极管的工作状态的判断 教学方法: 讲授、分析、练习法 教学过程: 一、新课引入 三极管在电路应用时,有三种组态(连接方式),以基极为公共端的共基极组态、以发射极为公共端的共发射极组态和以集电极为公共端的共集电极组态,如图所示。 共发射极 共集电极 共基极 由于三极管的接地方式不同,三极管的伏安特性也不同,其中共发射极(简称共射)特性曲线是最常用的。 u i

二、新课讲授 1.共射输入特性曲线 当U CE 为某一定值时,基极电流i B 和发射结电压 u BE 之间的关系曲线入下图所示。 当U CE =0时,输入特性曲线与二极管的正向伏安特性相似,存在死区电压U on (也称开启电压),硅管U on ≈0.5V ,锗管约0.1V 。只有当U BE 大于U on 时,基极电流i B 才会上升,三极管正常导通。硅管导通电压约0.7V ,锗管约0.3V 。 随着U CE 的增大输入特性曲线右移,但当U CE 超过一定数值(U CE >1)后,曲线不再明显右移而基本重合。 2.共射输出特性曲线 在基极电流I B 为一常量的情况下,集电极电流i C 和管压降u CE 之间的关系曲线入下图所示。 BE 0 40 输入特性曲线

1)截止区 I B =0曲线以下的区域称为截止区。 2)饱和区 u CE 较小的区域称为饱和区。三极管饱和时的u CE 值称为饱和电压降U CES ,小功率硅管约为0.3V ,锗管约为0.1V 。 3)放大区 一族与横轴平行的曲线,且各条曲线距离近似相等的区域称为放大区。此时,表现出三极管放大时的两个特性:①电流受控,即Δi C =βΔi B ;②恒流特性,只要I B 一定,i C 基本不随u CE 变化而变化。 例:如图说示是某三极管的输出特性曲线,从曲线上可以大致确定该三极管在U CE =6.5V ,I B =60μA (b 点)附近的β和β值。 解:在图示的输出特性曲线上作U CE =6.5V 的垂线,与I B =60μA 的 输出特性曲线交于 b 点,由此可得该点对应的4160 105.23 B C =?= =I I β 4020 10)7.15.2(3 B C =?-=??=i i β

常见的金属晶体结构

第二章作业 2-1 常见的金属晶体结构有哪几种它们的原子排列和晶格常数有什么特点 V、Mg、Zn 各属何种结构答:常见晶体结构有 3 种:⑴体心立方:-Fe、Cr、V ⑵面心立方:-Fe、Al、Cu、Ni ⑶密排六方:Mg、Zn -Fe、-Fe、Al、Cu、Ni、Cr、 2---7 为何单晶体具有各向异性,而多晶体在一般情况下不显示出各向异性答:因为单晶体内各个方向上原子排列密度不同,造成原子间结合力不同,因而表现出各向异性;而多晶体是由很多个单晶体所组成,它在各个方向上的力相互抵消平衡,因而表现各向同性。第三章作业3-2 如果其它条件相同,试比较在下列铸造条件下,所得铸件晶粒的大小;⑴金属模浇注与砂模浇注;⑵高温浇注与低温浇注;⑶铸成薄壁件与铸成厚壁件;⑷浇注时采用振动与不采用振动;⑸厚大铸件的表面部分与中心部分。答:晶粒大小:⑴金属模浇注的晶粒小⑵低温浇注的晶粒小⑶铸成薄壁件的晶粒小⑷采用振动的晶粒小⑸厚大铸件表面部分的晶粒小第四章作业 4-4 在常温下为什么细晶粒金属强度高,且塑性、韧性也好试用多晶体塑性变形的特点予以解释。答:晶粒细小而均匀,不仅常温下强度较高,而且塑性和韧性也较好,即强韧性好。原因是:(1)强度高:Hall-Petch 公式。晶界越多,越难滑移。(2)塑性好:晶粒越多,变形均匀而分散,减少应力集中。(3)韧性好:晶粒越细,晶界越曲折,裂纹越不易传播。 4-6 生产中加工长的精密细杠(或轴)时,常在半精加工后,将将丝杠吊挂起来并用木锤沿全长轻击几遍在吊挂 7~15 天,然后再精加工。试解释这样做的目的及其原因答:这叫时效处理一般是在工件热处理之后进行原因用木锤轻击是为了尽快消除工件内部应力减少成品形变应力吊起来,是细长工件的一种存放形式吊个7 天,让工件释放应力的时间,轴越粗放的时间越长。 4-8 钨在1000℃变形加工,锡在室温下变形加工,请说明它们是热加工还是冷加工(钨熔点是3410℃,锡熔点是232℃)答:W、Sn 的最低再结晶温度分别为: TR(W) =(~×(3410+273)-273 =(1200~1568)(℃)>1000℃ TR(Sn) =(~×(232+273)-273 =(-71~-20)(℃) <25℃ 所以 W 在1000℃时为冷加工,Sn 在室温下为热加工 4-9 用下列三种方法制造齿轮,哪一种比较理想为什么(1)用厚钢板切出圆饼,再加工成齿轮;(2)由粗钢棒切下圆饼,再加工成齿轮;(3)由圆棒锻成圆饼,再加工成齿轮。答:齿轮的材料、加工与加工工艺有一定的原则,同时也要根据实际情况具体而定,总的原则是满足使用要求;加工便当;性价比最佳。对齿轮而言,要看是干什么用的齿轮,对于精度要求不高的,使用频率不高,强度也没什么要求的,方法 1、2 都可以,用方法 3 反倒是画蛇添足了。对于精密传动齿轮和高速运转齿轮及对强度和可靠性要求高的齿轮,方法 3 就是合理的。经过锻造的齿坯,金属内部晶粒更加细化,内应力均匀,材料的杂质更少,相对材料的强度也有所提高,经过锻造的毛坯加工的齿轮精度稳定,强度更好。 4-10 用一冷拔钢丝绳吊装一大型工件入炉,并随工件一起加热到1000℃,保温后再次吊装工件时钢丝绳发生断裂,试分析原因答:由于冷拔钢丝在生产过程中受到挤压作用产生了加工硬化使钢丝本身具有一定的强度和硬度,那么再吊重物时才有足够的强度,当将钢丝绳和工件放置在1000℃炉内进行加热和保温后,等于对钢丝绳进行了回复和再结晶处理,所以使钢丝绳的性能大大下降,所以再吊重物时发生断裂。 4-11 在室温下对铅板进行弯折,越弯越硬,而稍隔一段时间再行弯折,铅板又像最初一样柔软这是什么原因答:铅板在室温下的加工属于热加工,加工硬化的同时伴随回复和再结晶过程。越弯越硬是由于位错大量增加而引起的加工硬化造成,而过一段时间又会变软是因为室温对于铅已经是再结晶温度以上,所以伴随着回复和再结晶过程,等轴的没有变形晶粒取代了变形晶粒,硬度和塑性又恢复到了未变形之前。第五章作业 5-3 一次渗碳体、二次渗碳体、三次渗碳体、共晶渗碳体、共析渗碳体异同答:一次渗碳体:由液相中直接析出来的渗碳体称为一次渗碳体。二次渗碳体:从 A 中析出的渗碳体称为二次渗碳体。三次渗碳体:从 F 中析出的渗碳体称为三次渗碳体共晶渗碳体:经共晶反应生成的渗碳体即莱氏体中的渗碳体称为共晶渗碳体共析渗碳体:经共析反应生成的渗碳体即珠光体中的渗

晶体管的输入输出特性曲线详解

晶体管的输入输出特性曲线详解 届别 系别 专业 班级 姓名 指导老师

二零一二年十月 晶体管的输入输出特性曲线详解 学生姓名:指导老师: 摘要:晶体三极管,是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的核心元件。 根据晶体管的结构进行分类,晶体管可以分为:NPN型晶体管和PNP 型晶体管。依据晶体管两个PN结的偏置情况,晶体管的工作状态有放大、饱和、截止和倒置四种。晶体管的性能可以有三个电极之间的电压和电流关系来反映,通常称为伏安特性。 生产厂家还给出了各种管子型号的参数也能表示晶体管的性能。利用晶体管制成的放大电路的可以是把微弱的信号放大到负载所需的数值 晶体管是一种半导体器件,放大器或电控开关常用。晶体管是规范操作电脑,手机,和所有其他现代电子电路的基本构建块。由于

其响应速度快,准确性,晶体管可用于各种各样的数字和模拟功能,包括放大,开关,稳压,信号调制和振荡器。晶体管可独立包装或在一个非常小的的区域,可容纳一亿或更多的晶体管集成电路的一部分。 关键字:晶体管、输入输出曲线、放大电路的静态分析和动态分析。 【Keywords】The transistor, the input/output curve, amplifying circuit static analysis and dynamic analysis. 一、晶体管的基本结构 晶体三极管,是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的核心元件。三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结,两个PN结把正块半导体分成三部分,中间部分是基区,两侧部分是发射区和集电区,排列方式有PNP和NPN两种,如图 1-1(a)、(b)所示。从三个区引出相应的电极,发射极,基极,集电极,各用“E”(或“e”)、“B”(或“b”)、“C”(或“c”)表示。 发射区和基区之间的PN结叫发射结,集电区和基区之间的PN结叫集电极。基区很薄,而发射区较厚,杂质浓度大,PNP型三极管发射区"发射"的是空穴,其移动方向与电流方向一致,故发射极箭头向里;NPN型三极管发射区"发射"的是自由电子,其移动方向与电流方向相反,故发射极箭头向外。发射极箭头向外。发射极箭头指向也是PN结在正向电压下的导通方向。硅晶体三极管和锗晶体三极管都有PNP型和NPN型两种类型。当前国内生产的锗管多为PNP型(3A

晶体三极管的结构特性与参数(精)

一、三极管的结构类型与工作原理 半导体三极管又称为晶体管、三极管、双极型晶体管、BJT 。它由2个背靠背的PN结组成,分为NPN型、PNP型。由制造的材料又分为硅三极管、锗三极管。 NPN型三极管:c:collector 集电极;b:base 基极;e:emitter 发射极 采用平面管制造工艺,在N+型底层上形成两个PN结。 工艺特点:三个区,二个结,引出三根电极杂质浓度(e区掺杂浓度最高,b区较高,c 区最低);面积大小( c区最大,e区大,b区窄)。 PNP型三极管:在P+型底层上形成两个PN结。

NPN管的工作原理:为使NPN管正常放大时的条件:射结正偏(VBE>0),集电结反偏(VCB>0)。 发射区向基区大量发射电子(多子),进入基区的电子成为基区的少子,其中小部分与基区的多子( 空穴)复合,形成IB电流,绝大部分继续向集电结扩散并达到集电结边缘。因集电结反偏,这些少子将非常容易漂移到集电区,形成集电集电流的一部分ICN。而基区和集电区本身的少子也要漂移到对方,形成反向饱和电流ICBO。 ,, 晶体管的四种工作状态: 1、发射结正偏,集电结反偏:放大工作状态用在模拟电子电路 2、发射结反偏,集电结反偏:截止工作状态 3、发射结正偏,集电结正偏:饱和工作状态用在开关电路中 4、发射结反偏,集电结正偏:倒置工作状态较少应用 三种基本组态:集电极不能作为输入端,基极不能作为输出端。

1、共基组态(CB) 输入:发射极端:基极公共(此处接地) 。输出:集电极。 VBE>0,发射结正偏,VCB>0(∵VCC>VBB),集电结反偏。所以三极管工作在放大状态。 发射极组态(CE): 共集电极组态(CC):

几种常见晶体结构分析.

几种常见晶体结构分析 河北省宣化县第一中学 栾春武 邮编 075131 栾春武:中学高级教师,张家口市中级职称评委会委员。河北省化学学会会员。市骨干教师、市优秀班主任、模范教师、优秀共产党员、劳动模范、县十佳班主任。 联系电话::: 一、氯化钠、氯化铯晶体——离子晶体 由于离子键无饱和性与方向性,所以离子晶体中无单个分子存在。阴阳离子在晶体中按一定的规则排列,使整个晶体不显电性且能量最低。离子的配位数分析如下: 离子数目的计算:在每一个结构单元(晶胞) 中,处于不同位置的微粒在该单元中所占的份额也有 所不同,一般的规律是:顶点上的微粒属于该单元中 所占的份额为18 ,棱上的微粒属于该单元中所占的份额为14,面上的微粒属于该单元中所占的份额为12 ,中心位置上(嚷里边)的微粒才完全属于该单元,即所占的份额为1。 1.氯化钠晶体中每个Na +周围有6个C l -,每个Cl -周围有6个Na +,与一个Na +距离最近且相等的 Cl -围成的空间构型为正八面体。每个N a +周围与其最近且距离相等的Na + 有12个。见图1。 晶胞中平均Cl -个数:8×18 + 6×12 = 4;晶胞中平均Na +个数:1 + 12×14 = 4 因此NaCl 的一个晶胞中含有4个NaCl (4个Na +和4个Cl -)。 2.氯化铯晶体中每个Cs +周围有8个Cl -,每个Cl -周围有8个Cs +,与 一个Cs +距离最近且相等的Cs +有6个。晶胞中平均Cs +个数:1;晶胞中平 均Cl -个数:8×18 = 1。 因此CsCl 的一个晶胞中含有1个CsCl (1个Cs +和1个Cl -)。 二、金刚石、二氧化硅——原子晶体 1.金刚石是一种正四面体的空间网状结构。每个C 原子以共价键与4 个C 原子紧邻,因而整个晶体中无单个分子存在。由共价键构成的最小 环结构中有6个碳原子,不在同一个平面上,每个C 原子被12个六元环 共用,每C —C 键共6个环,因此六元环中的平均C 原子数为6× 112 = 12 ,平均C —C 键数为6×16 = 1。 C 原子数: C —C 键键数 = 1:2; C 原子数: 六元环数 = 1:2。 2.二氧化硅晶体结构与金刚石相似,C 被Si 代替,C 与C 之间插氧,即为SiO 2晶体,则SiO 2晶体中最小环为12环(6个Si ,6个O ), 最小环的平均Si 原子个数:6×112 = 12;平均O 原子个数:6×16 = 1。 即Si : O = 1 : 2,用SiO 2表示。 在SiO 2晶体中每个Si 原子周围有4个氧原子,同时每个氧原子结合2个硅原子。一个Si 原子可形 图 1 图 2 NaCl 晶体 图3 CsCl 晶体 图4 金刚石晶体

三极管三种电路的特点

三极管三种电路的特点 1.共发射极电路特点 共射极电路又称反相放大电路,其特点为电压增益大,输出电压与输入电压反相,低频性能差,适用于低频、和多级放大电路的中间级 共发射极放大电路 共发射极的放大电路,如图2所示。 图2 共发射极放大电路 因具有电流与电压放大增益,所以广泛应用在放大器电路。其电路特性归纳如下: 输入与输出阻抗中等(Ri约1k~5k ;RO约50k)。 电流增益: 电压增益: 负号表示输出信号与输入信号反相(相位差180°)。 功率增益: 功率增益在三种接法中最大。 共发射极放大电路偏压

图4自给偏压方式 又称为基极偏压电路,最简单的偏压电路,稳定性差,容易受β值的变动影响,温度每升高10℃时,逆向饱和电流ICO增加一倍。温度每升高1℃时,基射电压VBE减少2.5mV ,β随温度升高而增加(影响最大) 。

图5带电流反馈的基极偏压方式 三极管发射极加上电流反馈电阻,特性有所改善,但还是不太稳定。 图6分压式偏置电路 此为标准低频信号放大原理图电路,其R1(下拉电阻)及R2为三极管偏压电阻,为三极管基极提供必要偏置电流,R3为负载电阻,R4为电流反馈电阻(改善特性),C3为旁路电容,C1及C3为三极管输入及输出隔直流电容(直流电受到阻碍),信号放大值则为R3/R4倍数.设计上注意: 三极管Ft值需高于信号放大值与工作频率相乘积,选择适当三极管集电极偏压、以避免大信号上下顶部失真,注意C1及C3的容量大小对低频信号(尤其是脉波)有影响.在R4并联一个C2,放大倍数就会变大。而在交流时C2将R4短路。 为什么要接入R1及R4? 因为三极管是一种对温度非常敏感的半导体器件,温度变化将导致集电极电流的明显改变。温度升高,集电极电流增大;温度降低,集电极电流减小。这将造成静态工作点的移动,有可能使输出信号产生失真。在实际电路中,要求流过R1和R2串联支路的电流远大于基极电流IB。这样温度变化引起的IB的变化,对基极电位就没有多大的影响了,就可以用R1和R2的分压来确定基极电位。采用分压偏置以后,基极电位提高,为了保证发射结压降正常,就要串入发射极电阻R4。 R4的串入有稳定工作点的作用。如果集电极电流随温度升高而增大,则发射极对地电位升高,因基极电位基本不变,故UBE减小。从输入特性曲线可知,UBE的减小基极电流将随之下降,根据三极管的电流控制原理,集电极电流将下降,反之亦然。这就在一定程度上稳定了工作点。分压偏置基本放大电路具有稳定工作点的作用,这个电路具有工作点稳定的特性。当流过R1和R2串联支路的电流远大于基极电流IB(一般大于十倍以上)时,可以用下列方法计算工作

常见典型晶体晶胞结构.doc

典型晶体晶胞结构1.原子晶体 (金刚石 ) 2.分子晶体

3.离子晶体 + Na - Cl

4.金属晶体 堆积模型简单立方钾型镁型铜型典型代表Po Na K Fe Mg Zn Ti Cu Ag Au 配位数 6 8 12 12 晶胞 5.混合型晶体——石墨 1.元素是Cu 的一种氯化物晶体的晶胞结构如图 13 所示,该氯化物的化学 式,它可与浓盐酸发生非氧化还原反应,生成配合物H n WCl 3,反应的化 学方程式为。 2.( 2011 山东高考)CaO 与NaCl 的晶胞同为面心立方结构,已知CaO 晶体密度为ag·cm-3,N A表示阿伏加德罗常数,则CaO 晶胞体积为cm3。 2.( 2011 新课标全国)六方氮化硼BN 在高温高压下,可以转化为立方氮化硼,其结构与金刚石相似,硬度与金刚 石相当,晶苞边长为361.5pm ,立方氮化硼晶胞中含有______各氮原子、 ________各硼原子,立方氮化硼的密度是_______g ·cm-3(只要求列算式,不必计算出数值,阿伏伽德罗常数为N A)。

解析:描述晶体结构的基本单元叫做晶胞,金刚石晶胞是立方体,其中8 个顶点有8 个碳原子, 6 个面各有 6 个碳 原子,立方体内部还有 4 个碳原子,如图所示。所以金刚石的一个晶胞中含有的碳原子数= 8×1/8+6 ×1/2+4=8 ,因此立方氮化硼晶胞中应该含有 4 个 N 和 4 个 B 原子。由于立方氮化硼的一个晶胞中含有 4 个 4 25g 是,立方体的体积是(361.5cm)3,因此立方氮化硼的密度是 N 和 4 个 B 原子,其质量是 1023 6.02 g·cm-3。 3.( 4)元素金( Au )处于周期表中的第六周期,与Cu 同族, Au 原子最外层电子排布式为______;一种铜合金晶体具有立方最密堆积的结构,在晶胞中Cu 原子处于面心, Au 原子处于顶点位置,则该合金中Cu 原子与 Au 原子数量之比为 _______;该晶体中,原子之间的作用力是________; ( 5)上述晶体具有储氢功能,氢原子可进入到由Cu 原子与 Au 原子构成的四面体空隙中。若将Cu原子与Au原子等同看待,该晶体储氢后的晶胞结构为CaF2的结构相似,该晶体储氢后的化学式应为_____。 4.( 2010 山东卷)铅、钡、氧形成的某化合物的晶胞结构是:Pb4+处于立方晶胞顶点,Ba2+处于晶胞中心, O2-处于晶胞棱边中心,该化合物化学式为,每个 Ba2+与个 O2-配位。 5.(4) CaC2晶体的晶胞结构与NaCl晶体的相似(如右图所示),但 CaC2晶体中含有的中哑 铃形 C 22 的存在,使晶胞沿一个方向拉长。CaC 2晶体中1个 Ca 2 周围距离最近的 C 22 数目 为。 6.( 09 江苏卷 21 A )③在 1 个 Cu2O 晶胞中(结构如图所示),所包含的Cu 原子数目 为。

晶体三极管的结构及封装

晶体三极管的结构及封装 晶体三极管是各种电子设备中的核心器件。其突出特点是在一定条件下具有电流放大作用,可用做电子开关,在电子电路中被广泛应用。 晶体三极管由两个PN结和三个电极构成,用途及功率不同,封装尺寸也不同。常用的有平面型小功率、中功率及大功率三极管。 小功率三极管的封装尺寸及实物图如下图(a)所示。 中功率三极管的封装尺寸及实物图如下图(b)所示。 大功率三极管的封装尺寸及实物图如下图(c)所示。 贴片式三极管的封装尺寸及实物图如下图(d)所示。 常用的合金型小功率、中功率、大功率三极管有以下几种: 小功率合金型三极管实物图如下图(e)所示。 中功率合金型三极管实物图如下图(f)所示。 大功率合金型三极管实物图如下图(g)所示。

常见的三极管结构有平面型和合金型两类,分别如图5-15(a)和(b)所示。硅管主要是平面型,锗管主要是合金型。 不同类型的三极管虽然制造方法不同,但在结构上都分成PNP或NPN三层。因此又将三极管分为NPN型和PNP型两种。国产硅三极管主要是NPN型,锗管主要是PNP型下图是它们的结构示意图和电路符号。晶体三极管在电路中的表示方法有:国内最早用BG表示,彩色电视机电路中用Q和V表示。目前的电子电路中用VT来表示。 各种三极管都分为发射区、基区和集电区等三个区域。三个区域的引出线分别称为发射极、基极和集电极,并分别用E,B和C表示。发射区与基区之间的PN结称为发射结,基区与集电区之间的P-N结称为集电结。 NPN型三极管和PNP型三极管的工作原理相同,不同的只是使用连接电源的极性不同,管子各极之间的电流方向也不同。下面以NPN晶体三极管为例进行介绍。

三极管特性曲线分析

目录 一、三极管特性曲线分析 (1) 1.1三极管结构 (1) 1.2 三极管输入特性曲线 (2) 1.3 三极管输出特性曲线 (2) 二、三极管应用举例 (3) 2.1 三极管在放大状态下的应用 (3) 2.2 三极管在开关状态下的应用 (3) 三、线性电路和非线性电路 (4) 3.1线性电路理论 (4) 3.2 非线性电路理论 (5) 3.3 线性电路的分析应用举例 (6) 3.4 非线性电路的分析应用举例 (7) 四、数字电路和模拟电路 (8) 4.1 数字电路 (8) 4.2 模拟电路 (8) 4.3数字电路和模拟电路区别与联系 (9) 五、总结与体会 (9) 六、参考文献 (10)

三极管输入输出曲线分析 ——谈线性电路与非线性电路 摘要:三极管是电路分析中非常重要的一个元器件。本文主要分析了三极管输入输出特性曲线,介绍了线性电路和非线性电路的理论在分析工具的不同之处。同时,线性电路和非线性电路在分析电路时各有着不同的用处。最后,介绍了数字电路及模拟电路区别与联系。 关键词:三极管;数字电子技术;模拟电子技术 一、三极管特性曲线分析 1.1三极管结构 双极结型三极管是由两个PN结背靠背构成。三极管按结构不同一般可分为PNP和NPN 两种。 图1-1 三极管示意图及符号 PNP型三极管和NPN型三极管具有几乎等同的电流放大特性,以下讨论主要介绍NPN 型三极管工作原理。NPN型三极管其两边各位一块N型半导体,中间为一块很薄的P型半导体。这三个区域分别为发射区、集电区和基区,从三极管的三个区各引出一个电极,相应的称为发射极(E)、集电极(C)和基极(B)。虽然发射区和集电区都是N型半导体,但是发射区的掺杂浓度比集电区的掺杂浓度要高得多。另外在几何尺寸上,集电区的面积比发射区的面积要大。由此可见,发射区和集电区是不对称的。 双极型三极管有三个电极:发射极(E)、集电极(C)、基极(B),其中两个可以作为输入,两个可以作为输出,这样就有一个电极是公共电极。三种接法就有三种组态:共发射极接法(CE)、共基极接法(CC)、共集电极接法(CB)。这里只以共射接法为例分析其输入

晶体管放大器结构原理图解

晶体管放大器结构原理图解 功率放大器的作用是将来自前置放大器的信号放大到足够能推动相应扬声器系统所需的功率。就其功率来说远比前置放大器简单,就其消耗的电功率来说远比前置放大器为大,因为功率放大器的本质就是将交流电能“转化”为音频信号,当然其中不可避免地会有能量损失,其中尤以甲类放大和电子管放大器为甚。 一、功率放大器的结构 功率放大器的方框图如图1-1所示。 1、差分对管输入级 输入级主要起缓冲作用。输入输入阻抗较高时,通常引入一定量的负反馈,增加整个功放电路的稳定性和降低噪声。 前置激励级的作用是控制其后的激励级和功劳输出级两推挽管的直流平衡,并提供足够的电压增益。 激励级则给功率输出级提供足够大的激励电流及稳定的静态偏压。激励级和功率输出级则向扬声器提供足够的激励电流,以保证扬声器正确放音。此外,功率输出级还向保护电路、指示电路提供控制信号和向输入级提供负反馈信号(有必要时)。 一、放大器的输入级功率放大器的输入级几乎一律都采用差分对管放大电路。由于它处理的信号很弱,由电压差分输入给出的是与输入端口处电压基本上无关的电流输出,加之他的直流失调量很小,固定电流不再必须通过反馈网络,所以其线性问题容易处理。事实上,它的线性远比单管输入级为好。图1-2示出了3 种最常用的差分对管输入级电路图。

图1-2种差分对管输入级电路 1、加有电流反射镜的输入级 在输入级电路中,输入对管的直流平衡是极其重要的。为了取得精确的平衡,在输入级中加上一个电流反射镜结构,如图1-3所示。它能够迫使对管两集电极电流近于相等,从而可以对二次谐波准确地加以抵消。此外,流经输入电阻与反馈电阻的两基极电流因不相等所造成的直流失调也变得更小了,三次谐波失真 也降为不加电流反射镜时的四分之一。 在平衡良好的输入级中,加上一个电流反射镜,至少可把总的开环增益提高6Db。而对于事先未能取得足够好平衡的输入级,加上电流反射镜后,则提高量最大可达15dB。另一个结果是,起转换速度在加电流反射镜后,大致提高了一倍。 2、改进输入级线性的方法 在输入级中,即使是差分对管采用了电流反射镜结构,也仍然有必要采取一定措施,以见效她的高频失真。下面简述几钟常用的方法。 1)、恒顶互导负反馈法 图1-4示出了标准输入级(a)和加有恒定互导(gm)负反馈输入级(b)的电路原理图。经计算,各管加入的负反馈电阻值为22Ω当输入电压级为-40dB条件下,经测试失真由0.32%减小到了0.032%。同时,在保持gm为恒定的情况下,电流增大两倍,并可提高转换速率(10~20)V/us。

典型的晶体结构

典型的晶体结构 1.铁 铁原子可形成两种体心立方晶胞晶体:910℃以下为α-Fe,高于1400℃时为δ-Fe。在这两种温度之间可形成γ-面心立方晶。这三种晶体相中,只有γ-Fe能溶解少许C。问:1.体心立方晶胞中的面的中心上的空隙是什么对称?如果外来粒子占用这个空隙,则外来粒子与宿主离子最大可能的半径比是多少? 2.在体心立方晶胞中,如果某空隙的坐标为(0,a/2,a/4),它的对称性如何?占据该空隙的外来粒子与宿主离子的最大半径比为多少? 3.假设在转化温度之下,这α-Fe和γ-F两种晶型的最相邻原子的距离是相等的,求γ铁与α铁在转化温度下的密度比。 4.为什么只有γ-Fe才能溶解少许的C? 在体心立方晶胞中,处于中心的原子与处于角上的原子是相接触的,角上的原子相互之间不接触。a=(4/3)r。 ①②③ 1.两个立方晶胞中心相距为a,也等于2r+2r h[如图①],这里r h是空隙“X”的半径,a =2r+2r h=(4/3)r r h/r=0.115(2分) 面对角线(2a)比体心之间的距离要长,因此该空隙形状是一个缩短的八面体,称扭曲八面体。(1分) 2.已知体心上的两个原子(A和B)以及连接两个晶体底面的两个角上原子[图②中C和D]。连接顶部原子的线的中心到连接底部原子的线的中心的距离为a/2;在顶部原子下面的底部原子构成晶胞的一半。空隙“h”位于连线的一半处,这也是由对称性所要求的。所以我们要考虑的直角三角形一个边长为a/2,另一边长为a/4[图③],所以斜边为16 /5a。(1分)r+r h=16 /5a=3/5r r h/r=0.291(2分) 3.密度比=42︰33=1.09(2分) 4.C原子体积较大,不能填充在体心立方的任何空隙中,但可能填充在面心立方结构的八面体空隙中(r h/r=0.414)。(2分) 2.四氧化三铁 科学研究表明,Fe3O4是由Fe2+、Fe3+、O2-通过离子键而组成的复杂离子晶体。O2-的重复排列方式如图b所示,该排列方式中存在着两种类型的由O2-围成的空隙,如1、3、6、7的O2-围成的空隙和3、6、7、8、9、12的O2-围成的空隙,前者为正四面体空隙,后者为正八面体空隙,Fe3O4中有一半的Fe3+填充在正四面体空隙中,另一半Fe3+和Fe2+填充在正八面体空隙中,则Fe3O4晶体中正四面体空隙数与O2-数之比为2:1,其中有12.5%正四面体空隙填有Fe3+,有50%正八面体空隙没有被填充。 Fe3O4中三价铁离子:亚铁离子:O原子=2:1:4 晶胞拥有8个正四面体空隙,4个O2-离子;所以2:1 一半三价铁离子放入正四面体空隙,即一个三价铁离子,所以为1/8=12.5%晶胞实际拥有4个正八面体空隙,其中已经有一个放Fe3+,另外一个Fe2+占据一个正八面体空隙,所以50%的正八面体空隙没有被填充。

晶体三极管的结构和类型

晶体三极管的结构和类型 晶体三极管,是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的核心元件。三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN 结,两个PN结把正块半导体分成三部分,中间部分是基区,两侧部分是发射区和集电区,排列方式有PNP和NPN两种, 从三个区引出相应的电极,分别为基极b发射极e和集电极c。 发射区和基区之间的PN结叫发射结,集电区和基区之间的PN结叫集电极。基区很薄,而发射区较厚,杂质浓度大,PNP型三极管发射区"发射"的是空穴,其移动方向与电流方向一致,故发射极箭头向里;NPN型三极管发射区"发射"的是自由电子,其移动方向与电流方向相反,故发射极箭头向外。发射极箭头向外。发射极箭头指向也是PN结在正向电压下的导通方向。硅晶体三极管和锗晶体三极管都有PNP型和NPN型两种类型。 三极管的封装形式和管脚识别 常用三极管的封装形式有金属封装和塑料封装两大类,引脚的排列方式具有一定的规律, 底视图位置放置,使三个引脚构成等腰三角形的顶点上,从左向右依次为e b c;对于中小功率塑料三极管按图使其平面朝向自己,三个引脚朝下放置,则从左到右依次为e b c。 目前,国内各种类型的晶体三极管有许多种,管脚的排列不尽相同,在使用中不确定管脚排列的三极管,必须进行测量确定各管脚正确的位置,或查找晶体管使用手册,明确三极管的特性及相应的技术参数和资料。 晶体三极管的电流放大作用 晶体三极管具有电流放大作用,其实质是三极管能以基极电流微小的变化量来控制集电极电流较大的变化量。这是三极管最基本的和最重要的特性。我们将ΔIc/ΔIb的比值称为晶体三极管的电流放大倍数,用符号“β”表示。电流放大倍数对于某一只三极管来说是一个定值,但随着三极管工作时基极电流的变化也会有一定的改变。

三极管特性曲线输出电路

一、概述 三极管输出特性曲线的X轴为V ce,要求V ce连续并呈线性变化,用三角波输入来实现这一要求。利用方波——三角波产生电路,方波通过积分可得到三角 波。同时方波作为触发产生基极电流的时钟信号,通过组合逻辑电路、时序逻辑 电路来实现。 三极管输出特性曲线的Y轴为i C,当i B很小时,i C近似等于i E,在发射极加入电阻将集电极电流转换为发射极电位,用V E代替i E。采用同相比例放大电路,通过CMOS模拟开关4066改变R F的值,改变放大器的增益,得到一组电压值,通过基极电阻和发射极电阻转化为基极电流。最后通过示波器显示。 二、方案设计与论证 三极管的输出特性曲线是指在基极电流i B一定的情况下,集电极电流i C与电压V ce之间所对应的关系曲线。每取一个i B,i C与u CE就对应一条关系曲线,因此,输出特性曲线是由若干条曲线构成的。 要显示一条输出特性曲线,就必须给基极提供一个固定不变的电流(可转换成电压),再给三极管的集电极和发射极之间提供一个连续可变的扫描电压(即示波器的X输入)。由于三极管的基极电流非常小,所以集电极电流可近似为发射极电流。而从发射极电阻得到的发射极电位与发射极电流的变化规律是相同的,因此再将发射极电位送至示波器的Y输入,三极管的一条输出特性曲线就会在示波器上显示出来。 最后,要显示一组输出特性曲线,就要在显示一条曲线的基础上,按照一定的时间间隔给三极管的基极提供增量相同的基极电流(即阶梯信号),而且基极电流与c,e之间的电压变化必须同步,另外,要想连续的显示输出特性曲线,基极电流与c,e之间的扫描电压就必须是周期相同且相位同步的信号。再有,周期的选取应考虑人视觉的暂留特性,确保输出特性曲线的显示但不闪烁。 三极管的输出特性曲线测试电路组成方框图如图1所示

三极管输出特性曲线测试

三极管输出特性曲线测试 1、实验目的 (1) 理解三极管输入特性曲线与输出特性曲线的物理意义。 (2) 使用逐点法测量出三极管的输入特性曲线与输出特性曲线。 2、实验原理 三极管外部各极电压和电流的关系曲线,称为三极管的特性曲线,又称伏安特性曲线。它不仅能反映三极管的质量与特性,还能用来定量地估算出三极管的某些参数,是分析和设计三极管电路的重要依据。 对于三极管的不同连接方式,有着不同的特性曲线。应用最广泛的是共发射极电路,可以采用传统的逐点法测量,其基本测试连线电路如图-1所示。 图-1 三极管输入、输出特性曲线测量连线图 (1)输入特性曲线 在三极管共射极连接的情况下,当集电极与发射极之间的电压ce U 维持固定值时,be U 和b I 之间的一簇关系曲线, 称为共射极输入特性曲线,如图-2所示。 图-2 三极管的输入特性曲线

三极管输出特性曲线是指以三极管的基极电流b I 维持固定值时,测量集电极、发射极之间电压ce U 与三极管集电极电流c I 的关系曲线。曲线如图-3所示。 图-3 三极管的输出特性曲线 3、实验步骤 图-4 逐点测量法电路 利用Multisim 软件进行逐点法测量三极管输入、输出特性曲线时的步骤如下: (1) 按原理图连线,将两个可调电位器的增量设为0.3%。

(2) 开启仿真开关simulate ,将电位器R3的百分比调为0%,此时U4显示0.900μV (按实际情况略有差异),即表示ce U ≈0;然后调节电位器R2,使得当电流表U1显示的b I 数值为下表对应各值的时候,测量对应的U3的be U 数值填入下表。 按上述步骤,开启仿真开关simulate ,适当调节电位器R3的,使得U4显示4V ,即表示ce U ≈4V ;然后调节电位器R2,使得当电流表U1显示的b I 数值为下表对应各值的时候,测量对应的U3的be U 数值填入下表。 (3) 开启仿真开关,调节电位器R2,使得当电流表U1显示的b I 数值为0μA ,然后将电位器R3的百分比调为0%,此时U4显示0.900μV ,即表示ce U ≈0,读出此时电流表U2显示的电流c I ,填入下表。依次调节R3的百分比,使U4显示下表规定电压值,读出对应 c I 值,填入下面表格。 按上述步骤,调节电位器R2,使得当电流表U1显示的b I 数值为40μA ,将数据依次填入下表。 注意:在调整电位器R3改变电压表U4数据时,对电流表U1的数据可能会产生一些小的影响;反之,在调整电位器R2改变电流表U1数据时,对电压表U4的数据可能会产生一些小的影响,需及时微调电位器R2或R3进行修正。

实验三三极管输入输出特性实验报告

HUNAN UNIVERSITY 课程实习报告 题目:基于PSpice软件的二极管特性仿真学生姓名 学生学号 专业班级 指导老师 完成日期

实验三 三极管输入输出特性 一、实验目的 1. 掌握不同连接时的三极管的伏安特性曲线 2. 掌握利用PSpice A/D 仿真功能中提供直流扫描分析(DC Sweep )以及参数分析 (Parametric Analysis) 二、实验内容 1. 仿真共射极连接时的输入、输出特性曲线(三极管Q2N2222) Q1 Q2N2222 000 PARAMETERS: V3 AC =TRAN = DC = {VCE}V4 AC =TRAN = DC = 5v I 实验结果截屏: Q1 Q2N2222 V1 AC =TRAN = DC = 15v I1{IB} 0PARAMETERS: I 实验结果截屏:

2. 仿真共基极连接时的输出特性曲线 V1 AC =TRAN = DC = 10v I1 AC =TRAN = DC = {IE}Q1 Q2N2222 00 PARAMETERS: I 实验结果截屏: 三、实验心得 1> 电路图中的参数用花括号括起,如下图中的{VCE}等 2> 图中的PARAMETERS: place →part →add library 后,添加special.olb 3> 双击PARAMETERS: 出现property editor ,选择New column, name 中写入相应的参数名,例如下图中的VCE ,初始值VCE=0V ,IB=10uA , IE=1mA 4> 仿真过程,需要先进行DC Sweep 设定,然后options 中选择parametric sweep, 在sweep varaible 栏中选择GLOBAL PARAMETER ,在parameter name 中将相应的参数名写入。在sweep type 栏中分别写入参数的变化,包括该参数的初始值、终值以及增量值。 5> 在设置数值时需要写好单位,否则可能得不到预期的结果。 6> GLOBAL PARAMETER 栏parameter name 中设置的是常量,Primary Sweep 栏V oltage source 中设置的是变量。

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